用於製造光吸收層的濺鍍標靶
    2.
    发明专利
    用於製造光吸收層的濺鍍標靶 审中-公开
    用于制造光吸收层的溅镀标靶

    公开(公告)号:TW201827627A

    公开(公告)日:2018-08-01

    申请号:TW106130913

    申请日:2017-09-11

    IPC分类号: C23C14/08 C23C14/14 C23C14/34

    摘要: 已知一種用於製造光吸收層的濺鍍標靶,其由標靶材料組成,該標靶材料含有氧化物相,且與化學計量組成相比具有降低之氧含量。為提供含有導電相且避免電荷及粒子形成之來自其的濺鍍標靶,根據本發明提供標靶材料含有鉬之金屬相(Mo相)且氧化物相含有氧化鋅(ZnO相)及具有式MNOn-x之混合氧化物相,其中M表示主要組分鋅(Zn),且N表示次要組分鈮(Nb)及/或鈦(Ti)中的至少一者,且其中x比零大,且n表示該混合氧化物相之該化學計量組成之氧原子的數目。

    简体摘要: 已知一种用于制造光吸收层的溅镀标靶,其由标靶材料组成,该标靶材料含有氧化物相,且与化学计量组成相比具有降低之氧含量。为提供含有导电相且避免电荷及粒子形成之来自其的溅镀标靶,根据本发明提供标靶材料含有钼之金属相(Mo相)且氧化物相含有氧化锌(ZnO相)及具有式MNOn-x之混合氧化物相,其中M表示主要组分锌(Zn),且N表示次要组分铌(Nb)及/或钛(Ti)中的至少一者,且其中x比零大,且n表示该混合氧化物相之该化学计量组成之氧原子的数目。