公开(公告)号：KR1020170125358A

公开(公告)日：2017-11-14

申请号：KR1020177027179

申请日：2016-03-04

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 카네코아키히로 ,  야마구치슈헤이

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/56 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2014

摘要： 특히, 초미세(예를들면, 선폭 50nm 이하)의패턴의형성에있어서, 감도, 해상성, PED 안정성, 및라인에지러프니스(LER) 성능이우수한패턴을형성하는것이가능한네거티브형감활성광선성또는감방사선성수지조성물과, 그것을이용한네거티브형감활성광선성또는감방사선성막, 네거티브형감활성광선성또는감방사선성막을갖는마스크블랭크, 패턴형성방법, 및상기패턴형성방법을포함하는전자디바이스의제조방법을제공한다. 마스크블랭크는, (A) 하기일반식 (1)로나타나는반복단위를갖는고분자화합물과, (B) 활성광선또는방사선의조사에의하여, 체적이 130Å이상 2000Å이하인산을발생하는화합물을포함하는, 네거티브형감활성광선성또는감방사선성수지조성물및, 그것을이용한네거티브형감활성광선성또는감방사선성막, 네거티브형감활성광선성또는감방사선성막을갖는다.식중, R은수소원자, 알킬기, 또는할로젠원자를나타내고, R와 R은, 각각독립적으로, 수소원자, 알킬기, 사이클로알킬기, 아랄킬기, 또는아릴기를나타내며, R는수소원자, 알킬기, 사이클로알킬기, 아릴기, 또는아실기를나타내고, L은단결합또는 2가의연결기를나타내며, Ar은방향족기를나타내고, m과 n은, 각각독립적으로, 1 이상의정수를나타낸다.

摘要翻译： 特别地，超精细的图案的形成（例如，线宽小于50nm），灵敏度，分辨率，PED稳定性，和线边缘粗糙度（LER）性能底片hyeonggam能够形成良好的图案的光城堡的活性 或辐射敏感树脂组合物和负hyeonggam光化射线或最后辐射沉积，负hyeonggam光化射线或具有辐射成膜上次关闭掩模坯料使用它们，包括图案形成方法的电子装置的图案形成方法，和制造 ＆lt; 掩模坯是，（A）一种包括通过光化射线或辐射，这是超过2000埃或更小的磷酸盐130A具有由下式表示的重复单元生成的体化合物的照射使通式（1）的聚合物化合物和，（B）， 负hyeonggam活性光第一或辐射敏感树脂组合物和，它具有负hyeonggam光化射线或最后辐射沉积，负hyeonggam光化射线或使用最后辐射沉积。其中，R隐士希望在这里，烷基，或卤素原子 a表示，R和R各自独立地表示氢原子，烷基，环烷基，芳烷基，或芳基，R代表氢原子，烷基，环烷基，芳基，或酰基，L eundan键或 二价连接基团，Ar表示芳香族基团，m和n各自独立地表示1以上的整数。

公开(公告)号：KR101448327B1

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：KR1020097011748

申请日：2008-03-14

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 다다,히로시 ,  가미야,노부또

IPC分类号： C09J7/02 ,  G03F1/48

CPC分类号： G03F1/48 ,  C09J7/35 ,  C09J2475/00 ,  C09J2483/00 ,  G03F7/2014

摘要： 본 발명은 점착성을 갖는 포토레지스트에 밀착하여 반복 사용하더라도 박리성이 저하되지 않고 사용이 가능한 포토마스크 보호용 점착 테이프를 제공한다. 본 발명은 투명한 기재 필름 또는 시트 (A)와, 그의 한쪽면에 형성된 점착제층 (B)와, 점착제층 (B)의 면과는 반대측의 면에 형성된 표면층 (C)를 포함하는 포토마스크 보호용 점착 테이프로서, 표면층 (C)는 이소시아네이트 실란 (x)와 말단에 수산기를 갖는 실록산 (y)를 함유하는 혼합물로부터 얻어지는 특정한 경화물로 이루어진다.
투명한 기재 필름 또는 시트, 점착제층, 표면층, 포토마스크 보호용 점착 테이프, 이소시아네이트 실란, 말단에 수산기를 갖는 실록산

