公开(公告)号：KR1020130024853A

公开(公告)日：2013-03-08

申请号：KR1020120095538

申请日：2012-08-30

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 카토케이타 ,  나카무라아츠시

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C2602/14 ,  C07C2603/56 ,  C07C2603/74 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3081 ,  Y10S430/114 ,  G03F7/265 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/11

摘要： PURPOSE: A method for forming a pattern, an action-sensitive or radiation-sensitive resin, and an action-sensitive or radiation-sensitive film are provided to improve temperature and size uniformity. CONSTITUTION: A method for forming a pattern comprises: a step of forming a film using an action-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a solvent; a step of exposing the film to light; and a step of developing the film using a developing solution containing an organic solvent and forming a negative pattern.

摘要翻译： 目的：提供用于形成图案，动作敏感或辐射敏感树脂以及作用敏感或辐射敏感膜的方法，以改善温度和尺寸均匀性。 构成：形成图案的方法包括：使用含有溶剂的作用敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤; 将胶片曝光的一个步骤; 以及使用含有有机溶剂的显影液形成阴图案的薄膜的显影工序。

公开(公告)号：KR101914965B1

公开(公告)日：2018-11-05

申请号：KR1020120095538

申请日：2012-08-30

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 카토케이타 ,  나카무라아츠시

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C2602/14 ,  C07C2603/56 ,  C07C2603/74 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3081 ,  Y10S430/114

摘要： (과제) KrF광, 전자선및 EUV광을사용하여고해상및 고에칭내성을갖고, 또한현상잔사결함이저감된네거티브형의패턴을형성가능한패턴형성방법, 그방법에사용되는감활성광선성또는감방사선성수지조성물및 감활성광선성또는감방사선성막을제공하는것. (해결수단) (A) 산의작용에의해분해되어극성기를보이는기를갖는반복단위를함유하고, 또한방향족기를함유하는산의작용에의해유기용제에대한용해도가감소하는수지, (B) 활성광선또는방사선의조사에의해산이발생되는비이온성화합물, 및 (C) 용제를포함하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물을사용하여막을형성하는공정, 상기막을노광하는공정, 노광된막을유기용제를포함하는현상액을사용해서현상함으로써네거티브형패턴을형성하는공정을포함하는패턴형성방법.