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公开(公告)号:KR1020120049065A
公开(公告)日:2012-05-16
申请号:KR1020100110634
申请日:2010-11-08
申请人: 엘지디스플레이 주식회사
发明人: 김지훈
IPC分类号: G02F1/13 , H01L21/205
CPC分类号: G02F1/1303 , H01L21/3065 , H01L21/67161 , H01L39/2438
摘要: PURPOSE: A plasma enhanced chemical vapor deposition device for a liquid crystal display device is provided to have strong features against thermal deformation and form a good film. CONSTITUTION: An edge of a backing plate(234) has a stepped structure. A shower head(230) is arranged in a lower part of the backing plate. A susceptor(160) is separated from the shower head. The susceptor supports a substrate. A coupling unit is formed in an edge of the shower head. The coupling unit is vertically coupled with a side of the backing plate.
摘要翻译: 目的:提供一种用于液晶显示装置的等离子体增强化学气相沉积装置,以具有抵抗热变形的强大特征并形成良好的膜。 构成:背板(234)的边缘具有阶梯状结构。 淋浴头(230)布置在背板的下部。 感受器(160)与淋浴头分离。 基座支撑基板。 联接单元形成在淋浴喷头的边缘。 联接单元与背板的一侧垂直联接。
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公开(公告)号:KR101093085B1
公开(公告)日:2011-12-13
申请号:KR1020057001408
申请日:2003-07-23
IPC分类号: H01L39/00
CPC分类号: C23C16/45565 , C23C16/0209 , C23C16/0227 , C23C16/408 , C23C16/545 , H01L39/2438 , H01L39/248
摘要: 본 발명은 이동하는 테이프 위에 초전도체 층을 성장시키는데 사용되는 재료를 연속적으로 증착시킨다. 본 발명은 바람직하게는 테이프 기판을 일정한 속도로 분배 및 권취하기 위하여 각각 공급 릴 및 권취 릴을 사용한다. 본 발명은 바람직하게는 테이프 위에 초전도체 층을 형성하기 위한 일련의 단계들을 포함하며, 초전도체 층을 형성하는데 사용되는 테이프 기판 위에 1종 이상의 재료를 증착시키기 위한 하나 이상의 반응기 또는 반응 챔버, 및 초전도체와 금속 테이프 기판 사이 또는 초전도체 층들 사이에 버퍼층을 증착시키고 코팅 층을 증착시키기 위한 하나 이상의 챔버를 포함한다. 본 발명은 또한 바람직하게는 각각의 단계를 다른 단계로부터 단리시키기 위하여 단계들 사이에 전이 챔버를 사용한다.
테이프 기판, 초전도성 재료, 버퍼층, 전이 챔버, 코팅 층.-
公开(公告)号:KR1020170130489A
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:KR1020177030120
申请日:2016-03-16
申请人: 바스프 에스이
CPC分类号: H01L39/2425 , H01L39/2432 , H01L39/2435 , H01L39/2438 , H01L39/2451
摘要: 본발명은고온초전도체전선의제조방법에관한것이다. 특히, 본발명은이트륨또는희토류금속, 알칼리토금속, 및전이금속을포함하는박막을 700℃이상까지가열하고, 상기박막을 300℃이하까지냉각시킴을포함하되, 가열및 냉각이 2회이상수행되는, 고온초전도체의제조방법에관한것이다.
