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    유기주석 옥사이드 하이드록사이드 패터닝 조성물, 전구체 및 패터닝
    1.
    发明公开
    유기주석 옥사이드 하이드록사이드 패터닝 조성물, 전구체 및 패터닝 审中-公开

    公开(公告)号：KR20210008151A

    公开(公告)日：2021-01-20

    申请号：KR20217000995

    申请日：2016-10-12

    申请人： INPRIA CORP

    发明人： MEYERS STEPHEN T ,  ANDERSON JEREMY T ,  CARDINEAU BRIAN J ,  EDSON JOSEPH B ,  JIANG KAI ,  KESZLER DOUGLAS A ,  TELECKY ALAN J

    IPC分类号： G03F7/16 ,  G03F1/22 ,  G03F7/00 ,  G03F7/031

    摘要： 금속옥사이드하이드록사이드화학을기초로한 고해상도리소그래피(lithography) 패터닝코팅형성을위한유기금속전구체가기재되어있다. 상기전구체조성물은일반적으로온화한조건하에수증기또는다른 OH 공급원조성물에의해쉽게가수분해될수 있는리간드를포함한다. 상기유기금속전구체는일반적으로비교적낮은방사선선량(radiation dose)에서고해상도패터닝에효과적일수 있고 EUV 패터닝에특히유용한코팅을제공할수 있는, 주석과의방사선민감성유기리간드를포함한다. 상기전구체조성물은상업적으로적합한조건하에서쉽게처리할수 있다. 현장(in situ) 가수분해또는증기기반증착(deposition)을이용한용액상(solution phase) 처리로상기코팅을형성할수 있다.

    유기금속 용액 기반의 고해상도 패터닝 조성물
    3.
    发明公开
    유기금속 용액 기반의 고해상도 패터닝 조성물 审中-公开

    公开(公告)号：KR20200143524A

    公开(公告)日：2020-12-23

    申请号：KR20207036336

    申请日：2014-07-25

    申请人： INPRIA CORP

    发明人： MEYERS STEPHEN T ,  KESZLER DOUGLAS A ,  JIANG KAI ,  ANDERSON JEREMY ,  GRENVILLE ANDREW

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F1/48 ,  G03F1/56 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  H01L21/56

    摘要： 유기금속용액은박막코팅을사용하는높은해상도방사선기반의패터닝을제공하는것으로밝혀졌다. 상기패터닝은선택된패턴을가지는코팅된표면의조사및 현상된이미지를형성하기위한현상제를사용한패턴의현상을포함할수 있다. 상기패터닝가능한코팅(patternable coating)은유기현상제또는수성산 또는염기현상제에의한포지티브-톤패터닝또는네가티브-톤패터닝에민감할수 있다. 상기방사선민감성코팅은유기리간드및 금속옥소/히드록소네트워크를포함할수 있다. 전구체용액은유기액체, 및금속탄소결합및/또는금속카르복실레이트결합을가지는유기리간드를가지는금속다핵옥소-히드록소양이온을포함할수 있다.