公开(公告)号：KR101897318B1

公开(公告)日：2018-09-11

申请号：KR1020147026990

申请日：2013-03-26

申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스

发明人： 미우라아츠야스

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC分类号： B08B3/10 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

摘要： 기판처리장치는, 기판을수평으로유지하는기판유지수단과, 기판을통과하는연직의회전축선둘레로상기기판유지수단에유지되어있는기판을회전시키는기판회전수단과, 처리액을상기기판을향해서토출하는토출부재와, 상기토출부재보다도고온의처리액을상기유로에공급하는고온처리액배관을포함한다. 상기토출부재는, 상기회전축선으로부터의거리가상이한복수의위치에각각배치된복수의토출구와, 외측으로부터내측의순서로상기복수의토출구에순차적으로접속된유로를포함한다. 상기토출부재는, 상기유로로부터상기복수의토출구에공급된처리액을상기복수의토출구로부터상기기판을향해서토출한다.

公开(公告)号：KR1020180074628A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：KR1020180068787

申请日：2018-06-15

申请人： 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

发明人： 미야자키구니히로 ,  미나미겐지 ,  나가시마유지 ,  하야시고노스케

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/6708 ,  G03F7/423 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02557 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715 ,  H01L2924/01016

摘要： 본발명은처리성능의향상및 처리액사용량의저감을실현할수 있는기판처리장치및 기판처리방법을제공하는것을목적으로한다. 실시형태에따른기판처리장치(1)는, 과산화수소수의비점이상의제1 온도의황산용액을기판(W)에공급하는제1 액공급부(3a)와, 황산용액및 과산화수소수의혼합액으로서제1 온도보다낮은제2 온도의혼합액을기판(W)의처리대상면(Wa)에공급하는제2 액공급부(3b)와, 기판(W)의온도를과산화수소수의비점이상으로하도록제1 액공급부(3a)가제1 온도의황산용액을공급하게하고, 기판(W)의온도가제2 온도이상이된 경우, 제1 액공급부(3a)가제1 온도의황산용액의공급을정지하게하고, 제2 액공급부(3b)가제2 온도의혼합액을공급하게하는제어부(5)를구비한다.

公开(公告)号：KR101868023B1

公开(公告)日：2018-06-18

申请号：KR1020137014594

申请日：2011-11-07

申请人： 후마일랴 – 코메르시우 인테르나시오날 에 세르비쿠스 엘리데아 & 코만디타

发明人： 보네트,한스 ,  틸,클라우스-페터

IPC分类号： G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/02104 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/02 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3092 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

摘要： 본발명은구조기판제조용자치에관한것이다. 상기장치는회전기판에액체물질(2), 특히감광성수지용액을도포하기위한기기, 하우징(6), 코팅된상기기판을위한회전홀더(3), 도포되는액체물질을위한피더(feeder)(13) 및기판에남아있지않은액체물질을위한다중제거장치들(5)을함유하는포집기기(4)를포함하는층 시스템(1) 적용을위한기기를포함한다. 액체물질(2)을도포하기위한상기기기의하우징(6)은불활성기체, 특히건조된분자질소, 희가스또는이들의혼합물로충전된다. 상기구조기판제조용장치의부가저장소및 도관(conduit)들은기밀하며, 불활성분자질소또는희가스분위기가그것들의액체내용물보다많이만들어지도록설계된다. 상기포집기기(4)는여러포집영역(9)을가지며, 상기포집영역(9)에서상이한액체물질들은선별적으로포집되고, 관련제거장치(5)를지나선별적으로제거된다. 상기구조기판제조용장치의설계는제조공정의질을향상시키고, 제조공정의비용을상당히낮추도록하는데, 이는제조공정을위한감광성수지및 기타요구되는액체물질의양이대폭감소될수 있기때문이다.