摘要翻译: 本发明涉及一种制造高温超导体线材的方法。 特别地,本发明是钇或加热稀土类金属,薄膜包括碱土金属和过渡金属,以700℃以上,并且其包括,但薄膜锡金冷却至不高于300℃时,加热和冷却进行两次或更多次, 一种制造高温超导体的方法。
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公开(公告)号:KR1020050048590A
公开(公告)日:2005-05-24
申请号:KR1020057001408
申请日:2003-07-23
IPC分类号: H01L39/00
CPC分类号: C23C16/45565 , C23C16/0209 , C23C16/0227 , C23C16/408 , C23C16/545 , H01L39/2438 , H01L39/248
摘要: The invention continuously deposits materials used to grow a superconductor layer onto a moving tape. The invention preferably uses a pay-out reel (401) and take-up reel (406) to respectively dispense and spool the tape substrate at a constant rate. The invention preferably uses a series of stages to form the superconductor layer on the tape, and includes at least one reactor or reaction chamber (601c) to deposit one or more materials onto the tape substrate that is used to form the superconductor layer, and one or more chambers (601a, 601b) to deposit buffer layers between the superconductor and the metal tape substrate or between layers of superconductor, as well as for the deposition of coating layers. The invention also preferably uses transition chambers (701) between the stages to isolate each stage from the other stages.
摘要翻译: 本发明将用于生长超导体层的材料连续地沉积到移动的带上。 本发明优选使用发放卷轴(401)和卷取卷轴(406)分别以恒定速率分配和卷绕带基片。 本发明优选使用一系列步骤在带上形成超导体层,并且包括至少一个反应室或反应室(601c),以将一种或多种材料沉积到用于形成超导体层的带基材上,一个 或更多的腔室(601a,601b)以在超导体和金属带衬底之间或超导体层之间沉积缓冲层,以及用于沉积涂层。 本发明还优选地在级之间使用过渡室(701)以将每个级与其它级隔离。
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公开(公告)号:KR100478123B1
公开(公告)日:2005-03-21
申请号:KR1020037002481
申请日:2001-08-31
IPC分类号: C30B29/22
CPC分类号: H01L39/2438 , C30B19/04 , C30B23/002 , C30B23/02 , C30B25/02 , C30B29/22 , C30B29/225
摘要: 단결정 산화물 박막의 제조방법에 있어서, 성막하는 산화물 박막과 같은 조성의 산화물 박막을 기판 상에 종층(種層)으로서 퇴적하는 공정; 기판을 가열함으로써 용융하여 액체로 되고, 성막하는 산화물을 용융할 수 있는 물질로 이루어지는 박막을 종층 상에 퇴적하는 공정과; 기판을 가열하여 액체층을 형성하는 공정 및; 이 액체층을 통해 산화물의 퇴적종(堆積種)을 종층 상에 퇴적하여 단결정 산화물 박막을 기상법에 의해 성막하는 공정으로 이루어지는 3상 에피택셜법에 있어서, 단결정 산화물 박막을 기상법에 의해 성막하는 공정에 있어서의 액정층 상의 산소분압을 1.0∼760 Torr로 한다.
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公开(公告)号:KR1020040014642A
公开(公告)日:2004-02-14
申请号:KR1020040005350
申请日:2004-01-28
申请人: 엘지전자 주식회사
IPC分类号: H01L39/12
CPC分类号: H01L39/2487 , H01L39/226 , H01L39/2435 , H01L39/2438
摘要: PURPOSE: A method for fabricating a super-conducting MgB2 mask is provided to form the super-conducting MgB2 mask by reacting magnesium of a gas state with a boron layer deposited on a substrate. CONSTITUTION: A substrate including a boron layer is loaded on a heater within a chamber(1). A purging process is performed by using inert gas of a high degree of purity. The substrate is heated by operating the heater. Magnesium is induced into the substrate. The substrate is heated under the temperature of 1000 degrees centigrade. The magnesium is induced as much as 1 to 2000sccm. The temperature of a chiller is o 50 to 500 degrees centigrade. The pressure of the chamber(1) is 0.01 mTorr to 100 Torr.
摘要翻译: 目的:提供一种制造超导MgB2掩模的方法,通过使气态镁与沉积在基底上的硼层反应形成超导MgB2掩模。 构成:将包含硼层的基板装载在室(1)内的加热器上。 通过使用高纯度的惰性气体进行清洗过程。 通过操作加热器来加热基板。 镁被诱导到底物中。 基板在1000摄氏度的温度下加热。 镁的诱导高达1〜2000sccm。 冷水机的温度为50至500摄氏度。 室(1)的压力为0.01mTorr至100Torr。
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公开(公告)号:KR1019920007799B1
公开(公告)日:1992-09-17
申请号:KR1019880011107
申请日:1988-08-31
发明人: 야마자끼슌페이
IPC分类号: H01L39/24
CPC分类号: H01L39/2438 , H01L39/2432 , H01L39/2435 , H01L39/2451
摘要: 내용 없음.
