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公开(公告)号:TWI613841B
公开(公告)日:2018-02-01
申请号:TW102137509
申请日:2013-10-17
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 岩下和樹 , IWASHITA, KAZUKI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 上田孝之 , UEDA, TAKAYUKI , 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE , 山永正孝 , YAMANAGA, MASATAKA , 長尾有記 , NAGAO, YUKI , 河野孝史 , KAWANO, TAKAFUMI
IPC分类号: H01L33/50
CPC分类号: C09K11/7734 , C04B35/597 , C04B35/6265 , C04B35/645 , C04B2235/3852 , C04B2235/3865 , C04B2235/3873 , C04B2235/3895 , C04B2235/5409 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C09K11/0883 , F21K9/64 , F21V9/30 , H01L33/502
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2.
公开(公告)号:TWI555824B
公开(公告)日:2016-11-01
申请号:TW101137688
申请日:2012-10-12
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 上田孝之 , UEDA, TAKAYUKI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE
CPC分类号: C09K11/7728 , C01B21/0821 , C01B21/0826 , C01P2002/54 , C01P2002/72 , C01P2002/77 , C01P2002/84 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/62 , C01P2006/12 , C09K11/0883 , C09K11/7734 , H01L33/502 , H05B33/14
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公开(公告)号:TW201443201A
公开(公告)日:2014-11-16
申请号:TW103111777
申请日:2014-03-28
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 隅野真央 , SUMINO, MAO , 岩下和樹 , IWASHITA, KAZUKI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE
CPC分类号: C09K11/7734 , C01B21/06
摘要: 本發明提供一種氮氧化物螢光體粉末,其對具有610至625nm之螢光峰波長之氮氧化物螢光體粉末而言,外部量子效率比習知高。本發明之氮氧化物螢光體粉末之特徵在於,其係以下述組成式所示且包含α型矽鋁氮氧化物及氮化鋁,組成式:Cax1Eux2Si12-(y+z)Al(y+z)OzN16-z(但是,式中,x1,x2,y,z係1.60≦x1+x2≦2.90,0.18≦x2/x1≦0.70,4.0≦y≦6.5,0.0≦z≦1.0)。又,較佳地係包含50至10000ppm之Li。氮化鋁之含量宜在比0質量%大且比33質量%小之範圍內。
简体摘要: 本发明提供一种氮氧化物萤光体粉末,其对具有610至625nm之萤光峰波长之氮氧化物萤光体粉末而言,外部量子效率比习知高。本发明之氮氧化物萤光体粉末之特征在于,其系以下述组成式所示且包含α型硅铝氮氧化物及氮化铝,组成式:Cax1Eux2Si12-(y+z)Al(y+z)OzN16-z(但是,式中,x1,x2,y,z系1.60≦x1+x2≦2.90,0.18≦x2/x1≦0.70,4.0≦y≦6.5,0.0≦z≦1.0)。又,较佳地系包含50至10000ppm之Li。氮化铝之含量宜在比0质量%大且比33质量%小之范围内。
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公开(公告)号:TWI460251B
公开(公告)日:2014-11-11
申请号:TW098127112
申请日:2009-08-12
