圓筒型濺鍍靶用材料
    2.
    发明专利
    圓筒型濺鍍靶用材料 审中-公开
    圆筒型溅镀靶用材料

    公开(公告)号:TW201542843A

    公开(公告)日:2015-11-16

    申请号:TW104105832

    申请日:2015-02-24

    IPC分类号: C22C9/00 C23C14/34

    摘要: 一種銅或銅合金所構成的圓筒型濺鍍靶用材料,在外周面的結晶組織中,利用依據EBSD法所測定之每單位面積1mm2的單位總粒邊界長度LN和每單位面積1mm2的單位總特殊粒邊界長度LσN來定義特殊粒邊界長度比率LσN/LN時,在軸線O方向的兩端部之外周面和中央部之外周面所測定的前述特殊粒邊界長度比率LσN/LN平均值為0.5以上,且測定值分別在前述特殊粒邊界長度比率LσN/LN平均值之±20%的範圍內,再者,雜質元素之Si、C的含量總計為10質量ppm以下,O含量為50質量ppm以下。

    简体摘要: 一种铜或铜合金所构成的圆筒型溅镀靶用材料,在外周面的结晶组织中,利用依据EBSD法所测定之每单位面积1mm2的单位总粒边界长度LN和每单位面积1mm2的单位总特殊粒边界长度LσN来定义特殊粒边界长度比率LσN/LN时,在轴线O方向的两端部之外周面和中央部之外周面所测定的前述特殊粒边界长度比率LσN/LN平均值为0.5以上,且测定值分别在前述特殊粒边界长度比率LσN/LN平均值之±20%的范围内,再者,杂质元素之Si、C的含量总计为10质量ppm以下,O含量为50质量ppm以下。