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公开(公告)号:KR1019920003032B1
公开(公告)日:1992-04-13
申请号:KR1019890004198
申请日:1989-03-31
申请人: 피피지 인더스트리즈 인코포레이티드
发明人: 조세핀샤논브레이닝거
CPC分类号: H01L39/2454 , C03C17/245 , C03C17/25 , C03C2217/23 , C03C2218/11 , C03C2218/15 , C03C2218/152 , C04B41/5074 , C23C16/408 , C23C18/1216 , C23C18/1245 , H01L39/2425 , H01L39/2429 , H01L39/2438 , H01L39/2441 , C04B41/4505
摘要: 내용 없음.
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公开(公告)号:KR101372059B1
公开(公告)日:2014-03-07
申请号:KR1020077016832
申请日:2005-12-22
申请人: 슈파컨덕터 테크놀로지스 인코포레이티드
CPC分类号: H01L39/143 , C04B35/4508 , C04B2235/3215 , C04B2235/3224 , C04B2235/85 , C04B2235/96 , H01L39/126 , H01L39/128 , H01L39/2432 , H01L39/2438 , H01L39/2454 , H01L39/2458 , H01L39/2461 , H01P1/20336 , H01P1/20381 , Y10S505/776 , Y10S505/777 , Y10S505/778 , Y10S505/779 , Y10S505/78 , Y10T428/24355 , Y10T428/24942 , Y10T428/26 , Y10T428/266
摘要: 본 발명의 박막은 마이크로파 및 RF 적용예에 대하여 특히 최적화된 고온 초전도(HTS: high temperature superconducting) 박막이다. 특히, 본 발명은 마이크로파/RF 적용예에 대하여 최적화시킨 막을 생성하기 위하여 1:2:3 화학량론으로부터의 유의적인 편차를 갖는 조성에 관한 것이다. RF/마이크로파 HTS 적용예는 HTS 박막이 우수한 마이크로파 성질, 특히 낮은 표면 저항,
R s 및 높은 선형 표면 리액턴스, X
s , 즉 높은
J
IMD 를 필요로 한다. 그래서, 본 발명은 이와 같은 박막으로부터 생성된 마이크로파 회로의 물리적 조성, 표면 형태학, 초전도 성질 및 성능 특징을 특징으로 한다.-
公开(公告)号:KR1020100063292A
公开(公告)日:2010-06-11
申请号:KR1020080121751
申请日:2008-12-03
申请人: 엘지디스플레이 주식회사
CPC分类号: H01L21/56 , H01L39/2438 , H01L41/257 , H01L51/0097 , H01L2924/13069
摘要: PURPOSE: A top emission type organic electro-luminescence element and a method for manufacturing the same are provided to minimize the reflection of external light and improve contrast. CONSTITUTION: A semiconductor layer(201) is formed on a first substrate(101) which is composed of silicon. A gate insulation layer(203) is formed on the semiconductor layer. A gate electrode(205) and a gate wire are formed on the upper side of the gate insulation layer in response with the semiconductor layer. A first interlayer insulation layer(207a) is formed on the entire surface of the gate electrode and the gate wire.
摘要翻译: 目的:提供顶部发射型有机电致发光元件及其制造方法,以最小化外部光的反射并改善对比度。 构成:半导体层(201)形成在由硅构成的第一基板(101)上。 在半导体层上形成栅极绝缘层(203)。 响应于半导体层,在栅极绝缘层的上侧形成栅电极(205)和栅极线。 在栅电极和栅极线的整个表面上形成第一层间绝缘层(207a)。
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