公开(公告)号：KR1020170034303A

公开(公告)日：2017-03-28

申请号：KR1020160087543

申请日：2016-07-11

Applicant: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스

Inventor： 이케다후미히코

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67718 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/682 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68742

Abstract: [과제] 기판을부상시킨부상스테이지로부터기판을반송하면서반송중의기판에대해처리를실시하는기판처리장치에있어서, 기판의정렬처리및 부상스테이지로의기판의이재처리를적정화함으로써기판처리장치의택트를단축시킨다. [해결수단] 기판을부상시키는부상스테이지와, 부상스테이지로부터기판을받아반송하는반송기구와, 반송기구에의해반송되는기판에대해처리를실시하는처리기구와, 부상스테이지에기판을이재하는이재기구를구비하고, 이재기구는, 반송되어오는기판을부상시켜받아들이는수용부상부와, 수용부상부에의해부상되어있는기판을정렬시키는정렬부와, 정렬부에의해정렬된기판을유지하는유지부와, 유지부를부상스테이지로이동시키는구동부를구비하고있다.

Abstract translation: [问题]在传送从悬浮阶段的基片，其中在所述基板处理装置中的基板，用于转移的基板进行处理的部分，基板处理装置的生产节拍，利用基板输送过程的优化在一个给对准处理和基板的悬浮阶段 缩短。 [解决问题的手段]，并与损伤到衬底的悬浮阶段，输送机构，用于输送从所述悬浮级接收该基板的处理，用于对基板进行处理，以通过所述输送装置机构，异种到不同基材的悬浮阶段机制来传送 提供，以及不同材质机构，并且受体是弹跳即将新兴衬底损伤部分，用于对准一个由接收部部分受伤的基板，用于保持由单元排列单元，用于对准的衬底保持的对准部分接受 以及用于将保持单元移动到浮动台的驱动单元。

公开(公告)号：KR1020170031175A

公开(公告)日：2017-03-20

申请号：KR1020177003573

申请日：2015-05-05

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 베르세시,토마소 ,  왕,주오퀴안 ,  화이트,존엠.

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/68 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01J37/32366 ,  H01J37/32715 ,  H01L21/682 ,  H01L51/0011

Abstract: 마스크를기판에척킹하기위한프로세싱시스템이제공된다. 프로세싱시스템은프로세스챔버, 및프로세스챔버에배치된자기척(magnetic chuck)을포함한다. 자기척은척킹표면, 하나또는그 초과의회전메커니즘들, 및척킹표면에대해서하나또는그 초과의할바크어레이들에배향된복수의자석들을포함한다. 각각의자석은 4개의방향들중 하나로배향된북극(north pole)을갖는다. 하나또는그 초과의회전메커니즘들은, 자석들중 적어도하나의북극의방향을바꾸기위해커플링된다.

Abstract translation: 提供了一种用于将掩模夹持到衬底上的处理系统。 处理系统包括处理室和设置在处理室中的磁性卡盘。 磁性卡盘包括卡盘表面，一个或一个或多个在阵列的树皮定向成比用于过量的旋转机构更大的磁体，和夹持表面。 每个磁体都有一个朝向四个方向之一的北极。 一个或多个旋转机构被联接以改变至少一个磁体的方位。

公开(公告)号：KR1020160128470A

公开(公告)日：2016-11-07

申请号：KR1020167030400

申请日：2013-05-07

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 로랑,티보 ,  브룩스,루드 ,  코르티에,로저 ,  호우벤,마틴 ,  야콥스,요한네스 ,  라파레,레이몬드 ,  렘펜스,한 ,  오베르캄프,짐 ,  피에터즈,게르벤 ,  폴렛,테오도루스 ,  시몬스,빌헬무스 ,  스테펜스,코엔 ,  트롬프,지그프리트 ,  비,반부옹

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/682

Abstract: 대상물을지지하기위한대상물테이블에관한것이며, 상기대상물테이블은지지몸체, 대상물을유지하기위한대상물홀더, 상기대상물홀더의에지에인접한개구부, 및통로를통해상기개구부와유체연통하는채널을갖고, 상기채널은제 1 재료에의해정의되며, 상기제 1 재료는상기통로를정의하는제 2 재료와상이하다.