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 坂田信一 , SAKATA, SHIN-ICHI , 小田浩 , ODA, HIROSHI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA
CPC分类号: C09K11/7728 , C09K11/0883 , C09K11/7734 , H01L33/502 , Y02B20/181
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公开(公告)号:TW201343876A
公开(公告)日:2013-11-01
申请号:TW102111414
申请日:2013-03-29
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 上田孝之 , UEDA, TAKAYUKI , 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE
IPC分类号: C09K11/80
CPC分类号: C09K11/7734 , H01L33/502 , Y10T428/2982
摘要: 本發明係針對具580~605nm的螢光峰波長之氧氮化物螢光體,提供一種外部量子效率較習知高的氧氮化物螢光體。本發明的氧氮化物螢光體粉末係以下述組成式表示,且包含α型矽鋁氧氮化物與氮化鋁的氧氮化物螢光體,組成式:Cax1Eux2Si12-(y+z)Al(y+z)OzN16-z(惟,式中,x1、x2、y、z係0<x1≦2.50、0.01≦x2≦0.20、0<y≦2.3及1.5≦z≦3.5;或者,x1、x2、y、z係0<x1≦2.70、0.05≦x2≦0.20、2.3≦y≦5.5及1≦z≦2.5)。並且,本發明還提供上述氧氮化物螢光體之製造方法。
简体摘要: 本发明系针对具580~605nm的萤光峰波长之氧氮化物萤光体,提供一种外部量子效率较习知高的氧氮化物萤光体。本发明的氧氮化物萤光体粉末系以下述组成式表示,且包含α型硅铝氧氮化物与氮化铝的氧氮化物萤光体,组成式:Cax1Eux2Si12-(y+z)Al(y+z)OzN16-z(惟,式中,x1、x2、y、z系0<x1≦2.50、0.01≦x2≦0.20、0<y≦2.3及1.5≦z≦3.5;或者,x1、x2、y、z系0<x1≦2.70、0.05≦x2≦0.20、2.3≦y≦5.5及1≦z≦2.5)。并且,本发明还提供上述氧氮化物萤光体之制造方法。
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公开(公告)号:TW201741242A
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:TW106103297
申请日:2017-01-26
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 野北里花 , NOGITA, RIKA , 日元武史 , HIMOTO, TAKESHI , 長井淳 , NAGAI, ATSUSHI , 松永泰蔵 , MATSUNAGA, TAIZO
IPC分类号: C01F11/18 , C08K9/04 , C08K3/26 , C08L101/00 , G02B5/30
摘要: 本發明係為了提供抵消高分子之雙折射,可確保透明性的光學薄膜,因此提供高溫下之成膜時,高分散性的被覆鹼土金屬化合物微粒子。 本發明之被覆鹼土金屬化合物微粒子,其係鹼土金屬化合物微粒子之表面經表面處理劑被覆,在大氣環境中進行TG-DTA時,將TG-DTA開始時之表面處理劑的質量設為100質量%時,在100℃~300℃之溫度範圍之表面處理劑的質量減少率為30質量%以下。
简体摘要: 本发明系为了提供抵消高分子之双折射,可确保透明性的光学薄膜,因此提供高温下之成膜时,高分散性的被覆碱土金属化合物微粒子。 本发明之被覆碱土金属化合物微粒子,其系碱土金属化合物微粒子之表面经表面处理剂被覆,在大气环境中进行TG-DTA时,将TG-DTA开始时之表面处理剂的质量设为100质量%时,在100℃~300℃之温度范围之表面处理剂的质量减少率为30质量%以下。
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公开(公告)号:TWI602904B
公开(公告)日:2017-10-21
申请号:TW103111777
申请日:2014-03-28
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 隅野真央 , SUMINO, MAO , 岩下和樹 , IWASHITA, KAZUKI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE
CPC分类号: C09K11/7734 , C01B21/06
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8.