公开(公告)号：KR101867668B1

公开(公告)日：2018-06-15

申请号：KR1020160064858

申请日：2016-05-26

申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스

发明人： 이와오미치노리 ,  무라모토료

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/67051

摘要： 기판처리장치에서는, 복수의척 및복수의걸어맞춤부는, 베이스지지부보다직경방향외방으로확대되는유지베이스부의상면에배치되고, 복수의걸어맞춤부는복수의척보다직경방향외측에위치한다. 대략원환상의하부돌출부는, 유지베이스부보다하방에있어서베이스지지부로부터직경방향외방으로확대된다. 컵부에서는, 가드이동기구가제 1 가드를수액위치와대피위치사이에서상하방향으로이동시킴으로써, 기판으로부터의처리액을받는가드를제 1 가드와제 2 가드사이에서전환한다. 하부돌출부는, 제 1 가드가대피위치에위치하는상태에서는, 제 1 가드천개부의내주가장자리를향한다. 이로써, 제 1 가드와제 2 가드사이의가스의흐름을억제할수 있다.

公开(公告)号：KR20180057697A

公开(公告)日：2018-05-30

申请号：KR20187011495

申请日：2016-09-20

申请人： SUSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO KG

发明人： DATILO DAVIDE ,  DIETZE UWE ,  SINGH SHERJANG

IPC分类号： G03F7/20 ,  B05B1/00 ,  B05D3/00 ,  B08B3/10 ,  B08B7/00 ,  G03F1/82 ,  G03F7/42 ,  H01L21/67

CPC分类号： B05D3/002 ,  B05B1/00 ,  B05D2203/30 ,  B08B3/10 ,  B08B7/0057 ,  C11D11/0047 ,  G03F1/82 ,  G03F7/42 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67115

摘要： 기판들을처리하기위한방법들이설명된다. 본방법들은유동채널및 적어도하나의출구슬릿을통해처리될기판상으로수성액체매체를유동시키는단계, 및상기수성액체매체를상기적어도하나의출구슬릿에바로인접한유동채널의적어도일부분에서, 그리고상기수성액체매체가상기기판을향해상기출구개구를통해유동된후에, 그리고상기수성액체매체를상기처리될기판의표면에도포하기이전에그리고도포하는동안특정파장의 UV 방사로노출시키는단계를포함한다. 일방법에서, 수성액체매체의전기전도도는상기수성액체매체로의첨가제의첨가에의해, 20 내지 2000 ㎲의범위로조절되며, 상기첨가제의첨가이전의수성액체매체는상기 UV 방사에상기매체를노출시키기전에또는노출시키면서 20 ㎲미만의전기전도도를갖는다. 게다가, 수성액체매체의 pH는매체를 UV 방사에노출시키기전에또는노출시키는동안 8 내지 11 또는 3 내지 6의범위로조절될수 있다. 조절들은바람직한종들을향한 UV- 방사에의해수성액체매체에서생성된반응종들의평형에서의전환을유도할수 있다.

公开(公告)号：KR101838373B1

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：KR1020160021058

申请日：2016-02-23

申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스

发明人： 사와시마준 ,  하타노아키토 ,  고바야시겐지 ,  니시무라유타 ,  시마이모토유키 ,  하야시도요히데

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/324

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051

摘要： 공급유로는, 복수의상류유로로분기되어있다. 복수의토출구는, 회전축선으로부터의거리가상이한복수의위치에각각배치되어있다. 리턴유로는, 상류유로에접속되어있다. 하류히터는, 상류유로를흐르는액체를가열한다. 하류전환유닛은, 공급유로로부터복수의상류유로에공급된액체를복수의토출구및 리턴유로의일방에선택적으로공급한다.

公开(公告)号：KR101837226B1

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：KR1020137015044

申请日：2011-12-06

申请人： 티이엘 에프에스아이, 인코포레이티드

发明人： 랏코비히안토니에스 ,  버터보프제프리더블류 ,  베커데이빗에스

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： H01L21/31111 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

摘要： 본발명은, 표면에질화규소를갖는기판을제공하는단계; 및약 150℃초과의온도에서혼합산액체스트림으로서인산과황산을상기기판의표면에분배하는단계를포함하는, 기판으로부터질화규소를선택적으로제거하는방법을제공한다. 이방법에서는, 상기혼합산액체스트림의액체용액이노즐을통과할때 또는그 후에, 이혼합산액체스트림의액체용액에물이첨가된다.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于制造半导体器件的方法，包括：提供在其表面上具有氮化硅的衬底; 并且将磷酸和硫酸作为混合酸液流在高于约150℃的温度下分配到基材表面。 在该方法中，当混合酸液流的液体溶液通过喷嘴或之后，将水添加到分液液流的液体溶液中。