Abstract translation: 一种用于支撑物体的物体表，具有支撑体的物体表，用于保持物体的物体保持器，邻近物体保持器的边缘的开口以及经由通道与开口流体连通的通道，其中通道 由与限定通道的第二材料不同的第一材料限定。

公开(公告)号：KR101669389B1

公开(公告)日：2016-10-25

申请号：KR1020160009949

申请日：2016-01-27

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 나카가와가즈키 ,  하세가와노리야스 ,  무라카미요스케 ,  마츠모토다카히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  H01L21/56 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/682 ,  B29C35/0805 ,  B29C59/026 ,  B29C59/16 ,  B29C2035/0822 ,  B29K2101/00 ,  B29L2009/00 ,  B29L2031/34 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6838 ,  H01L22/20 ,  H01L23/544

Abstract: 본발명의임프린트방법은, 상기기판을유지면상에유지하는유지단계와, 상기패턴이상기기판상에형성되어있는기판측패턴영역의형상을변형시키는변형단계와, 변형된상기기판측패턴영역상의수지와상기몰드를접촉시키는접촉단계와, 상기수지를경화시키는경화단계와, 상기몰드와접촉되어있는상기수지로부터상기몰드를분리하는몰드-분리단계를포함한다. 여기서, 상기변형단계에있어서는, 상기기판측패턴영역에대응하는기판의이면과상기유지면사이에작용하는최대정지마찰력보다큰 변형력이기판의표면을따르는방향으로상기기판에가해진다.

Abstract translation: 压印装置通过使用模具在基板上形成压印材料的图案。 基板保持单元通过基板和保持表面之间的吸力保持基板，并且包括用于以第一抽吸力吸附基板的第一区域的后表面的第一抽吸单元和用于吸附后端的第二抽吸单元 具有第二抽吸力的衬底的第二区域的表面。 当在第一区域上形成压印材料的图案时，变形机构沿着保持表面的方向使第一区域的形状变形。 调节单元调节第一和第二抽吸力。 在通过变形机构使第一区域的形状变形期间，第一吸力在至少一段时间内小于第二吸力。

公开(公告)号：KR101607852B1

公开(公告)日：2016-04-01

申请号：KR1020150045594

申请日：2015-03-31

Applicant: 에스엔유 프리시젼 주식회사

Inventor： 이명선 ,  문정일 ,  김도훈 ,  오미현 ,  박희재

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/682 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/683

Abstract: 본발명은프리얼라인장치및 그의방법에관한것으로서, 상호대향되는제1변과, 상기제1변과수직하는방향으로상호대향되는제2변을포함하는피정렬기재의프리얼라인장치에있어서, 상기피정렬기재의하방에마련되어상기피정렬기재가거치되는거치부; 상기제1변또는상기제2변을상호근접하는방향으로가압하는가압부; 상기제1변또는상기제2변이승강되도록상기거치부를승강시키는승강구동수단; 및상기제1변이거치된거치부가상승시상기가압부는상기제1변또는상기제2변을가압하며, 상기제2변이거치된거치부가상승시상기가압부는상기제1변또는제2변을가압하여상기피정렬기재를정렬하는제어부;를포함하는것을특징으로한다. 이를통해, 대면적기판에서도기판의위치가변형되지않게중심을잡아주는프리얼라인작업이가능하도록제어하여중심이틀어져서로딩된대면적기판을정렬시킬수 있는프리얼라인장치및 그의방법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于预对准的装置和方法。 本发明的装置，在用于对准包括第一侧面的第一侧面和第一侧面的第二侧面的基准材料进行预对准的装置中，包括：保持单元，其放置在待对准的基底材料的底部 以保持要对准的基材; 加压单元，用于在更靠近的方向对第一侧或第二侧加压; 提升装置，用于升高保持单元以升高第一侧或第二侧; 以及控制单元，通过使所述加压单元在所述第一侧被保持的所述保持单元上升的同时使所述加压单元加压所述第一侧或所述第二侧，使所述基材对准，并且使所述加压单元对所述第一面或所述第二面加压， 当保持第二面的保持单元上升时，第二侧。 因此，本发明允许控制预对准工作以保持中心，以防止基板的位置即使在大面积基板中也变形，并且可以使装载有中心的大面积基板失真。

