公开(公告)号：KR1020130028006A

公开(公告)日：2013-03-18

申请号：KR1020120098241

申请日：2012-09-05

申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드

发明人： 모리가즈노리 ,  나리즈카사토루 ,  아메미야후미히로 ,  후지와라마사키

IPC分类号： C08G75/24 ,  C08L81/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/10 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2603/74 ,  C08F28/04 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F222/14 ,  C08F222/18 ,  C08F228/04 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  C07C303/22 ,  C08G75/24 ,  C08L81/08 ,  G03F7/202 ,  G03F7/26

摘要： PURPOSE: A perfluorinated sulfonic salt resin is able to express the high degree of sensitivity, the high resolution, the high reproducibility of mask pattern and the low line edge roughness by regularly including the region that has a mine file generation function and the region in which the solubility to the developing solution is changed by the reaction of acid. CONSTITUTION: A perflorinated sulfonic salt resin has the repetitive unit of following chemical formula 3. In the chemical formula 3, A is hydrogen, fluoride, or trifluoromethyl group, n is integer ranged from 1 to 10, W is a linker with two functional group, R^1 is acid labile group, M^+ is a cation with one functional group. The resist composition includes the perfluorinated sulfonate salt resin and a solvent. A pattern producing method comprises a process that spreads the resist composition on a circuit board; a process that exposes the resist composition in the light after heating treatment; and a process that developes the heated material after treating the light exposed material with heat when it is needed.

摘要翻译： 目的：全氟化磺酸盐树脂通过定期地包括具有矿山文件生成功能的区域，能够表现出高度的灵敏度，高分辨率，掩模图案的高再现性和低的线边缘粗糙度，其中 通过酸的反应来改变对显影液的溶解度。 构成：一种经过磺化的磺酸盐树脂具有以下化学式3的重复单元。在化学式3中，A为氢，氟，或三氟甲基，n为1至10的整数，W为具有两个官能团 R ^ 1是酸不稳定基团，M ^ +是具有一个官能团的阳离子。 抗蚀剂组合物包括全氟化磺酸盐树脂和溶剂。 图案制造方法包括将抗蚀剂组合物铺展在电路板上的工艺; 在加热处理后使光刻胶组合物曝光的工序; 以及在需要时用热处理曝光材料后，开发加热材料的工艺。

公开(公告)号：KR101267187B1

公开(公告)日：2013-05-23

申请号：KR1020090086341

申请日：2009-09-14

申请人： 캐논 가부시끼가이샤

发明人： 이와사히데후미

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L51/54

CPC分类号： C08F228/04 ,  C08G75/045 ,  G02B1/04 ,  C08L85/00

摘要： 본발명은황 함유화합물, 플루오렌골격을갖는플루오렌화합물, 및에너지중합개시제를함유하는화합물의중합체를포함하는광학재료를제공한다. 황함유화합물은술피드기, 술폰기, 술폭시드기, 티올기및 티오에스테르기로이루어진군으로부터선택된적어도 1종류의기를분자내에갖는다. 상기혼합물의중합체는, 굴절률이 1.65 이상 1.92 미만, 아베수가 15 이상 22 미만이고, 2차분산특성(&thetas;g, F)과, 수학식 &thetas;g, F=0.6438-0.001682&ngr;d로표시되는통상의광학재료의 2차분산특성(&thetas;g, F)의차인 &Dgr;&thetas;g, F가 0.05 이상 0.13 미만이다.

摘要翻译： 本发明提供了包含含有芴化合物的化合物的聚合物的光学材料，以及具有含硫化合物，具有芴骨架的能量聚合引发剂。 含硫化合物在硫化物基团，砜基，亚砜基，分子选自由硫醇和硫酯的组中的至少一种基团。 的混合物，其中，所述折射率小于1.65至1.92，15个或更多且低于22的阿贝数，第二阶色散特性的聚合物（θ驱动; G，F）和方程＆θ驱动; G，F = 0.6438-0.001682＆NGR;由d表示的 轿厢;（G，F＆θ驱动）DGR;常规光学材料的2阶色散特性及θ驱动; G，F大于0.13小于大于0.05。

