公开(公告)号：KR20180057697A

公开(公告)日：2018-05-30

申请号：KR20187011495

申请日：2016-09-20

Applicant: SUSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO KG

Inventor： DATILO DAVIDE ,  DIETZE UWE ,  SINGH SHERJANG

IPC: G03F7/20 ,  B05B1/00 ,  B05D3/00 ,  B08B3/10 ,  B08B7/00 ,  G03F1/82 ,  G03F7/42 ,  H01L21/67

CPC classification number: B05D3/002 ,  B05B1/00 ,  B05D2203/30 ,  B08B3/10 ,  B08B7/0057 ,  C11D11/0047 ,  G03F1/82 ,  G03F7/42 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67115

Abstract: 기판들을처리하기위한방법들이설명된다. 본방법들은유동채널및 적어도하나의출구슬릿을통해처리될기판상으로수성액체매체를유동시키는단계, 및상기수성액체매체를상기적어도하나의출구슬릿에바로인접한유동채널의적어도일부분에서, 그리고상기수성액체매체가상기기판을향해상기출구개구를통해유동된후에, 그리고상기수성액체매체를상기처리될기판의표면에도포하기이전에그리고도포하는동안특정파장의 UV 방사로노출시키는단계를포함한다. 일방법에서, 수성액체매체의전기전도도는상기수성액체매체로의첨가제의첨가에의해, 20 내지 2000 ㎲의범위로조절되며, 상기첨가제의첨가이전의수성액체매체는상기 UV 방사에상기매체를노출시키기전에또는노출시키면서 20 ㎲미만의전기전도도를갖는다. 게다가, 수성액체매체의 pH는매체를 UV 방사에노출시키기전에또는노출시키는동안 8 내지 11 또는 3 내지 6의범위로조절될수 있다. 조절들은바람직한종들을향한 UV- 방사에의해수성액체매체에서생성된반응종들의평형에서의전환을유도할수 있다.

公开(公告)号：KR1020170113282A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170038514

申请日：2017-03-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 브라운이안제이.

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  H01L21/205 ,  H01L21/324 ,  H01L21/3065 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/0206 ,  B08B7/0057 ,  G03F7/42 ,  G03F7/423 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/3115 ,  H01L21/324

Abstract: 기판을처리하기위한방법은, 기판의표면상에불소화폴리머잔류물을갖는기판을수용하는단계를포함한다. 불소화폴리머잔류물이처리되어전자기(EM) 방사선노출에대해증가된민감도를갖는처리된불소화폴리머잔류물을제공한다. 처리된불소화폴리머잔류물이산소함유환경에서 EM 방사선으로처리되어기판으로부터불소화폴리머잔류물을제거하기위한세정공정을용이하게한다.

Abstract translation: 用于处理基板的方法包括在基板的表面上接收具有氟化聚合物残余物的基板。 处理氟化聚合物残余物以提供对电磁（EM）辐射曝光具有增加的敏感度的经处理的氟化聚合物残余物。 用含氧环境中的EM辐射处理经处理的氟化聚合物残余物以促进清洁过程以从基材去除氟化聚合物残余物。

公开(公告)号：KR1020170095946A

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：KR1020177019182

申请日：2015-12-04

Applicant: 코닌클리케 필립스 엔.브이.

Inventor： 솔터스,바트안드레 ,  히트브링크,롤랑부데베인

IPC: F28F19/04 ,  B08B7/00 ,  B08B9/023 ,  B08B17/02 ,  F28D1/02 ,  F28D1/047 ,  F01P3/20

CPC classification number: F28F19/00 ,  B08B7/0057 ,  B08B9/023 ,  B08B17/02 ,  B63J2/12 ,  F01P3/207 ,  F01P2011/063 ,  F28D1/022 ,  F28D1/0475 ,  F28D2021/0092 ,  F28F1/325 ,  F28F19/04 ,  F28F2265/20 ,  F01P2050/06 ,  F28F2265/18

Abstract: 그내부에서유체를수용하고운반하기위한적어도하나의튜브(8)를포함하는, 지표수로유체를냉각하기위한냉각장치(1)가개시되며, 튜브(8)의외부는작동시에튜브(8)를냉각하도록, 이에의해유체를냉각하도록지표수에서적어도부분적으로침지된다. 냉각장치(1)는침지된외부상의부착을방해하는광을생성하기위하여적어도하나의광원(9)을추가로포함하며, 광원(9)은튜브의외부위에오손방지광을방사하도록튜브(8)에대해치수화되고위치된다. 이러한구조에의해, 냉각장치(1)는대안적이고효과적인방식으로보장될수 있다.

