公开(公告)号：KR101920997B1

公开(公告)日：2018-11-21

申请号：KR1020170058831

申请日：2017-05-11

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 오하시마사키 ,  다니구치료스케

IPC分类号： C07C323/62 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C291/00 ,  C07C381/12 ,  C08K5/375 ,  C09D133/062 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/0274 ,  C08L33/062

摘要： [과제] 본발명은원자외선리소그래피및 EUV 리소그래피에있어서, 해상성, LWR, MEF 및 CDU가우수한레지스트막을부여하는레지스트조성물, 이것에이용하는술포늄화합물및 상기레지스트조성물을이용한패턴형성방법을제공한다. [해결수단] 본발명은하기식(1)으로표시되는술포늄화합물에의해이루어진다.(식중, R, R및 R은각각독립적으로헤테로원자를포함하고있어도좋은탄소수 1~20의직쇄상, 분기상또는환상의 1가탄화수소기를나타낸다. p 및 q는각각독립적으로 0~5의정수를나타낸다. r은 0~4의정수를나타낸다.)

公开(公告)号：KR20180016306A

公开(公告)日：2018-02-14

申请号：KR20170098577

申请日：2017-08-03

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F1/50 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： 본발명은패턴형성시의해상성을향상시키고, 또한라인엣지러프니스가저감된패턴을얻을수 있는네거티브형레지스트조성물및 레지스트패턴형성방법을제공하는것을과제로한다. 상기과제는 (A) 하기식(A)으로표시되는술포늄화합물, 및 (B) 하기식(B1)으로표시되는반복단위를포함하는폴리머를포함하는베이스폴리머를포함하는네거티브형레지스트조성물에의해해결된다:

摘要翻译： 提供包含（A）甜菜碱型锍化合物和（B）聚合物的负型抗蚀剂组合物。 该抗蚀剂组合物在曝光步骤中对于控制酸扩散是有效的，在图案形成期间表现出非常高的分辨率，并且形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：KR101817717B1

公开(公告)日：2018-01-15

申请号：KR1020160084780

申请日：2016-07-05

申请人： (주)프리테크

发明人： 이해일

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70391 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： 본발명은 UV LED 램프광원을구비한노광장치를개시한다. 개시된본 발명에따른노광장치는, 포토레지스트에특정파장영역의 UV를일정량조사하여포토레지스트의광화학반응을유도하는노광장치로서, UV를발생하는광원인 UV LED 램프; 상기 UV LED 램프의상부에상부로갈수록개방면적이커지는형태로배치되며, 확산및 난반사되어사용이제한적인 UV의조사각을보상하여 UV가평행한방향으로진행하도록돕는확산경통; 상기확산경통의하단부에설치되어상기 UV LED 램프로부터나온 UV를평행한방향으로진행하도록돕는제1 콘덴서렌즈; 상기확산경통의상단부에설치되어상기사각확산경통으로부터나온 UV를집광시키는제2 콘덴서렌즈; 상기제2 콘덴서렌즈를거쳐진행하는 UV를혼합및 확산시키도록역할하는인테그레이터; 및상기인테그레이터로부터진행하는 UV를반사시켜평행광으로진행시키는구면미러;를포함할수 있다.

摘要翻译： 本发明公开了一种具有UV LED灯光源的曝光设备。 根据本发明所公开的曝光装置，光致抗蚀剂作为预定量的曝光装置照射以诱导紫外光致抗蚀剂对特定波长区域的光化学反应，在UV LED光源，用于产生UV灯; 扩散管设置在UV LED灯的上部，其开口面积随着朝向上部而变大并扩散或漫反射， 第一聚光透镜，其安装在扩散筒的下端以协助UV LED灯沿平行方向发射UV; 第二聚光透镜，安装在漫射筒的上端，用于聚集从四边形漫射筒发射的UV; 用于混合和漫射通过第二聚光透镜的UV的积分器; 还有一个球面反射镜，反射来自积分器的行进紫外线并进入平行光。

公开(公告)号：KR1020170137961A

公开(公告)日：2017-12-13

申请号：KR1020177035144

申请日：2013-03-28

申请人： 호야 가부시키가이샤

发明人： 오리하라,도시히꼬 ,  하마모또,가즈히로 ,  고자까이,히로후미 ,  우스이,유이찌 ,  쇼끼,쯔또무 ,  호리까와,준이찌

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F1/48 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3636 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3665 ,  C03C23/0075 ,  C03C2201/42 ,  C03C2218/33 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/22 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/70733 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3085

摘要： 리소그래피에사용되는마스크블랭크용기판으로서상기기판의전사패턴이형성되는측의주 표면은, 1㎛×1㎛의영역을원자간력현미경으로측정하여얻어지는제곱평균평방근조도(Rms)가 0.15㎚이하이면서, 공간주파수 1㎛이상의파워스펙트럼밀도가 10㎚이하인것을특징으로하는마스크블랭크용기판이다.