公开(公告)号：KR101918635B1

公开(公告)日：2018-11-14

申请号：KR1020147007379

申请日：2012-08-24

申请人： 가부시키가이샤 아데카

发明人： 히와타리겐이치로 ,  도미타아쓰오 ,  사이키도모아키 ,  무라타기요시

IPC分类号： C08F212/34 ,  C08F2/44 ,  C08F291/00 ,  C08L51/00

CPC分类号： C08F112/34 ,  C08F12/22 ,  C08F228/04 ,  C08K7/18 ,  C09D125/18 ,  H01L29/1608 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 가공성형성이우수하며, 내열성이높고, SiC 파워반도체의몰딩수지로서사용가능할정도록높은 Tg를가지는경화물을얻을수 있는경화성조성물, 및그 경화물을제공한다. (A) 성분으로서, 하기일반식(1)으로표시되는부분구조를분자중에적어도 2개가지는화합물 100 질량부, (B) 성분으로서열라디칼발생제 0.5∼3 질량부및 (C) 성분으로서, 다른라디칼반응성화합물 0∼50 질량부를함유하는경화성조성물.(식중, 환 A는벤젠환또는시클로헥실환을나타내고, R은탄소수 1∼6의알킬렌기를나타내고, R는탄소수 1∼4의알킬기를나타내고, a는 0 또는 1의수를나타내고, b는 0∼3의정수를나타내고, c는 1 또는 2의수를나타낸다.)

公开(公告)号：KR101878117B1

公开(公告)日：2018-07-12

申请号：KR1020177029440

申请日：2017-03-30

申请人： 주식회사 다이셀

发明人： 에가와,도모야

IPC分类号： C08F2/50 ,  C08F216/14 ,  C08F228/04 ,  C07C43/205 ,  C07C321/30 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  H01L51/52

CPC分类号： C08F2/48 ,  C07C43/205 ,  C07D209/86 ,  C08F216/14 ,  C08F228/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  Y02P20/55

摘要： 댐앤필공법에의해유기 EL 소자를밀봉할때 필재로서사용할수 있는수지조성물이며, 도포성및 아세톤용해성이우수하고, 증점및 경화의타이밍을임의로설정할수 있어, 고굴절률, 저투습성및 저아웃가스성을갖는경화물을형성할수 있는수지조성물을제공한다. 본발명의수지조성물은, 하기식 (a)로표현되는화합물(A)과, 하기식 (b-1)로표현되는화합물, 및하기식 (b-2)로표현되는화합물에서선택되는적어도 1종의화합물(B)과, 광양이온중합개시제(C)를포함한다.

公开(公告)号：KR1020140054310A

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：KR1020147007379

申请日：2012-08-24

申请人： 가부시키가이샤 아데카

发明人： 히와타리겐이치로 ,  도미타아쓰오 ,  사이키도모아키 ,  무라타기요시

IPC分类号： C08F212/34 ,  C08F2/44 ,  C08F291/00 ,  C08L51/00

CPC分类号： C08F112/34 ,  C08F12/22 ,  C08F228/04 ,  C08K7/18 ,  C09D125/18 ,  H01L29/1608 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 가공 성형성이 우수하며, 내열성이 높고, SiC 파워 반도체의 몰딩 수지로서 사용 가능할 정도록 높은 Tg를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 경화성 조성물, 및 그 경화물을 제공한다. (A) 성분으로서, 하기 일반식(1)으로 표시되는 부분 구조를 분자 중에 적어도 2개 가지는 화합물 100 질량부, (B) 성분으로서 열라디칼 발생제 0.5∼3 질량부 및 (C) 성분으로서, 다른 라디칼 반응성 화합물 0∼50 질량부를 함유하는 경화성 조성물.

(식 중, 환 A는 벤젠환 또는시클로헥실환을 나타내고, R
1 은 탄소수 1∼6의 알킬렌기를 나타내고, R
2 는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내고, a는 0 또는 1의 수를 나타내고, b는 0∼3의 정수를 나타내고, c는 1 또는 2의 수를 나타낸다.)