Abstract translation: 至少一个管（8），冷却装置（1），并且当gagae，同时管8吹令人惊讶小管（8），用于将冷却流体到包含用于接收在内部输送的流体的表面水 由此至少部分浸入地表水中以冷却流体。 冷却装置（1）的管（8，至少一个还包括：光源9，光源9发光的结垢防止在管的外部的光，以产生具有对浸入外部光附件的干扰 ）。 利用该结构，可以以替代和有效的方式确保冷却装置1。

公开(公告)号：KR1020160088283A

公开(公告)日：2016-07-25

申请号：KR1020167006804

申请日：2014-11-19

Applicant: 노무라마이크로사이엔스가부시키가이샤

Inventor： 지자이마루다카유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B08B3/10 ,  B08B7/00 ,  C11D3/04 ,  C11D11/00 ,  G02F1/13

CPC classification number: B08B3/10 ,  B08B7/0057 ,  C11D3/046 ,  C11D11/0047 ,  G02F2001/1316 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/0231

Abstract: 실시형태의자외선투과성기판의세정장치는, 기판의세정면에오존수를공급하는오존수공급부와, 상기기판의세정면에오존수가공급된상태에서상기기판의세정면과반대측의면에 250~260㎚의파장을포함하는자외선을조사하는자외선조사부를구비한다.

公开(公告)号：KR1020160022943A

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：KR1020167003668

申请日：2014-09-09

Applicant: 우시오덴키 가부시키가이샤

Inventor： 하부도모유키

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: B08B7/0057 ,  G03F7/42 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6719

Abstract: 본발명은, 피처리물을높은처리효율로균일하게처리할수 있는광조사장치를제공하는것을목적으로하는것이다. 본발명의광조사장치는, 피처리물을배치하는피처리물지지대와, 피처리물의피처리면에대해진공자외선을조사하는자외선램프와, 피처리물과자외선램프의사이에배치된, 자외선램프로부터의진공자외선을투과하는광투과창부재를구비하고, 피처리물의피처리면과광투과창부재의사이에형성되는간극의거리가 1mm 이하로되어있고, 상기간극에, 상기피처리면을따르도록한방향을향해처리가스를공급하는가스공급수단이설치되어있으며, 상기피처리물지지대에있어서의, 상기처리가스의공급방향으로신장하여, 피처리물이위치하지않는영역에, 차풍부재가설치되어있는것을특징으로한다.

Abstract translation: 光照射装置包括工件（待处理物体）放置在其上的工件支架，用于向工件的目标表面（待处理表面）发射真空紫外线的紫外线灯和透光窗构件 设置在工件和紫外线灯之间，并被配置成使来自紫外灯的真空紫外线通过。 在工件的目标表面和透光窗构件之间限定的间隙不大于1mm。 提供气体供应单元，用于将处理气体供应到间隙中，使得气体沿着一个方向沿目标表面行进。 在不存在工件的区域中，在工件支撑件上设置气体阻挡构件。 该区域沿着处理气体的供给方向延伸。

公开(公告)号：KR1020150129828A

公开(公告)日：2015-11-20

申请号：KR1020157028835

申请日：2014-01-31

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 찬,켈빈 ,  데모스,알렉산드로스,티.

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: B08B7/0057 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02074

Abstract: 하나이상의구리피쳐들을지닌기판으로부터구리옥사이드들을제거하는방법이본원에기술된다. 이방법은하나이상의구리및 유전체함유구조물들을포함하는기판을공정챔버에정위시키고; 암모니아를포함하는세정가스를공정챔버에전달하고; 구리및 유전체함유구조물을세정가스및 자외선 (UV) 방사선에동시에노출시키는것을포함할수 있다.