公开(公告)号：KR101352360B1

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：KR1020077027132

申请日：2006-04-13

申请人： 오브듀캇 아베

发明人： 벡마크

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/50 ,  G03F7/2014

摘要： 템플레이트(10)는 제1표면(13, 14)을 가지며, 상기 제1표면의 패턴을 광감응코팅(light-sensitive coating)에 의하여 덮여진 제2표면(23)을 갖는 물체(20)에 상기 패턴된 제1표면을 상기 코팅과 접촉시킴으로써 전사하는데 사용 가능하고, 여기서 템플레이트는 예를 들어 니켈 등으로 이루어진 캐리어 베이스(carrier base)(11)와, 제1표면에서 캐리어 베이스 상에 배치되는 도파관(14)을 포함한다. 도파관은 여기로 광을 유도하기 위하여, 방사 입력(radiation input)에서 도입된, 및 상기 패턴에 대응하는 상기 코팅의 부분들(24)에 소멸파(evanescent wave)를 유도하도록 되어 있다. 템플레이트는 또한 불투명 실드(opaque shield)(15)를 갖도록 될 수 있고, 불투명 실드는 도파관의 선택된 부분들 위쪽의 제1표면에 배치되며, 소멸파가 상기 코팅에 누출될 수 있는 장소를 정의하도록 작용한다.

公开(公告)号：KR101304774B1

公开(公告)日：2013-09-05

申请号：KR1020087015571

申请日：2006-12-25

申请人： 키모토 컴파니 리미티드

发明人： 가지야구니히토 ,  이마무라준이치

IPC分类号： C09D183/04 ,  G03F7/14 ,  G03F7/20 ,  B32B27/00

CPC分类号： B32B27/28 ,  B32B27/08 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/748 ,  B32B2457/08 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2014

摘要： 본 발명의 표면보호필름은, 투명 고분자 필름의 한쪽 면에 점착층이 설치되고, 다른 쪽 면에 표면보호층이 설치되며, 표면보호층이 이형성 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하고, 바인더 성분인 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지로 형성한다. 바람직하게는 상기 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지는, 축합반응형 실리콘계 수지를 포함한다. 이 표면보호필름은 포토레지스트에 대한 매우 높은 이형성을 지속할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020130028180A

公开(公告)日：2013-03-19

申请号：KR1020110079967

申请日：2011-08-11

申请人： 주식회사 옵토원

发明人： 곽경호 ,  오승훈 ,  양병철

IPC分类号： G03F1/38 ,  G03F1/00 ,  B29C33/38 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/38 ,  G03F1/48 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/26

摘要： PURPOSE: A manufacturing method of a soft mask and roll mold and an exposure apparatus using the same are provided to form patterns on the surface of a roll mold, thereby obtaining a roll mold with a low price, which is used in a roll-to-roll imprinting process. CONSTITUTION: A manufacturing method of a soft mask comprises: a step of transcribe a stamp pattern on a resin layer; a step of removing the remaining layer of a resin layer(S12); a step of evaporating a metal on a substrate by the pattern and removing the resin layer(S13); a step of transcribing the metal pattern on one side of the resin layer by applying pressure to one side of the substrate; and a step of applying a pressure to the lower film with the same material as the resin film. [Reference numerals] (AA) Soft mask; (BB) Metal roll; (S11) Substrate imprint; (S12) Substrate etching; (S13) Metal deposition/resin layer removal; (S14) Film reverse-imprint; (S15) Lower film adhesion; (S16) Molding; (S21) Roll-mask adhesion; (S22) Roll exposure; (S23) Roll step-rotation; (S31) Non-exposed photosensitizer removal; (S32) Metal deposition; (S33) Photosensitizer removal