公开(公告)号：KR1020170122833A

公开(公告)日：2017-11-06

申请号：KR1020177029440

申请日：2017-03-30

申请人： 주식회사 다이셀

发明人： 에가와,도모야

IPC分类号： C08F2/50 ,  C08F216/14 ,  C08F228/04 ,  C07C43/205 ,  C07C321/30 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  H01L51/52

CPC分类号： C08F2/48 ,  C07C43/205 ,  C07D209/86 ,  C08F216/14 ,  C08F228/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  C08F2/50 ,  C07C321/30 ,  C08F216/1458 ,  C08K5/372 ,  H01L51/5237

摘要： 댐앤필공법에의해유기 EL 소자를밀봉할때 필재로서사용할수 있는수지조성물이며, 도포성및 아세톤용해성이우수하고, 증점및 경화의타이밍을임의로설정할수 있어, 고굴절률, 저투습성및 저아웃가스성을갖는경화물을형성할수 있는수지조성물을제공한다. 본발명의수지조성물은, 하기식 (a)로표현되는화합물(A)과, 하기식 (b-1)로표현되는화합물, 및하기식 (b-2)로표현되는화합물에서선택되는적어도 1종의화합물(B)과, 광양이온중합개시제(C)를포함한다.

摘要翻译： 这可被用作填充材料由坝aenpil方法，涂布性和丙酮可溶yiwoosu以密封有机EL元件的树脂组合物，并且它可以设置增厚的定时和任选地硬化，高折射率，低透湿性和低脱气性 本发明提供能够形成具有固化物的固化物的树脂组合物。 本发明的树脂组合物中，下述式（a）是化合物（A）和下述式（b-1）所表示的化合物，和式（B-2）至少一种从由表示表示的化合物中 （B）和光阳离子聚合引发剂（C）。

公开(公告)号：KR101726118B1

公开(公告)日：2017-04-11

申请号：KR1020157025109

申请日：2014-03-11

申请人： 피알시-데소토 인터내쇼날, 인코포레이티드

发明人： 라오찬드라비 ,  카이주엑샤오 ,  린렌헤

IPC分类号： C08G75/00 ,  C08G75/02 ,  C08G75/20 ,  C08G75/23 ,  C08F228/04 ,  C08L81/00 ,  C08L81/02 ,  C08L81/04 ,  C09D181/02 ,  C07C317/18

CPC分类号： C09D181/02 ,  C07C317/04 ,  C07C317/18 ,  C08F228/04 ,  C08G75/00 ,  C08G75/02 ,  C08G75/20 ,  C08G75/23 ,  C08L81/00 ,  C08L81/02 ,  C08L81/04

摘要： 설폰-함유폴리티오에터, 설폰-함유폴리티오에터를함유하는조성물, 설폰-함유폴리티오에터의합성방법및 항공우주용밀봉제적용에서설폰-함유폴리티오에터의용도가개시되어있다. 설폰-함유폴리티오에터는폴리티오에터의주쇄내에혼입된설폰기를갖는다. 설폰-함유폴리티오에터를포함하는경화된밀봉제조성물은증대된내열성을나타낸다.

摘要翻译： 在含砜聚硫醚中使用含砜聚硫醚，含有含砜聚硫醚的组合物，合成含砜聚硫醚的方法以及在航空航天密封剂中的应用 有。 含砜聚硫醚具有引入聚硫醚骨架中的砜基团。 含有含砜聚硫醚的固化密封织物表现出增强的耐热性。

公开(公告)号：KR1020150119909A

公开(公告)日：2015-10-26

申请号：KR1020157025109

申请日：2014-03-11

申请人： 피알시-데소토 인터내쇼날, 인코포레이티드

发明人： 라오찬드라비 ,  카이주엑샤오 ,  린렌헤

IPC分类号： C08G75/00 ,  C08G75/02 ,  C08G75/20 ,  C08G75/23 ,  C08F228/04 ,  C08L81/00 ,  C08L81/02 ,  C08L81/04 ,  C09D181/02 ,  C07C317/18

