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公开(公告)号:TW201743450A
公开(公告)日:2017-12-16
申请号:TW105118481
申请日:2016-06-14
申请人: 江文章
发明人: 江文章
IPC分类号: H01L29/778
CPC分类号: H01L21/8252 , H01L21/0254 , H01L21/0274 , H01L21/26546 , H01L21/283 , H01L21/30604 , H01L21/3085 , H01L21/324 , H01L27/0605 , H01L27/0629 , H01L27/085 , H01L27/0883 , H01L29/0684 , H01L29/1066 , H01L29/2003 , H01L29/205 , H01L29/207 , H01L29/402 , H01L29/41766 , H01L29/42316 , H01L29/66212 , H01L29/66462 , H01L29/7783 , H01L29/861 , H01L29/872
摘要: 本發明係關於一種Ga-face III族/氮化物磊晶結構及其主動元件與其製作方法。在此Ga face之AlGaN/GaN磊晶結構包含有一基底;一位於基底上之i-GaN(C-doped)層;一位於i-GaN(C-doped)層上之i-Al(y)GaN緩衝層;一位於i-Al(y)GaN緩衝層上之i-GaN Channel層;以及一位於i-GaN Channel層上之i-Al(x) GaN層,其中該X=0.1-0.3,該y=0.05-0.75。在元件設計上藉由P-GaN倒置梯型閘極或陽極結構使Ga-face III族/氮化物磊晶結構內之2DEG在P-GaN倒置梯型結構下方處能呈現空乏狀態,以製作出P型氮化鎵閘極加強型AlGaN/GaN高速電子遷移率電晶體、P型氮化鎵陽極AlGaN/GaN蕭特基位障二極體或混合型元件。
简体摘要: 本发明系关于一种Ga-face III族/氮化物磊晶结构及其主动组件与其制作方法。在此Ga face之AlGaN/GaN磊晶结构包含有一基底;一位于基底上之i-GaN(C-doped)层;一位于i-GaN(C-doped)层上之i-Al(y)GaN缓冲层;一位于i-Al(y)GaN缓冲层上之i-GaN Channel层;以及一位于i-GaN Channel层上之i-Al(x) GaN层,其中该X=0.1-0.3,该y=0.05-0.75。在组件设计上借由P-GaN倒置梯型闸极或阳极结构使Ga-face III族/氮化物磊晶结构内之2DEG在P-GaN倒置梯型结构下方处能呈现空乏状态,以制作出P型氮化镓闸极加强型AlGaN/GaN高速电子迁移率晶体管、P型氮化镓阳极AlGaN/GaN萧特基位障二极管或混合型组件。
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公开(公告)号:TWI572034B
公开(公告)日:2017-02-21
申请号:TW104109854
申请日:2015-03-26
申请人: 江文章
发明人: 江文章
IPC分类号: H01L29/20 , H01L29/66 , H01L29/778
CPC分类号: H01L29/66462 , H01L21/8236 , H01L21/8252 , H01L23/291 , H01L23/3185 , H01L27/0255 , H01L27/0605 , H01L27/0629 , H01L27/0883 , H01L29/2003 , H01L29/205 , H01L29/207 , H01L29/513 , H01L29/66143 , H01L29/66212 , H01L29/7786 , H01L29/7787 , H01L29/868 , H01L29/872
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公开(公告)号:TW201635524A
公开(公告)日:2016-10-01
申请号:TW104109854
申请日:2015-03-26
申请人: 江文章
发明人: 江文章