公开(公告)号：KR1020150078203A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：KR1020130167387

申请日：2013-12-30

Applicant: 인베니아 주식회사

Inventor： 박준태

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68785 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/682 ,  H01L2223/54426

Abstract: 다양한크기의기판을지지할수 있도록한 본발명에따른기판척은본 발명에따른기판척은정반, 상기정반의일면에배열되는제 1지지부, 제 1방향으로로딩되는상기제 1기판을상기제 1지지부와함께제 1방향으로지지하는제 2지지부및 상기제 1기판과다른크기를가지는제 2기판을상기제 1지지부와함께상기제 1방향과다른제 2방향으로지지하는제 3지지부를포함하므로, 단일챔버를이용하여다양한크기의기판을처리하여장비투자비용을절감되고생산성이향상되는효과가있다.

Abstract translation: 根据本发明，用于支撑各种尺寸的基板的基板卡盘包括：表面板; 位于表面板一侧的第一支撑部分; 第二支撑部分，用于利用所述第一支撑部分在第一方向上支撑第一基板，其中所述第一基板沿所述第一方向被加载; 以及第三支撑部分，用于在与第一支撑部分不同于第一方向的第二方向上支撑第二基板，其中第二基板具有与第一基板不同的尺寸。 因此，基板卡盘通过使用单个室来处理各种尺寸的基板来降低设备的成本并提高生产率。

公开(公告)号：KR1020150057234A

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：KR1020130140303

申请日：2013-11-19

Applicant: 주식회사 쓰리디플러스

Inventor： 김근정 ,  손영웅 ,  박현우

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027 ,  G03F1/42

CPC classification number: H01L21/682 ,  G02F1/1333 ,  G02F2001/133354 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/6838 ,  Y10S414/136

Abstract: 본발명의제1 실시예에따른기판및 마스크정렬장치는, 기판을지지하는기판지지부와, 기판지지부의상부에위치하며, 마스크를고정하는마스크플레이트와, 마스크플레이트의상부에연결되며, 마스크플레이트를수평방향으로회전또는병진이동시키는마스크플레이트구동부와, 마스크플레이트의상부에이격되어마스크플레이트와평행하게배치되며, 하부면에마스크플레이트구동부가고정결합되는정렬플레이트와, 정렬플레이트의적어도하나의일측에연결되고, 정렬플레이트의적어도하나의일측을각각상하로이동시키는적어도하나의정렬플레이트구동부및 정렬플레이트와인접하게위치하며, 기판의위치를측정하는적어도하나의기판위치측정부를포함하며, 마스크플레이트구동부또는적어도하나의정렬플레이트구동부는적어도하나의기판위치측정부의측정결과에따라마스크플레이트또는정렬플레이트를이동시켜기판에대한마스크의위치를정렬하는것을특징으로한다.

Abstract translation: 根据本发明的第一实施例，布置基板和掩模的装置包括：支撑基板的基板支撑部; 放置在基板支撑部的上部的掩模板，并固定掩模; 掩模板操作部分，连接到所述掩模板的上部，并且在所述水平方向上平移或旋转所述掩模板; 通过与所述掩模板的上部分离而与所述掩模板平行放置的布置板，并且具有与所述掩模板操作部分组合的下表面; 至少一个布置板操作部分，其连接到所述排列板的至少一个侧面，并且在所述排列板的至少一个侧面上下移动; 以及至少一个基板位置测量部件，其放置在与所述布置板相邻的位置，并且测量所述基板的位置。 掩模板操作部件或布置板操作部件根据基板位置测量部件的测量结果移动掩模板或布置板，以便布置基板的掩模的位置。