摘要翻译： 目的：提供一种软掩模和辊模的制造方法和使用其的曝光装置，以在辊模的表面上形成图案，从而获得低成本的辊模，其用于卷 -roll印记过程。 构成：软掩模的制造方法包括：在树脂层上转印印模图案的步骤; 去除树脂层的剩余层的步骤（S12）; 通过图案蒸发基板上的金属并除去树脂层的步骤（S13）; 通过向基板的一侧施加压力来在树脂层的一侧上转印金属图案的步骤; 以及用与树脂膜相同的材料向下膜施加压力的步骤。 （附图标记）（AA）软掩模; （BB）金属卷; （S11）基板印记; （S12）基板蚀刻; （S13）金属沉积/树脂层去除; （S14）胶片倒印; （S15）较低的膜附着力; （S16）成型; （S21）卷帘密封; （S22）卷曝; （S23）滚动步进旋转; （S31）非曝光光敏剂去除; （S32）金属沉积; （S33）去除光敏剂

公开(公告)号：KR1020120091478A

公开(公告)日：2012-08-17

申请号：KR1020127020219

申请日：2004-12-15

申请人： 가부시키가이샤 니콘

发明人： 니시이야스후미 ,  시라이시겐이치 ,  고노히로타카

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  H01L21/0273 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2047

摘要： 이 스테이지 장치 (PST) 는, 기판 (P) 을 유지하는 기판 유지면 (33A) 을 갖는 홀더 (PH) 와, 홀더 (PH) 를 지지하여 이동하는 스테이지 (52) 를 구비하고, 또한, 홀더 (PH) 근방에 배치되며, 적어도 일부가 친액성을 갖는 친액부 (3, 5) 를 갖고, 친액부 (3, 5) 를 사용하여 액체 (1) 를 회수하는 회수 장치 (60) 를 구비한다. 그 결과, 투영 광학계와 기판 사이를 액체로 채워서 노광 처리하는 경우에 있어서도, 기판과 홀더 사이에 액체가 침입하는 경우가 방지된다.

公开(公告)号：KR1020110124360A

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：KR1020117023477

申请日：2006-09-14

申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.

发明人： 빌란트마르코잔자코 ,  스틴브린크스티즌빌렘카렐헤르만 ,  데보에르귀도 ,  자거렘코 ,  카스텔리즌아욱제아리안느안네떼

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC分类号： G03F7/2014 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70991

摘要： 본 발명은, 상을 타겟 표면으로 투영하기 위한 노광 기구로 전자 상 패턴이 전달되며, 상기 노광 기구는 노광 투영(exposure projection)을 제어하기 위한 제어 유닛을 포함하고, 상기 제어 유닛은 상기 노광 기구의 투영 공간 내에 적어도 부분적으로 배치되어 있는 한편, 광신호에 의해 제어 데이터가 제공되고, 상기 광신호는 상기 제어 유닛의 감광부로 방사되는 변조된 광 비임을 포함하는 자유 공간 광학 연결기를 사용함으로써 상기 제어 유닛에 연결되는 것인 리소그라피 시스템으로서, 변조된 광 비임은, 상기 감광부 상에의 상기 광 비임을 축선상으로 입사하기 위해 구멍이 뚫린 거울을 이용하여 상기 감광부에 연결되며, 상기 거울의 하나 또는 복수의 구멍은 상기 노광 투영의 통과를 위해 마련되어 있는 것인 리소그라피 시스템에 관한 것이다.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻系统，其中电子图像图案被传送到用于将图像投射到目标表面的曝光工具，所述曝光工具包括用于控制曝光投影的控制单元，所述控制单元至少部分地包括在 所述曝光工具的投影空间，并且通过光信号提供控制数据，所述光信号通过使用自由空间光学互连而耦合到所述控制单元，所述自由空间光学互连包括发射到光敏部分的光敏部分的调制光束 所述控制单元，其中所述调制光束使用用于所述光束在所述光敏部分上的所述光束的轴入射的孔镜耦合到所述光敏部分，所述反射镜的孔可选地设置用于所述光敏部分的通过 曝光预测。

