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1.氧化物半導體裝置、製造氧化物半導體裝置之方法、具有氧化物半導體裝置之顯示裝置、及製造具有該氧化物半導體裝置之顯示裝置之方法 有权
简体标题: 氧化物半导体设备、制造氧化物半导体设备之方法、具有氧化物半导体设备之显示设备、及制造具有该氧化物半导体设备之显示设备之方法公开(公告)号:TWI562286B
公开(公告)日:2016-12-11
申请号:TW100136377
申请日:2011-10-06
发明人: 王盛民 , WANG, SEONG-MIN , 安其完 , AHN, KI-WAN , 尹柱善 , YOON, JOO-SUN , 金其弘 , KIM, KI-HONG
IPC分类号: H01L21/8232 , H01L21/28
CPC分类号: H01L27/1259 , H01L21/0206 , H01L21/32136 , H01L21/44 , H01L21/467 , H01L21/477 , H01L27/1225 , H01L29/42384 , H01L29/4908 , H01L29/66969 , H01L29/78618 , H01L29/7869 , H01L29/78696 , H01L2227/323
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公开(公告)号:TWI450394B
公开(公告)日:2014-08-21
申请号:TW100118997
申请日:2011-05-31
发明人: 金起弘 , KIM, KI-HONG , 金正晥 , KIM, JEONG-HWAN , 張龍在 , JANG, YONG-JAE , 金正賢 , KIM, JUNG-HYUN
CPC分类号: H01L29/41733 , H01L29/78609 , H01L29/78624 , H01L29/78696
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