公开(公告)号:TW201335337A
公开(公告)日:2013-09-01
申请号:TW101137688
申请日:2012-10-12
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 上田孝之 , UEDA, TAKAYUKI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE
CPC分类号: C09K11/7728 , C01B21/0821 , C01B21/0826 , C01P2002/54 , C01P2002/72 , C01P2002/77 , C01P2002/84 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/62 , C01P2006/12 , C09K11/0883 , C09K11/7734 , H01L33/502 , H05B33/14
摘要: 本發明為一種含有α型賽隆與氮化鋁之氮氧化物螢光體粉末,係由下述組成式所表示之組成所表示:Cax1Eux2Si12-(y+z)Al(y+z)OzN16-z(但是,式中,x1、x2、y、z為0<x1≦3.40、0.05≦x2≦0.20、4.0≦y≦7.0、0≦z≦1)。前述氮氧化物螢光體粉末,其係被450nm波長光激發所發出的螢光之峰波長的光線的反射率為80%以上。一種氮氧化物螢光體粉末製造用氮化矽粉末,係結晶質氮化矽粉末,並且氧含量為0.2~0.9質量%。一種氮氧化物螢光體粉末的製造方法,具有:藉由將原料物質混合,在惰性氣體環境中1500~2000℃溫度範圍燒成,而得到前述一般式所表示之氮氧化物燒成物之第1步驟;及將前述氮氧化物燒成物在惰性氣體環境中1100~1600℃溫度範圍熱處理之第2步驟。
简体摘要: 本发明为一种含有α型赛隆与氮化铝之氮氧化物萤光体粉末,系由下述组成式所表示之组成所表示:Cax1Eux2Si12-(y+z)Al(y+z)OzN16-z(但是,式中,x1、x2、y、z为0<x1≦3.40、0.05≦x2≦0.20、4.0≦y≦7.0、0≦z≦1)。前述氮氧化物萤光体粉末,其系被450nm波长光激发所发出的萤光之峰波长的光线的反射率为80%以上。一种氮氧化物萤光体粉末制造用氮化硅粉末,系结晶质氮化硅粉末,并且氧含量为0.2~0.9质量%。一种氮氧化物萤光体粉末的制造方法,具有:借由将原料物质混合,在惰性气体环境中1500~2000℃温度范围烧成,而得到前述一般式所表示之氮氧化物烧成物之第1步骤;及将前述氮氧化物烧成物在惰性气体环境中1100~1600℃温度范围热处理之第2步骤。
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公开(公告)号:TWI598320B
公开(公告)日:2017-09-11
申请号:TW103110494
申请日:2014-03-20
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人: 上田孝之 , UEDA, TAKAYUKI , 岩下和樹 , IWASHITA, KAZUKI , 酒井拓馬 , SAKAI, TAKUMA , 藤永昌孝 , FUJINAGA, MASATAKA , 治田慎輔 , JIDA, SHINSUKE
IPC分类号: C04B35/599 , C04B35/622 , C04B35/64 , C09K11/08 , C09K11/80
CPC分类号: C09K11/7734 , C01B21/068 , C09K11/0883 , H01L33/502
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公开(公告)号:TW201726771A
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:TW105125989
申请日:2016-08-15
申请人: 宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD
发明人: 日元武史 , TAKESHI, HIMOTO , 野北里花 , RIKA, NOGITA , 松永泰蔵 , TAIZO, MATSUNAGA , 秋山太一 , TAICHI, AKIYAMA , 酒井拓馬 , TAKUMA, SAKAI , 川岸健 , KEN, KAWAGISHI , 長井淳 , ATSUSHI, NAGAI , 池上篤志 , ATSUSHI, IKEGAMI
IPC分类号: C08J5/18 , C08L101/00 , C08K3/26 , C08K9/04 , G02B5/30
CPC分类号: C08J5/18 , C08K3/26 , C08L101/00 , G02B5/30
摘要: 本發明的目的在於提供透明性高、可任意控制雙折射的光學膜以及圖像顯示裝置。本發明的光學膜是在樹脂中分散有鹼土金屬碳酸鹽微粉末的光學膜,上述光學膜的特徵在於,上述鹼土金屬碳酸鹽微粉末的平均長徑爲10nm~100nm的範圍內、相對於上述光學膜整體的上述鹼土金屬碳酸鹽微粉末的含量爲0.1質量%~50質量%的範圍內、在上述鹼土金屬碳酸鹽微粉末的表面附著有表面活性劑。另外,本發明的圖像顯示裝置爲具備上述光學膜的圖像顯示裝置。
简体摘要: 本发明的目的在于提供透明性高、可任意控制双折射的光学膜以及图像显示设备。本发明的光学膜是在树脂中分散有碱土金属碳酸盐微粉末的光学膜,上述光学膜的特征在于,上述碱土金属碳酸盐微粉末的平均长径为10nm~100nm的范围内、相对于上述光学膜整体的上述碱土金属碳酸盐微粉末的含量为0.1质量%~50质量%的范围内、在上述碱土金属碳酸盐微粉末的表面附着有表面活性剂。另外,本发明的图像显示设备为具备上述光学膜的图像显示设备。
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