公开(公告)号：KR20180022575A

公开(公告)日：2018-03-06

申请号：KR20170103071

申请日：2017-08-14

申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD

发明人： KASHIYAMA MASAHITO

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67023 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  F04B9/02 ,  F04B13/00 ,  F04B23/06 ,  F04B43/02 ,  F04B43/025 ,  F04B43/04 ,  F04B53/14 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253

摘要： 구동기구는 2개의다이어프램을변형시켜, 공급실의용적의증가및 감소를교대로행한다. 이때, 단일한공급실에대해 2개의다이어프램이설치되어있다. 이에따라, 각다이어프램의변형량이한정되어있어도, 원하는체적량의액체를흡인하여송출할수 있다. 또 2개의다이어프램이설치되어있으므로, 원하는체적량의액체를흡인하여송출할때에, 각다이어프램의변형량이억제된다. 이에따라, 짧은스트로크의다이어프램을선택할수 있으므로, 액체의체류를억제하여액체의품질열화를억제할수 있다.

摘要翻译： 驱动机构使两个隔膜变形以执行供应腔体的交替增大和减小的体积。 此时，两个隔膜被提供用于单个供应室。 这导致即使在膜片受到有限变形的情况下也可能吸入并送出所需量的液体。 另外，这两个隔膜在吸入时实现其变形抑制，并且输出所需量的液体。 这允许选择每个短行程的隔膜，从而抑制液体停滞和质量降低。

公开(公告)号：KR101831545B1

公开(公告)日：2018-02-22

申请号：KR1020167021699

申请日：2015-02-23

申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스

发明人： 요시다다케시

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67017 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

摘要： 기판처리장치 (1) 는, 상부개구 (222) 를갖는챔버본체 (22) 와, 하부개구 (232) 를갖는챔버덮개부 (23) 와, 챔버덮개부 (23) 의덮개내부공간 (231) 에배치되는차폐판 (51) 을구비한다. 차폐판 (51) 의직경방향의크기는, 하부개구 (232) 의직경방향의크기보다크다. 챔버본체 (22) 의상부개구 (222) 가챔버덮개부 (23) 에의해덮임으로써, 기판 (9) 이내부에수용되는챔버 (21) 가형성된다. 기판처리장치 (1) 에서는, 기판 (9) 이반입되어챔버 (21) 가형성되기보다전에, 차폐판 (51) 이하부개구 (232) 에중첩된상태에서, 가스공급부 (812) 로부터공급되는가스가챔버덮개부 (23) 의덮개내부공간 (231) 에충전된다. 이로써, 챔버 (21) 의형성후, 챔버 (21) 내에신속하게가스를충만시켜, 원하는저산소분위기로할 수있다.

公开(公告)号：KR20180016280A

公开(公告)日：2018-02-14

申请号：KR20170096734

申请日：2017-07-31

IPC分类号： H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/6838 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

摘要： 웨이퍼형상물품들을프로세싱하는장치는회전척을포함하고, 회전척은웨이퍼형상물품이회전척 상에장착될때 웨이퍼형상물품을둘러싸는일련의콘택트엘리먼트들을갖는다. 비회전 (non-rotating) 플레이트가일련의콘택트엘리먼트들의내부에위치된다. 이플레이트는 Bernoulli 원리에따라비회전플레이트와콘택트하지않고웨이퍼형상물품을지지하기위해가스를공급하도록구성된가스공급부를포함한다.

摘要翻译： 一种用于处理晶片形物品的设备包括旋转卡盘，当安装在旋转卡盘上时，该旋转卡盘具有围绕晶片形物品的一系列接触元件。 非旋转板位于一系列接触元件的内部。 根据伯努利原理，板包括构造成供应气体以便支撑晶片状物品而不接触非旋转板的气体供应源。