감방사선성 조성물
    6.
    发明授权
    감방사선성 조성물 有权
    敏化辐射组合物

    公开(公告)号:KR101753433B1

    公开(公告)日:2017-07-03

    申请号:KR1020127014098

    申请日:2010-12-14

    摘要: 단차가있는기판의리소그래피공정에있어서, 단차의하부나, 레지스트패턴과단차의교점부분등 노광량이적은영역등에서도현상용해속도가높아지므로스컴마진이우수하여, 양호한형상의레지스트패턴이얻어지는것을목적으로하기화학식 (1)로표시되는반복단위를포함하는중합체 (A1)과, 하기화학식 (2)로표시되는반복단위를포함하면서화학식 (1)로표시되는반복단위를포함하지않는중합체 (A2)와의중합체 (A)와, 감방사선성산발생제 (B)를함유한다.

    摘要翻译: 在有台阶的衬底的光刻过程,以使得显影溶解速率在阶梯状底部增加,并且抗蚀剂图案和所述交叉部,例如曝光量是步骤的较小的面积,例如通过浮渣余量yiwoosu,目的是获得具有良好形状的抗蚀剂图案 到聚合物(A1),和重复聚合物(A2),其不包含由式(1)表示的单元,并且包括由(2)含有由下式表示的重复单元式表示的重复单元(1)之间 聚合物(A)和放射线敏感性酸产生剂(B)。