公开(公告)号：KR1020140089165A

公开(公告)日：2014-07-14

申请号：KR1020130001055

申请日：2013-01-04

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 이주혁 ,  한중진 ,  전병규 ,  우동현

IPC分类号： C07C17/12 ,  C07C25/00

CPC分类号： C07C17/12 ,  C07C25/00

摘要： According to the present invention, an aromatic iodide compound is prepared by using an aromatic compound; and iodine or an iodine compound as raw materials, passing a zeolite catalyst layer in a gas phase, and additionally inserting iodine or an iodine compound in the middle of the zeolite catalyst layer. Thus, the productivity of a diiodine compound and the selectivity of a para diiodine compound can be increased, and unreacted iodine and aromatic material can be minimized.

摘要翻译： 根据本发明，通过使用芳族化合物制备芳族碘化合物; 以碘或碘化合物为原料，使气相中的沸石催化剂层通过，另外在沸石催化剂层的中央附加碘或碘化合物。 因此，可以增加二碘化合物的生产率和对二碘化合物的选择性，并且可以使未反应的碘和芳族物质最小化。

公开(公告)号：KR1019960004874B1

公开(公告)日：1996-04-16

申请号：KR1019890700593

申请日：1988-08-03

申请人： 이스트만 케미칼 컴파니

发明人： 터스틴제랄드챨스 ,  스미스카일클라렌스 ,  룰마크

IPC分类号： C07C25/22

CPC分类号： C07B39/00 ,  C07C17/156 ,  C07C25/00

摘要： 내용 없음.

公开(公告)号：KR101920112B1

公开(公告)日：2018-11-19

申请号：KR1020150155219

申请日：2015-11-05

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 후쿠시마마사히로 ,  오하시마사키 ,  하타케야마준

IPC分类号： C07C211/64 ,  C07C211/63 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C25/00 ,  C07C25/02 ,  C07C69/76 ,  C07C69/78 ,  C07C381/12 ,  C07D203/14 ,  C07D205/04 ,  C07D207/04 ,  C07D211/06 ,  C07D213/79 ,  C07D223/04 ,  C07D225/02 ,  C07D233/02 ,  C07D241/04 ,  C07D263/04 ,  C07D265/30 ,  C07D277/04 ,  C07D279/12 ,  C07D295/112 ,  C07D295/155 ,  C07D295/26 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： [해결수단] 일반식(1)로표시되는오늄염화합물.(R, R, R, R, R및 R은수소원자또는 1가탄화수소기를나타내고, j는 0 또는 1이다. Z는일반식(a)로표시되는술포늄양이온또는일반식(b)로표시되는요오도늄양이온을나타낸다.)(R, R및 R은 1가탄화수소기를나타낸다. R및 R은 1가탄화수소기를나타낸다.) [효과] 본발명의레지스트조성물에포함되는오늄염화합물은, 산확산제어제로서양호하게기능하고, 결과적으로 MEF 및 LWR이작으며, 초점심도가우수하여고해상인패턴프로파일을구축할수 있다.

公开(公告)号：KR1020160055074A

公开(公告)日：2016-05-17

申请号：KR1020150155219

申请日：2015-11-05

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 후쿠시마마사히로 ,  오하시마사키 ,  하타케야마준

IPC分类号： C07C211/64 ,  C07C211/63 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C25/00 ,  C07C25/02 ,  C07C69/76 ,  C07C69/78 ,  C07C381/12 ,  C07D203/14 ,  C07D205/04 ,  C07D207/04 ,  C07D211/06 ,  C07D213/79 ,  C07D223/04 ,  C07D225/02 ,  C07D233/02 ,  C07D241/04 ,  C07D263/04 ,  C07D265/30 ,  C07D277/04 ,  C07D279/12 ,  C07D295/112 ,  C07D295/155 ,  C07D295/26 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： [해결수단] 일반식(1)로표시되는오늄염화합물.(R, R, R, R, R및 R은수소원자또는 1가탄화수소기를나타내고, j는 0 또는 1이다. Z는일반식(a)로표시되는술포늄양이온또는일반식(b)로표시되는요오도늄양이온을나타낸다.)(R, R및 R은 1가탄화수소기를나타낸다. R및 R은 1가탄화수소기를나타낸다.) [효과] 본발명의레지스트조성물에포함되는오늄염화합물은, 산확산제어제로서양호하게기능하고, 결과적으로 MEF 및 LWR이작으며, 초점심도가우수하여고해상인패턴프로파일을구축할수 있다.

摘要翻译： 本发明涉及由通式（1）表示的鎓化合物。 在通式（1）中，R 11，R 22，R 33，R 44，R 55和R 10是氢原子或一价烃基; j表示0或1; Z 1 +表示由通式（a）表示的锍阳离子或通式（b）表示的碘鎓阳离子。 在通式（a）和（b）中，R 100，R 102和R 300表示一价烃基，R 400和R 500表示一价烃基。 抗蚀剂组合物中所含的鎓盐化合物适当地用作酸扩散控制剂，从而具有低掩模误差因子（MEF）和线宽粗糙度（LWR）; 并具有优异的对焦深度，从而建立了高分辨率的图案。

公开(公告)号：KR1019960001700B1

公开(公告)日：1996-02-03

申请号：KR1019880701544

申请日：1988-03-16

申请人： 이스트만 케미칼 컴파니

发明人： 룰,마크 ,  터스틴,제럴드찰스

IPC分类号： C07C25/02

CPC分类号： C07C25/22 ,  C07C17/156 ,  C07C17/358 ,  C07C25/02 ,  C07C25/18 ,  C07C25/00

摘要： 내용 없음.

公开(公告)号：KR1019960001688B1

公开(公告)日：1996-02-03

申请号：KR1019880701543

申请日：1988-03-16

申请人： 이스트만 케미칼 컴파니

发明人： 룰,마크 ,  터스틴,제럴드찰스

IPC分类号： C03C25/22

CPC分类号： C07C25/22 ,  C07C17/156 ,  C07C17/358 ,  C07C25/00

摘要： 내용 없음.