公开(公告)号：KR1020150034262A

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：KR1020157003904

申请日：2010-12-20

Applicant: 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하

Inventor： 윔프린거,마르쿠스 ,  바겐레이트너,토마스 ,  필베르트,알렉산더

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/683 ,  H01L22/12 ,  H01L21/682 ,  H01L2221/683

Abstract: 본발명은웨이퍼의장착및 수용을위한수용수단에관한것으로, -장착표면(1o), -장착표면(1o) 상에웨이퍼를장착하기위한장착수단및 -웨이퍼의국부적인및/또는전체적인뒤틀림의능동, 특히국부적으로제어가능한, 적어도국부적인교정을위한교정수단(3, 4, 5, 6)을포함한다. 게다가, 본발명은전술된수용수단을사용하여제1 웨이퍼와제2 웨이퍼를정렬하기위한장치및 방법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种接收装置，用于安装和容纳所述晶片安装表面（1O）， - 安装装置，用于安装在晶片上的安装表面（1O），以及 - 所述晶片的局部和/或整体失真 用于至少局部校准的活动的，尤其是可在本地控制的校准装置（3,4,5,6）。 此外，本发明涉及一种使用上述接收装置对准第一晶片和第二晶片的装置和方法。

公开(公告)号：KR1020140129750A

公开(公告)日：2014-11-07

申请号：KR1020130048441

申请日：2013-04-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김기성 ,  정태성

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/28

CPC classification number: H01L21/283 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/682

Abstract: 복수의 웨이퍼 홀더가 배열된 피증착면을 갖는 웨이퍼 홀더 어셈블리를 마련하는 단계와, 상기 복수의 웨이퍼 홀더 각각에 복수의 반도체 소자를 위한 반도체 적층체가 형성된 웨이퍼를 배치하는 단계와, 상기 피증착면을 2 이상의 영역으로 분할하여, 상기 분할된 영역 각각에 메탈 마스크를 배치하는 단계와, 상기 메탈 마스크를 이용하여 상기 반도체 적층체의 각 웨이퍼 상에 전극을 증착하는 단계를 포함하는 메탈 마스크를 이용한 전극증착방법을 제공한다.

Abstract translation: 使用金属掩模的电极沉积方法包括以下步骤：制备其上布置有多个晶片保持器的沉积表面的晶片保持器组件; 设置在每个晶片保持器上形成有用于多个半导体器件的半导体层叠体的晶片; 通过将沉积的表面分成两个或更多个区域来分割每个区域上的金属掩模; 以及通过使用所述金属掩模在所述半导体层叠体的每个晶片上沉积电极。

公开(公告)号：KR101410984B1

公开(公告)日：2014-06-23

申请号：KR1020130026121

申请日：2013-03-12

Applicant: 주식회사 선익시스템

Inventor： 김성호

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/682 ,  G02F2001/133354 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792 ,  Y10S414/136

Abstract: The present invention relates to a structure to control the position of a shaft in a substrate alignment apparatus, comprising: a shuttle, on top of which a substrate and a plate are seated in order, to be transferred to carry out processes inside a chamber; a support on the bottom of the chamber to lift the shuttle or the plate by ascending; a position control member on the top of the support to accurately fixate the position of the shuttle or the plate when the shuttle or the plate ascends; and an insertion groove on the bottom surface of the shuttle or the plate, into which the control member is inserted when the support ascends. Therefore, the present invention enables the substrate to be accurately attached to or detached from a mask by precisely controlling the position of the shuttle or the plate when the substrate and the mask are aligned to be boned to each other.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于控制基板对准装置中的轴的位置的结构，其特征在于，包括：梭子，其上面依次安置基板和板，以便进行室内的处理; 在舱底部的支撑件通过升高来提升梭子或板块; 位于所述支架顶部的位置控制构件，以便当梭子或板上升时准确地固定梭子或板的位置; 以及在梭子或板的底表面上的插入槽，当支撑件上升时，控制构件插入其中。 因此，本发明通过在将基板和掩模对准而彼此排列时，通过精确地控制梭子或板的位置，能够使基板准确地与掩模附着或分离。