公开(公告)号：KR20210008151A

公开(公告)日：2021-01-20

申请号：KR20217000995

申请日：2016-10-12

申请人： INPRIA CORP

发明人： MEYERS STEPHEN T ,  ANDERSON JEREMY T ,  CARDINEAU BRIAN J ,  EDSON JOSEPH B ,  JIANG KAI ,  KESZLER DOUGLAS A ,  TELECKY ALAN J

IPC分类号： G03F7/16 ,  G03F1/22 ,  G03F7/00 ,  G03F7/031

摘要： 금속옥사이드하이드록사이드화학을기초로한 고해상도리소그래피(lithography) 패터닝코팅형성을위한유기금속전구체가기재되어있다. 상기전구체조성물은일반적으로온화한조건하에수증기또는다른 OH 공급원조성물에의해쉽게가수분해될수 있는리간드를포함한다. 상기유기금속전구체는일반적으로비교적낮은방사선선량(radiation dose)에서고해상도패터닝에효과적일수 있고 EUV 패터닝에특히유용한코팅을제공할수 있는, 주석과의방사선민감성유기리간드를포함한다. 상기전구체조성물은상업적으로적합한조건하에서쉽게처리할수 있다. 현장(in situ) 가수분해또는증기기반증착(deposition)을이용한용액상(solution phase) 처리로상기코팅을형성할수 있다.

公开(公告)号：KR20180054917A

公开(公告)日：2018-05-24

申请号：KR20187013486

申请日：2016-10-12

申请人： INPRIA CORP

发明人： MEYERS STEPHEN T ,  ANDERSON JEREMY T ,  CARDINEAU BRIAN J ,  EDSON JOSEPH B ,  JIANG KAI ,  KESZLER DOUGLAS A ,  TELECKY ALAN J

IPC分类号： G03F7/16 ,  G03F1/22 ,  G03F7/00 ,  G03F7/031

CPC分类号： G03F7/0042 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40

摘要： 금속옥사이드하이드록사이드화학을기초로한 고해상도리소그래피(lithography) 패터닝코팅형성을위한유기금속전구체가기재되어있다. 상기전구체조성물은일반적으로온화한조건하에수증기또는다른 OH 공급원조성물에의해쉽게가수분해될수 있는리간드를포함한다. 상기유기금속전구체는일반적으로비교적낮은방사선선량(radiation dose)에서고해상도패터닝에효과적일수 있고 EUV 패터닝에특히유용한코팅을제공할수 있는, 주석과의방사선민감성유기리간드를포함한다. 상기전구체조성물은상업적으로적합한조건하에서쉽게처리할수 있다. 현장(in situ) 가수분해또는증기기반증착(deposition)을이용한용액상(solution phase) 처리로상기코팅을형성할수 있다.