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    검출 장치, 노광 장치, 디바이스 제조 방법 및 필터
    1.
    发明公开
    검출 장치, 노광 장치, 디바이스 제조 방법 및 필터 有权
    检测装置，曝光装置，装置制造方法和过滤器

    公开(公告)号：KR1020120135073A

    公开(公告)日：2012-12-12

    申请号：KR1020120058112

    申请日：2012-05-31

    申请人： 캐논 가부시끼가이샤

    发明人： 마에다히로노리

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7069 ,  G02B5/201 ,  G03B27/53 ,  H01L21/0274

    摘要： PURPOSE: A detecting apparatus, an exposure apparatus, a device manufacturing method, and a filter are provided to precisely detect the position of a subject by uniformly forming the sensitivity of an image sensor for broadband infrared rays. CONSTITUTION: A substrate stage(104) supports a substrate(103). A projection optical system(106) is projected onto the substrate. A control unit(117) controls the whole operation of an exposure apparatus in a lump. A reticle is supported by a reticle stage. An illumination optical system illuminates the reticle which is supported by the reticle stage.

    摘要翻译： 目的：提供一种检测装置，曝光装置，装置制造方法和滤光器，以通过均匀地形成用于宽带红外线的图像传感器的灵敏度来精确地检测被摄体的位置。 构成：衬底台（104）支撑衬底（103）。 投影光学系统（106）投影到基板上。 控制单元（117）一体地控制曝光装置的整体操作。 标线片由标线片台支撑。 照明光学系统照亮由掩模版台支撑的掩模版。

    노광 장치 및 디바이스 제조 방법
    2.
    发明公开
    노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
    曝光装置和装置制造方法

    公开(公告)号：KR1020120005382A

    公开(公告)日：2012-01-16

    申请号：KR1020110065509

    申请日：2011-07-01

    申请人： 캐논 가부시끼가이샤

    发明人： 이와이도시끼 ,  사사끼료

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03B27/53 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775

    摘要： 본발명은투영광학계의광축에직교하는제1 방향을종방향으로서갖는제1 패턴및 제1 방향에평행하지않고투영광학계의광축에직교하는제2 방향을종방향으로서갖는제2 패턴각각을투영광학계의물체면에배치했을때의, 제1 패턴으로부터의광이투영광학계를통해결상하는제1 결상위치의데이터, 및제2 패턴으로부터의광이투영광학계를통해결상하는제2 결상위치의데이터를취득하도록구성된취득유닛과, 기판이광축을따른기판의목표위치에배치되도록스테이지를제어하게구성되는제어유닛을포함하는노광장치를제공한다.

    摘要翻译： 目的：提供一种用于制造装置的曝光装置和方法，以通过根据投影光学系统的光轴确定晶片的位置来减少散焦。 构成：投影光学系统（50）将掩模的图案投影在基板（60）上。 阶段（70）传送基板。 接收单元接收第一成像位置的数据，其中来自第一图案的光被投影光学系统成像，以及第二成像位置，其中来自第二图案的光被投影光学系统成像。 控制单元（110）控制台，使得基板被布置在目标位置。 标准板被布置在投影光学系统的图像平面上。 面向第一图案的第一图案和第二图案分别形成在标准板上。 检测单元检测通过第一图案和第二图案的辐射强度。

    3차원 입체사진 인화장치
    3.
    发明授权
    3차원 입체사진 인화장치 失效
    三维摄影的打印设备

    公开(公告)号：KR100131239B1

    公开(公告)日：1998-04-11

    申请号：KR1019930703862

    申请日：1993-04-13

    申请人： 노리츠 고키 가부시키가이샤

    发明人： 미야와끼히로시 ,  이또지마미쯔히꼬 ,  나까오히로또 ,  오까타까유끼 ,  마에다히사히로 ,  쯔지마사아끼 ,  아끼라토시로

    IPC分类号： G03B27/32

    CPC分类号： G03B13/18 ,  G03B27/32 ,  G03B27/522 ,  G03B27/53 ,  G03B27/588 ,  G03B35/14

    摘要： 본 발명은 통상사진 또는 3D 사진이 인화가능한 현상인화장치에 관한 것으로 다음과 같이 구성된다.
    (1) 본 발명에서는 사진인화장치의 렌즈를 이동가능하게 하고, 인화시에는 렌즈를 정규 위치로 세트하여 기타 조작시에는 필름으로부터 떨어진 위치로 대피시켜 렌즈 보수(保守), 조정을 용이하게 한다.
    (2) 본 발명에서는 CCD 카메라, 라인센서 등으로 구성된 샘플프린트 감시 장치를 이용하여 노광중심의 오차를 측정하고, 보정치 등록의 자동화를 가능하게 한다.
    (3) 본 발명에서는 네가마스크부, 렌즈부, 노광대 등을 각각 동일각도로 회전시킴으로써 조정의 노광각도를 얻을 수 있다.
    특히, 회전기구와 더불어 렌즈부를 미소하게 슬라이드시켜 보다 정도(情度)가 높은 3D 입체사진의 인화장치를 구성한다.
    (4) 본 발명에서는 확대렌즈 및 노광대에 이동수단을 갖추어서 트리밍에 의한 프린트를 한다.
    (5) 본 발명은 캇터로 절단된 인화지의 선단부분을 에치세이버를 인화지의 진행방향에 대하여 직각방향으로 동작시켜 선단부 단면 전범위의 가루를 떨어뜨리며, 가루흡인용 기구에 의해 가루상자로 보낸다.