公开(公告)号：KR1020110015652A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：KR1020107029752

申请日：2009-05-29

申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

发明人： 예,준 ,  차오,유 ,  구센스,로날드 ,  샤오,웬진 ,  쿤멘,짐

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： B29C67/0088 ,  B29C64/386 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081 ,  G03F7/2014 ,  H01L21/0274

摘要： 포토리소그래피 공정들을 튜닝하는 시스템들 및 방법들이 개시된다. 튜닝가능한 파라미터들의 일 세트에 대해 타겟 스캐너의 감도를 정의하는 타겟 스캐너의 모델이 유지된다. 변별적 모델은 기준으로부터의 타겟 스캐너의 편차들을 나타낸다. 타겟 스캐너는 변별적 모델 및 기준 스캐너의 세팅들에 기초하여 튜닝될 수 있다. 관련 스캐너 군의 성능은 기준 스캐너의 성능에 대해 특성화될 수 있다. 변별적 모델들은 이미징 동작의 차이를 시뮬레이션하는데 사용될 수 있는 파라미터 오프셋들 및 다른 차이들과 같은 정보를 포함할 수 있다.

公开(公告)号：KR100849093B1

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：KR1020010071134

申请日：2001-11-15

申请人： 엘지디스플레이 주식회사

发明人： 신중섭

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/7035

摘要： 본 발명은 스캔수를 줄일 수 있는 노광기에 관한 것이다.
본 발명에 따른 노광기는 기판 상에 형성되는 패턴의 형태를 결정하는 마스크; 및 상기 기판 상부에 상기 마스크가 위치하도록 상기 마스크를 지지하는 적어도 2개의 진공패드쌍들을 구비하며; 상기 적어도 2개의 진공패드쌍들은, 상기 마스크의 폭방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 소정간격 중첩되게 형성되는 제1패드쌍과, 상기 마스크의 길이방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 비중첩되게 형성되는 제2패드쌍을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020080022252A

公开(公告)日：2008-03-11

申请号：KR1020060085433

申请日：2006-09-06

申请人： 삼성전기주식회사

发明人： 홍명호 ,  나승현 ,  이혁수 ,  이춘근 ,  이상문 ,  조재춘 ,  이정우 ,  곽정복

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G03F7/2012 ,  G03F7/2014 ,  H05K3/1258

摘要： A manufacturing method of an imprinting stamper is provided to reduce the number of stampers and the number of imprinting processes by forming a multi-stepped pattern. A first step(20,21) corresponding to a via hole is inserted into an etching target layer by etching selectively the etching target layer of a substrate including an etch stop layer. A second step(22,23) corresponding to the circuit pattern is inserted and an end of the first step is connected to the etch stop layer by etching selectively the etching target layer. A molding material(30) is laminated on the substrate in order to be filled in the first and second steps. The molding material is separated from the substrate. The etching target layer includes a silicon substrate(10). The etch stop layer includes a glass substrate(9).

摘要翻译： 提供一种压印模具的制造方法，通过形成多台阶图案来减少压印机的数量和压印过程的数量。 对应于通孔的第一步骤（20,21）通过选择性地蚀刻包括蚀刻停止层的衬底的蚀刻目标层而被插入到蚀刻目标层中。 插入对应于电路图案的第二步骤（22,23），并且通过选择性地蚀刻蚀刻目标层将第一步骤的末端连接到蚀刻停止层。 将成型材料（30）层压在基板上以便填充在第一和第二步骤中。 模塑材料与基材分离。 蚀刻目标层包括硅衬底（10）。 蚀刻停止层包括玻璃基板（9）。