CPC分类号： C09D181/02 ,  C07C317/04 ,  C07C317/18 ,  C08F228/04 ,  C08G75/00 ,  C08G75/02 ,  C08G75/20 ,  C08G75/23 ,  C08L81/00 ,  C08L81/02 ,  C08L81/04

摘要： 설폰-함유폴리티오에터, 설폰-함유폴리티오에터를함유하는조성물, 설폰-함유폴리티오에터의합성방법및 항공우주용밀봉제적용에서설폰-함유폴리티오에터의용도가개시되어있다. 설폰-함유폴리티오에터는폴리티오에터의주쇄내에혼입된설폰기를갖는다. 설폰-함유폴리티오에터를포함하는경화된밀봉제조성물은증대된내열성을나타낸다.

公开(公告)号：KR101430058B1

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：KR1020120098241

申请日：2012-09-05

申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드

发明人： 모리가즈노리 ,  나리즈카사토루 ,  아메미야후미히로 ,  후지와라마사키

IPC分类号： C08G75/24 ,  C08L81/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/10 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2603/74 ,  C08F28/04 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F222/14 ,  C08F222/18 ,  C08F228/04 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30

摘要： 패턴 형성 후에 러프니스가 발생하거나, 패턴 자체를 잘 그릴 수 없는 등의 결함을 방지하기 위하여, 수지 중에 광산 발생 기능을 포함시킨 레지스트 수지로서, 「산의 작용에 의해 현상액에 대한 용해성이 변화되는 부위」와 「광산 발생 기능을 가지는 부위」가 규칙적으로 배치된 레지스트 수지를 제공한다.
하기 일반식 (3)으로 나타내어지는 반복 단위를 가지는 함불소 술폰산염 수지.
[화학식 1]

(식 중, A는 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다. n은 1~10의 정수를 나타낸다. W는 2가의 연결기를 나타낸다. R
1 은 산불안정기를 나타낸다. M
+ 는, 1가의 카티온을 나타낸다.)

公开(公告)号：KR1020100033930A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：KR1020090086341

申请日：2009-09-14

申请人： 캐논 가부시끼가이샤

发明人： 이와사히데후미

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L51/54

CPC分类号： C08F228/04 ,  C08G75/045 ,  G02B1/04 ,  C08L85/00

摘要： PURPOSE: An optical material and an optical element using the same are provided to ensure high transmittance, low optic scattering property, high refractivity, low Abbe's number(vd), high secondary scattering property(θg, F) and low brittleness. CONSTITUTION: An optical material comprises a polymer of a mixture of: a sulfur-containing compound containing, in a molecule, at least one kind of group selected from the group consisting of a sulfide group, a sulphone group, a sulfoxide group, a thiol group, and a thioester group; a fluorene compound at least having a fluorene skeleton; and an energy polymerization initiator, wherein the polymer of the mixture has a refractive index of 1.65 or more to less than 1.92 and an Abbe constant of 15 or more to less than 22; and a difference Δθg, F between a secondary dispersion property(θg, F) of the polymer of the mixture and a secondary dispersion property(θg, F) expressed by the following expression is 0.05 or more to less than 0.13, θg, F=0.6438-0.001682 vd, where vd is an Abbe constant.

摘要翻译： 目的：提供光学材料和使用其的光学元件，以确保高透射率，低光散射性，高折射率，低阿贝数（vd），高二次散射特性（＆amp; g，F）和低脆性。 构成：光学材料包括以下混合物的混合物的聚合物：在分子中含有选自硫醚基，砜基，亚砜基，硫醇中的至少一种基团的含硫化合物 组和硫酯基; 至少具有芴骨架的芴化合物; 和能量聚合引发剂，其中所述混合物的聚合物的折射率为1.65以上至小于1.92，阿贝常数为15以上且小于22; 并且由以下表达式表示的混合物的聚合物的二次分散性（＆amp; g，g，F）和第二分散性（＆amp; g，F，F）之间的差△＆thgr; g，F为0.05以上至小于 0.13，＆amp; g，F = 0.6438-0.001682 vd，其中vd是阿贝常数。