公开(公告)号：TW201827627A

公开(公告)日：2018-08-01

申请号：TW106130913

申请日：2017-09-11

申请人： 德商萬騰榮先進材料德國有限責任公司 ,  MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH

发明人： 屈洛特 馬丁 ,  SCHLOTT, MARTIN ,  裘提司 馬可斯 ,  SCHULTHEIS, MARKUS ,  荷佐 安卓雅 ,  HERZOG, ANDREAS

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34

摘要： 已知一種用於製造光吸收層的濺鍍標靶，其由標靶材料組成，該標靶材料含有氧化物相，且與化學計量組成相比具有降低之氧含量。為提供含有導電相且避免電荷及粒子形成之來自其的濺鍍標靶，根據本發明提供標靶材料含有鉬之金屬相(Mo相)且氧化物相含有氧化鋅(ZnO相)及具有式MNOn-x之混合氧化物相，其中M表示主要組分鋅(Zn)，且N表示次要組分鈮(Nb)及/或鈦(Ti)中的至少一者，且其中x比零大，且n表示該混合氧化物相之該化學計量組成之氧原子的數目。

简体摘要： 已知一种用于制造光吸收层的溅镀标靶，其由标靶材料组成，该标靶材料含有氧化物相，且与化学计量组成相比具有降低之氧含量。为提供含有导电相且避免电荷及粒子形成之来自其的溅镀标靶，根据本发明提供标靶材料含有钼之金属相(Mo相)且氧化物相含有氧化锌(ZnO相)及具有式MNOn-x之混合氧化物相，其中M表示主要组分锌(Zn)，且N表示次要组分铌(Nb)及/或钛(Ti)中的至少一者，且其中x比零大，且n表示该混合氧化物相之该化学计量组成之氧原子的数目。

公开(公告)号：TWI608108B

公开(公告)日：2017-12-11

申请号：TW104116014

申请日：2015-05-20

申请人： 萬騰榮先進材料德國有限責任公司 ,  MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH

发明人： 許洛特 馬丁 ,  SCHLOTT, MARTIN ,  赫爾佐格 安德烈亞斯 ,  HERZOG, ANDREAS ,  舍爾 托馬斯 ,  SCHOLL, THOMAS ,  寇尼特卡 烏韋 ,  KONIETZKA, UWE

IPC分类号： C22C5/06 ,  C23C14/34 ,  C22C1/02 ,  C22F1/14 ,  H05B33/24 ,  G11B7/258

CPC分类号： C22C5/06 ,  C22C1/02 ,  C22F1/14 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3429 ,  H01J37/3491