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公开(公告)号：TW201829725A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106138872
申请日：2017-11-10
申请人： 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 米傑 雅簡 , MEIJER, ARJAN
摘要： 本發明係關於一種包含奈米級發光材料之發光粒子及該發光粒子之用途。本發明進一步關於一種包含發光粒子之組合物，光學介質及光學裝置。 本發明亦關於用於製備該發光粒子之方法。
简体摘要： 本发明系关于一种包含奈米级发光材料之发光粒子及该发光粒子之用途。本发明进一步关于一种包含发光粒子之组合物，光学介质及光学设备。 本发明亦关于用于制备该发光粒子之方法。
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公开(公告)号：TW201819592A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106131182
申请日：2017-09-12
申请人： 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 米傑 雅簡 , MEIJER, ARJAN
IPC分类号： C09K11/02
摘要： 本發明係關於一種發光粒子、該發光粒子之用途及製備該發光粒子之方法。本發明此外係關於組合物、光學介質及光學裝置及其製備方法。
简体摘要： 本发明系关于一种发光粒子、该发光粒子之用途及制备该发光粒子之方法。本发明此外系关于组合物、光学介质及光学设备及其制备方法。
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公开(公告)号：TW201835295A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106144488
申请日：2017-12-19
申请人： 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 馬特凱克 克里斯提恩 , MATUSCHEK, CHRISTIAN , 米傑 雅簡 , MEIJER, ARJAN , 利柏曼 以太 , LIEBERMAN, ITAI , 葛羅特穆勒 拉夫 , GROTTENMUELLER, RALF
IPC分类号： C09K11/00 , C09K11/02 , H01L33/50 , H01L31/055 , H01L31/0232
摘要： 本發明係關於光學介質(100)及包含光學介質(100)之光學裝置(200)。本發明進一步係關於該光學介質(100)在光學裝置(200)中之用途。本發明另外係關於製備該光學介質(100)之方法及製備該光學裝置(200)之方法。
简体摘要： 本发明系关于光学介质(100)及包含光学介质(100)之光学设备(200)。本发明进一步系关于该光学介质(100)在光学设备(200)中之用途。本发明另外系关于制备该光学介质(100)之方法及制备该光学设备(200)之方法。
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公开(公告)号：TWI387002B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW098109593
申请日：2009-03-24
申请人： 馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 史塔克姆 華納 , STOCKUM, WERNER , 寇勒 印格 , KOEHLER, INGO , 米傑 雅簡 , MEIJER, ARJAN , 布魯克斯 保羅 克雷格 , BROOKES, PAUL CRAIG , 派特森 凱蒂 , PATTERSON, KATIE , 詹姆士 馬克 , JAMES, MARK
CPC分类号： C23C18/12
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公开(公告)号：TW201307453A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101114711
申请日：2012-04-25
申请人： 麥克專利有限公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 梅爾 亞珍 , MEIJER, ARJAN , 史達肯 渥那 , STOCKUM, WERNER , 柯勒 英格 , KOEHLER, INGO
摘要： 本發明關於一種選擇性蝕刻及高解析度圖案化可撓性聚合物基質之方法，該聚合物基質可包含銀奈米管。
简体摘要： 本发明关于一种选择性蚀刻及高分辨率图案化可挠性聚合物基质之方法，该聚合物基质可包含银奈米管。
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公开(公告)号：TW201631121A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104142840
申请日：2015-12-18
申请人： 馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 米傑 雅簡 , MEIJER, ARJAN , 多爾 奧利佛 , DOLL, OLIVER , 蘭曼 克里斯多夫 , LANDMANN, CHRISTOPH
IPC分类号： C09K13/00 , H01L21/3213 , H01L31/18
CPC分类号： C09K13/06 , C09K13/08 , H01L31/022425 , H01L31/068 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： 本發明係關於一種用於蝕刻由Si、SiO2、SiNx或透明導電氧化物(TCO)組成之表面的蝕刻組合物，其包含至少一種水相及至少一蝕刻率增加劑；以及關於該組合物在電子工業中之生產過程中之用途。
简体摘要： 本发明系关于一种用于蚀刻由Si、SiO2、SiNx或透明导电氧化物(TCO)组成之表面的蚀刻组合物，其包含至少一种水相及至少一蚀刻率增加剂；以及关于该组合物在电子工业中之生产过程中之用途。
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公开(公告)号：TWI502782B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW100117395
申请日：2011-05-18
申请人： 麥克專利有限公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人： 史達肯 渥那 , STOCKUM, WERNER , 梅爾 亞珍 , MEIJER, ARJAN , 柯勒 英格 , KOEHLER, INGO
IPC分类号： H01L51/48
CPC分类号： H01L51/0019 , B82Y10/00 , H01L51/0026 , H01L51/0036 , H01L51/0037 , H01L51/0045 , H01L51/4253 , H01L51/444
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