    摘要翻译： 印刷机包括可移动透镜，其可以在打印时放置在适当的位置，并且在其它操作期间保持在与胶片隔开的待机位置。 以这种方式，镜头的维护和调整变得容易。 提供了包括CCD照相机，线传感器等的样本打印监视器，用于测量曝光中心的偏差以自动记录校正值。 通过以相同的角度旋转阴罩部分，透镜部分，曝光台等来获得期望的曝光角度。 除了旋转机构之外，透镜部分被精细地滑动以构成具有更高精度的三维照片的打印机。 将移动装置提供给放大镜头和曝光台，以通过修剪来实现打印。 使边缘剃须刀沿着打印纸的行进方向的矩形方向作用，以便在由切割器切割的打印纸的端部的端表面的范围内切除灰尘，并且灰尘被灰尘吸入 抽吸机构，并送到集尘箱。

    노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
    4.
    发明授权
    노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
    曝光装置，曝光方法和制造装置的方法

    公开(公告)号：KR101444981B1

    公开(公告)日：2014-09-26

    申请号：KR1020110040205

    申请日：2011-04-28

    申请人： 캐논 가부시끼가이샤

    发明人： 사또다까노리

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03B27/42 ,  G03B27/53 ,  G03B27/58 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7096

    摘要： 본 발명의 주사 노광 장치는, 가속 기간 중에 제 1 계측점에서 및 등속 기간 중에 제2 계측점에서 기판 상의 미리결정된 위치에서의 기판의 높이를 계측하고, 계측 결과에 기초하여 가속과 관련된 인자에 기인하는 계측 오차의 보정값을 취득하며, 기판 상의 주어진 위치에 있어서의 기판의 높이가 스테이지의 가속 중에 계측된 후 상기 주어진 위치에서 기판을 노광하는 경우에는, 계측된 기판의 높이를 취득된 보정값을 사용하여 보정하고, 상기 주어진 위치에서의 기판의 높이가 보정된 높이와 동일하게 되도록 기판을 노광하며, 기판 상의 주어진 위치에 있어서의 기판의 높이가 스테이지의 등속 이동 중에 계측된 후 상기 주어진 위치에서 기판을 노광하는 경우에는, 상기 주어진 위치에서의 기판의 높이가 계측된 높이와 동일하게 되도록 기판을 노광한다.

    웨이퍼 스테이지 정렬 방법, 이 방법을 수행하기 위한 장치, 및 이 장치를 포함하는 노광 장치
    9.
    发明授权
    웨이퍼 스테이지 정렬 방법, 이 방법을 수행하기 위한 장치, 및 이 장치를 포함하는 노광 장치 有权
    用于执行包括校准装置在内的方法和放映装置的波段装置的方法

    公开(公告)号：KR101683027B1

    公开(公告)日：2016-12-07

    申请号：KR1020100099639

    申请日：2010-10-13

    申请人： 삼성전자주식회사

    发明人： 박태진 ,  김철홍

    IPC分类号： H01L21/68 ,  H01L21/683 ,  B23Q3/18 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/53 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7088

    摘要： 웨이퍼스테이지정렬방법에따르면, 웨이퍼스테이지를 x축방향을따라이동시킨다. 상기 x축방향과경사진제 1 위치에서상기웨이퍼스테이지의제 1 좌표를계측한다. 상기웨이퍼스테이지를 y축방향을따라이동시킨다. 상기 y축방향과경사진제 2 위치에서상기웨이퍼스테이지의제 2 좌표를계측한다. 따라서, 웨이퍼스테이지의이동거리가상대적으로증가되어, 간섭계가웨이퍼스테이지의위치를보다정밀하게계측할수가있다.

    摘要翻译： 在对准晶片台的方法中，晶片台可以在X轴方向上移动。 可以从倾斜于X轴的第一测量位置测量晶片台的第一坐标。 晶片载物台可沿Y轴方向移动。 可以从与Y轴倾斜的第二测量位置测量晶片台的第二坐标。 因此，可以增加晶片台的移动距离，使得干涉仪可以精确地测量晶片台的位置。

    마스크리스 노광 장치, 마스크리스 노광에서 노광 시작 위치와 자세를 결정하는 방법
    10.
    发明授权
    마스크리스 노광 장치, 마스크리스 노광에서 노광 시작 위치와 자세를 결정하는 방법 有权
    用于确定起始位置的方法和方法，以及在MASKLESS LITHOGRAPHY中的接触扫描方向

    公开(公告)号：KR101678039B1

    公开(公告)日：2016-11-21

    申请号：KR1020100095939

    申请日：2010-10-01

    申请人： 삼성전자주식회사

    发明人： 안성민 ,  장상돈 ,  손태규

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03B27/521 ,  G03B27/53 ,  G03F7/70291 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015

    摘要： 마스크리스노광(Maskless Lithography)에서장비조립후, 실제노광시작위치와자세를찾아설계상공칭값대비차이를결정하고보상하는방법을제안한다. 기판을로딩/언로딩하는로더의설치시, 로더의자세를미세조정하기어렵기때문에장비조립후실제노광시작위치와자세를찾아설계상공칭값대비차이를결정하고보상하는방법을통해기판의로딩자세와노광스캔방향(자세)의차이를보상할수 있다. 또한 MMO(Machine to Machine Overlay 또는 Multi-Machine Overlay) 노광시, 다른노광장치의이송자유도별범위(stroke)에는제한이있으므로이송가능한각 변위범위(angular stroke) 이내로노광시작위치와자세를확보하여다른노광장치와 MMO를위한노광호환이가능하다.