公开(公告)号：KR101326555B1

公开(公告)日：2013-11-08

申请号：KR1020127028429

申请日：2011-10-07

Applicant: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤

Inventor： 야마다노리코 ,  아마노아키코

IPC: B29C33/72 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B08B7/0057 ,  B08B3/10 ,  B08B7/0035 ,  B08B7/0042 ,  B29C33/72 ,  B29C2033/725 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 실록산 결합에 의해 기재와 결합한 이형층을 구비하는 임프린트용 몰드로부터 이형층을 제거하는 세정 방법을 제1 세정 공정과 제2 세정 공정을 가지는 것으로 하고, 제1 세정 공정은 이형층 표면의 물에 대한 접촉각을 저하시키는 것으로 하고, 제2 세정 공정은 제1 세정 공정을 거친 이형층에 알칼리 세정제를 접촉시키는 것으로 했다.

Abstract translation: 由具有基材和组合第一洗涤步骤的用于剥离层表面的水的清洗方法和用于通过硅氧烷键具有剥离层除去从所述压印模具的脱模层的第二清洗步骤，并且所述第一清洁工艺 作为降低接触角，以及第二清洗步骤，必须使其与在经过第一洗涤步骤的释放层的碱性清洗剂的接触。

公开(公告)号：KR1020130014055A

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：KR1020127028429

申请日：2011-10-07

Applicant: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤

Inventor： 야마다노리코 ,  아마노아키코

IPC: B29C33/72 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B08B7/0057 ,  B08B3/10 ,  B08B7/0035 ,  B08B7/0042 ,  B29C33/72 ,  B29C2033/725 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0274

Abstract: The cleaning process of cleaning an imprinting mold including a release layer coupled via siloxane bonds to a substrate of that release layer includes a first cleaning step and a second cleaning step. In the first cleaning step, the angle of contact of the surface of the release layer with water is made small, and in the second cleaning step, the alkali cleaning agent is brought in contact with the release layer that has gone through the first cleaning step.

公开(公告)号：KR1020110025227A

公开(公告)日：2011-03-09

申请号：KR1020117002159

申请日：2009-06-04

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 이,상,인 ,  챈,켈빈 ,  노왁,토마스 ,  데모스,알렉산드로스,티.

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67115 ,  C23C16/4405 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/02 ,  B08B5/00 ,  B08B7/0057 ,  H01L21/67098

Abstract: 기판 처리 챔버를 세정하기 위한 방법은 하나 이상의 처리 영역들을 한정하는 처리 챔버 내에서 한 묶음의 기판들을 처리하는 단계를 포함한다. 한 묶음의 기판들을 처리하는 단계는 처리 챔버 내에서 상기 묶음으로부터 하나의 기판을 처리하는 단계, 상기 처리 챔버로부터 상기 기판을 제거하는 단계, 상기 처리 챔버 내에 오존을 유입하는 단계, 및 상기 챔버를 1분 미만 동안 자외선 광에 노출하는 단계를 포함하는 다양한 서브-단계들을 갖는 서브-루틴에서 실행될 수 있다. 기판 묶음 처리 서브-단계들은 상기 묶음 내의 마지막 기판이 처리될 때까지 반복될 수 있다. 상기 묶음 내의 마지막 기판을 처리한 후에, 방법은 상기 처리 챔버로부터 마지막 기판을 제거하는 단계, 처리 챔버 내에 오존을 유입하는 단계, 및 처리 챔버를 3분 내지 15분 동안 자외선 광에 노출하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR100935401B1

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：KR1020030013988

申请日：2003-03-06

Applicant: 엘지디스플레이 주식회사

Inventor： 박도훈

IPC: G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67115 ,  B08B7/0057 ,  C03C23/0075 ,  H01L21/67028

Abstract: 본 발명은 자외선을 사용하여 기판을 세정하는 기판세정장치로서, 자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와; 상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과; 상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치 및 이를 이용한 기판세정방법을 제공한다.