-
公开(公告)号：TW201529861A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103142608
申请日：2014-12-08
Applicant: 三菱綜合材料股份有限公司 , MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Inventor： 熊谷訓 , KUMAGAI, SATOSHI , 園畠喬 , SONOHATA, TAKASHI , 大戶路暁 , OHTO, MICHIAKI
CPC classification number: C22B15/006 , B22D1/00 , B22D7/005 , B22D11/00 , B22D11/004 , B22D11/108 , B22D11/11 , B22D11/116 , B22D21/00 , B22D21/005 , C22B9/103 , C22C1/02 , C22C9/00 , C23C14/14 , C23C14/3414 , H01J37/3429
Abstract: 於此含有Ca的銅合金之製造方法中，其特徵為具有對銅熔融金屬添加Ca的Ca添加步驟，在該Ca添加步驟中，係使用金屬Ca(21)的表面被覆有銅(22)的銅被覆Ca材(20)。於該銅被覆Ca材(20)中，被覆金屬Ca(21)的銅(22)的含氧量較佳設為未達100質量ppm。
Abstract in simplified Chinese: 于此含有Ca的铜合金之制造方法中，其特征为具有对铜熔融金属添加Ca的Ca添加步骤，在该Ca添加步骤中，系使用金属Ca(21)的表面被覆有铜(22)的铜被覆Ca材(20)。于该铜被覆Ca材(20)中，被覆金属Ca(21)的铜(22)的含氧量较佳设为未达100质量ppm。
-
公开(公告)号：TWI534277B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW104105829
申请日：2015-02-24
Applicant: 三菱綜合材料股份有限公司 , MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Inventor： 櫻井晶 , SAKURAI, AKIRA , 熊谷訓 , KUMAGAI, SATOSHI , 園畠喬 , SONOHATA, TAKASHI , 大戶路暁 , OHTO, MICHIAKI
CPC classification number: C23C14/3414 , B22D11/004 , C21D8/10 , C21D9/0068 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/06 , C22F1/00 , C22F1/08 , C23C14/3407 , H01J37/3423 , H01J37/3426 , H01J37/3491
-
公开(公告)号：TW201615871A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104123554
申请日：2015-07-21
Applicant: 三菱綜合材料股份有限公司 , MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Inventor： 矢野翔一郎 , YANO, SHOICHIRO , 園畠喬 , SONOHATA, TAKASHI , 加藤慎司 , KATO, SHINJI
Abstract: 本發明係一種Cu-Ga合金圓筒型濺鍍靶及Cu-Ga合金圓筒型鑄塊，其中，係構成沿著軸線(O)而延伸存在之圓筒狀的Cu-Ga合金圓筒型濺鍍靶，在18原子%以上35原子%以下的範圍內而含有Ga，而殘留部則由Cu及不可避不純物所成，在對於軸線(O)而言正交之剖面之同一圓周上之Ga濃度的測定值的差則作為1.0原子%以內之同時，算出在剖面之Ga濃度的平均值，而在前述軸線方向之複數之前述剖面，各加以算出之Ga濃度的平均值的差則作為1.5原子%以下之範圍內者。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系一种Cu-Ga合金圆筒型溅镀靶及Cu-Ga合金圆筒型铸块，其中，系构成沿着轴线(O)而延伸存在之圆筒状的Cu-Ga合金圆筒型溅镀靶，在18原子%以上35原子%以下的范围内而含有Ga，而残留部则由Cu及不可避不纯物所成，在对于轴线(O)而言正交之剖面之同一圆周上之Ga浓度的测定值的差则作为1.0原子%以内之同时，算出在剖面之Ga浓度的平均值，而在前述轴线方向之复数之前述剖面，各加以算出之Ga浓度的平均值的差则作为1.5原子%以下之范围内者。
-
公开(公告)号：TW201538758A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104105829
申请日：2015-02-24
Applicant: 三菱綜合材料股份有限公司 , MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Inventor： 櫻井晶 , SAKURAI, AKIRA , 熊谷訓 , KUMAGAI, SATOSHI , 園畠喬 , SONOHATA, TAKASHI , 大戶路暁 , OHTO, MICHIAKI
CPC classification number: C23C14/3414 , B22D11/004 , C21D8/10 , C21D9/0068 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/06 , C22F1/00 , C22F1/08 , C23C14/3407 , H01J37/3423 , H01J37/3426 , H01J37/3491
Abstract: 一種銅或銅合金所構成的圓筒型濺鍍靶用材料之製造方法，係具備連續鑄造步驟、冷加工步驟及熱處理步驟，在該連續鑄造步驟，是使用連續鑄造機或半連續鑄造機，鑄造出平均結晶粒徑為20mm以下的圓筒狀鑄塊；在該冷加工步驟及熱處理步驟，是對該圓筒狀鑄塊反覆實施冷加工和熱處理，藉此成形出：其外周面之平均結晶粒徑為10μm以上150μm以下、且平均結晶粒徑之2倍以上的結晶粒所占的面積比例未達總結晶面積的25%之前述圓筒型濺鍍靶用材料。
Abstract in simplified Chinese: 一种铜或铜合金所构成的圆筒型溅镀靶用材料之制造方法，系具备连续铸造步骤、冷加工步骤及热处理步骤，在该连续铸造步骤，是使用连续铸造机或半连续铸造机，铸造出平均结晶粒径为20mm以下的圆筒状铸块；在该冷加工步骤及热处理步骤，是对该圆筒状铸块反复实施冷加工和热处理，借此成形出：其外周面之平均结晶粒径为10μm以上150μm以下、且平均结晶粒径之2倍以上的结晶粒所占的面积比例未达总结晶面积的25%之前述圆筒型溅镀靶用材料。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.018 seconds)
