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1.

发明专利
半導體裝置及其形成方法有权
Simplified title: 半导体设备及其形成方法

公开(公告)号：TWI701830B

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：TW108116369

申请日：2019-05-13

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 陳亭綱 , CHEN, TING-GANG , 黃泰鈞 , HUANG, TAI-CHUN , 傅依婷 , FU, INEZ , 溫明璋 , WEN, MING-CHANG , 古淑瑗 , KU, SHU-YUAN , 楊復凱 , YANG, FU-KAI , 李資良 , LEE, TZE-LIANG , 盧永誠 , LU, YUNG-CHENG

IPC: H01L29/04 , H01L29/78 , H01L21/31 , H01L29/40

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