摘要翻译： 在通过向其中在基板上形成的转印图案的一侧的主表面而获得的平版geunjo使用的掩模半成品容器板，测量的1㎛×1㎛的区域用原子力显微镜均方根甚至（RMS）是0.15㎚ 或更小，在10nm或更小的空间频率下1m或更大的功率谱密度。

公开(公告)号：KR101807838B1

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：KR1020147018169

申请日：2013-03-28

申请人： 호야 가부시키가이샤

发明人： 오리하라,도시히꼬 ,  하마모또,가즈히로 ,  고자까이,히로후미 ,  우스이,유이찌 ,  쇼끼,쯔또무 ,  호리까와,준이찌

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F1/66

CPC分类号： G03F1/48 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3636 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3665 ,  C03C23/0075 ,  C03C2201/42 ,  C03C2218/33 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/22 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/70733 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3085

摘要： 리소그래피에사용되는마스크블랭크용기판으로서상기기판의전사패턴이형성되는측의주 표면은, 1㎛×1㎛의영역을원자간력현미경으로측정하여얻어지는제곱평균평방근조도(Rms)가 0.15㎚이하이면서, 공간주파수 1㎛이상의파워스펙트럼밀도가 10㎚이하인것을특징으로하는마스크블랭크용기판이다.

公开(公告)号：KR101790823B1

公开(公告)日：2017-11-20

申请号：KR1020137008764

申请日：2011-08-16

申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디

发明人： 미즈무라미치노부

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC分类号： G03F9/00 ,  G03B17/24 ,  G03B27/53 ,  G03B27/58 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/70791

摘要： 필름기재(20)의폭 방향의양측의필름기재송급용영역의적어도한쪽에측부노광재료막을형성하고, 얼라인먼트마크형성부(14)에의해, 노광광을조사해서얼라인먼트마크(2a)를형성하고, 이얼라인먼트마크(2a)를사용하고, 필름사행을검출해서마스크(12)의위치를조정한다. 이에의해, 필름을연속노광할때의얼라인먼트마크의형성이용이하고, 필름의사행을고정밀도로보정하여, 안정적으로노광할수 있는필름노광장치및 필름노광방법을얻을수 있다.

公开(公告)号：KR101798694B1

公开(公告)日：2017-11-16

申请号：KR1020137008832

申请日：2011-08-16

申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디

发明人： 미즈무라미치노부

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H05K1/02 ,  H05K3/00

CPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/2002 ,  H05K3/0008 ,  H05K2201/09918 ,  H05K2203/0557

摘要： 필름의노광장치(1)에는, 공급되는필름(2)의선단부에마스크(12)의초기위치의기준이되는인입마크(2a)를형성하는인입마크형성부(13)가설치되어있고, 검출부(15)에의해, 필름의이동방향에대해수직한방향에있어서의인입마크의위치를검출한다. 그리고, 이검출결과에의해, 마스크의위치를조정한다. 인입마크는, 예를들어 YAG 레이저에의해형성한다. 검출부는, 예를들어마스크의하방에배치된라인 CCD 카메라이다. 이에의해, 필름노광장치는, 필름의노광을개시할때에, 마스크의위치를고정밀도로설정하여, 높은노광정밀도로필름을안정적으로노광할수 있다.