IPC分类号: H01L29/20 , H01L29/66 , H01L29/778
CPC分类号: H01L29/66462 , H01L21/8236 , H01L21/8252 , H01L23/291 , H01L23/3185 , H01L27/0255 , H01L27/0605 , H01L27/0629 , H01L27/0883 , H01L29/2003 , H01L29/205 , H01L29/207 , H01L29/513 , H01L29/66143 , H01L29/66212 , H01L29/7786 , H01L29/7787 , H01L29/868 , H01L29/872
摘要: 本發明係揭露一種III族/氮化物之半導體元件,其包含:基板;一緩衝層,設置於基板上;一半導體堆疊結構,半導體堆疊結構設置於緩衝層上,半導體堆疊結構之上具有閘極、源極與汲極,且閘極與半導體堆疊結構間具有閘極絕緣層,形成一高速電子遷移電晶體;以及一鈍化膜,覆蓋高速電子遷移電晶體,鈍化膜具有複數開口,該鈍化膜之材料係氮氧化矽。
简体摘要: 本发明系揭露一种III族/氮化物之半导体组件,其包含:基板;一缓冲层,设置于基板上;一半导体堆栈结构,半导体堆栈结构设置于缓冲层上,半导体堆栈结构之上具有闸极、源极与汲极,且闸极与半导体堆栈结构间具有闸极绝缘层,形成一高速电子迁移晶体管;以及一钝化膜,覆盖高速电子迁移晶体管,钝化膜具有复数开口,该钝化膜之材料系氮氧化硅。
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公开(公告)号:TW201316997A
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:TW100138736
申请日:2011-10-25
申请人: 江文章
摘要: 本發明係提供一種於一個體中治療胃潰瘍及/或胃癌之方法,其包含施予該個體有效量之去殼薏苡子之醇萃取物。較佳地,去殼薏苡子之醇萃取物之乙酸乙酯分液具有較佳之治療胃潰瘍及/或胃癌之效果。
简体摘要: 本发明系提供一种于一个体中治疗胃溃疡及/或胃癌之方法,其包含施予该个体有效量之去壳薏苡子之醇萃取物。较佳地,去壳薏苡子之醇萃取物之乙酸乙酯分液具有较佳之治疗胃溃疡及/或胃癌之效果。
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公开(公告)号:TW202887S
公开(公告)日:1993-03-21
申请号:TW081308747
申请日:1992-11-18
申请人: 江文章
设计人: 江文章
摘要: 本創作係有關於一種氣派型沙發之嶄新外形設計。
敬請參閱第1~7圖所示,本創作之沙發椅背之頭靠及兩邊設計新穎特殊,且以人工力學之原理而設計,讓消費者坐的更舒適;再加上手靠及坐墊兩邊優美特異____造形設計,再配上整體之優美流線型條紋之設計,整體造型完全呈現高貴氣派、王者風範之風格,深具美感,諧調之配置,比起 鈞局所核准之申請案號第80300939號(請參閱附件1)及申請案號第80300940號(請參閱附件2),更具高貴典雅,相信更能剌激消費者之購買慾。
按「凡對於物品之形狀、花紋、色彩首先創作,適於美感之新式樣者得依法申請專利」專利法第一百十一條著有明文,爰依法申請新式樣專利,敬請 鈞局 貴審查委員准予本案新式樣專利,以鼓勵創作人再創作,至為感禱。简体摘要: 本创作系有关于一种气派型沙发之崭新外形设计。 敬请参阅第1~7图所示,本创作之沙发椅背之头靠及两边设计新颖特殊,且以人工力学之原理而设计,让消费者坐的更舒适;再加上手靠及坐垫两边优美特异____造形设计,再配上整体之优美流线型条纹之设计,整体造型完全呈现高贵气派、王者风范之风格,深具美感,谐调之配置,比起 钧局所核准之申请案号第80300939号(请参阅附件1)及申请案号第80300940号(请参阅附件2),更具高贵典雅,相信更能剌激消费者之购买欲。 按“凡对于物品之形状、花纹、色彩首先创作,适于美感之新式样者得依法申请专利”专利法第一百十一条着有明文,爰依法申请新式样专利,敬请 钧局 贵审查委员准予本案新式样专利,以鼓励创作人再创作,至为感祷。
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