公开(公告)号：KR1020170124675A

公开(公告)日：2017-11-13

申请号：KR1020160054161

申请日：2016-05-02

申请人： 한양대학교 산학협력단

发明人： 김종만 ,  김태근 ,  이찬우 ,  어경찬

IPC分类号： C07C305/14 ,  C07C303/24 ,  C07C303/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F1/76 ,  C08L81/02

CPC分类号： C07C303/24 ,  C07C303/42 ,  C07C305/14 ,  C08L81/02 ,  G03F1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002

摘要： 본발명은신규의수용성다이아세틸렌단량체화합물, 상기수용성다이아세틸렌단량체화합물과 PEDOT/PSS 전도성고분자를포함하는광미세가공용조성물및 이를이용한마이크로패턴의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는수용성전도성고분자 PEDOT/PSS와혼합하여도응집현상이일어나지않는신규의수용성다이아세틸렌단량체화합물, 상기수용성다이아세틸렌단량체화합물과 PEDOT/PSS 전도성고분자를포함하는광미세가공용조성물및 이를이용한마이크로패턴의제조방법에관한것이다. 본발명에따르면, 수용성전도성고분자 PEDOT/PSS와혼합하여도응집현상이일어나지않는신규의수용성다이아세틸렌단량체를제공할수 있다. 이에따라 PEDOT/PSS와상기다이아세틸렌단량체를혼합하여균일한광미세가공용조성물의제조가가능하고이를이용하여마이크로패턴을제조할수 있다. 더욱구체적으로상기조성물을이용하여박막을제조한후 빛을조사하면다이아세틸렌단량체의광중합반응으로빛을받은부분만선택적으로가교되어불용성의음각형마이크로패턴을얻을수 있다.

摘要翻译： 本发明是一种水溶性二乙炔单体化合物的新的，上述水溶性死乙炔单体化合物和PEDOT / PSS作为含有导电性高分子的年龄尾矿涉及用于普通组合物的制备和使用其的微细图案，并且更具体的水溶性导电聚合物PEDOT的处理 / PSS尾矿做这个混合hayeodo结块发生包括新颖的水溶性死乙炔单体化合物，其中，所述水溶性单体死乙炔化合物和PEDOT / PSS导电聚合物年龄涉及用于普通组合物以及使用该微图案的制备方法。 根据本发明，可以提供一种水溶性导电聚合物，PEDOT / PSS，并且，所述混合hayeodo凝聚发生在新的水溶性单体乙炔模具。 因此，可以通过混合PEDOT / PSS和乙炔单体来制备用于均匀微细加工的组合物，并且可以使用其制备微图案。 当更具体地，通过使用该组合物的光照射产生膜之后，仅由单体二甲基乙炔的光聚合反应的光接收部是选择性地交联可以得到水不溶性的负型微图案。

公开(公告)号：KR101770749B1

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：KR1020160003275

申请日：2016-01-11

申请人： 최상준

发明人： 최상준

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08G73/0672 ,  C08G16/0268 ,  C09D161/00 ,  C09D179/04 ,  G03F7/091 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  C08K5/0025 ,  C08K5/3445

摘要： (a) 하기화학식 1로표시되는카바졸(carbazole) 유도체중합체또는이를포함하는중합체혼합물(blend) 및 (b) 유기용매를포함하여이루어지는반사방지하드마스크조성물이제공된다. [화학식 1]

公开(公告)号：KR1020170093811A

公开(公告)日：2017-08-16

申请号：KR1020177014692

申请日：2015-11-26

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 나카가와,히사시 ,  시라타니,모토히로 ,  나루오카,다케히코 ,  나가이,도모키

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/2002

摘要： 본발명은방사선의노광시에산을발생하는감방사선성산 발생체를함유하고, 상기산의작용에의해현상액에대한용해성이변화하는포토레지스트조성물이며, 금속원소를포함하고, 동적광 산란법분석에의한유체역학반경이 20nm 이하인제1 입자, 및제1 용제를함유하는것을특징으로한다. 당해포토레지스트조성물은, 산해리성기를갖는제1 화합물을함유할수 있다. 상기감방사선성산 발생체는, 방사선의노광시에산을발생하는기를갖는상기제1 화합물로할 수있다.

摘要翻译： 本发明涉及含有放射线照射时产生酸的放射线敏感性酸发生剂的光致抗蚀剂组合物，其中在显影剂中的溶解度通过酸的作用而改变，所述组合物包含金属元素， 流体力学半径为20nm或更小的颗粒和溶剂。 光致抗蚀剂组合物可以含有具有酸可裂解基团的第一化合物。 辐射敏感产酸剂可以是第一种具有能够在暴露于辐射时产生酸的基团的化合物。