光罩基底用基板、光罩基底及光罩 SUBSTRATE FOR A MASK BLANK, MASK BLANK AND PHOTOMASK

    公开(公告)号:TW201115264A

    公开(公告)日:2011-05-01

    申请号:TW099104810

    申请日:2010-02-12

    IPC分类号: G03F

    CPC分类号: B24B9/065 G03F1/60

    摘要: 本發明係提供一種光罩基底用基板、光罩基底及光罩,其係於以表裏2個主表面和4個端面所構成之薄板狀光罩基底用基板上,設置倒角面於端面與主表面之間。主表面係一邊之長度為500mm以上。又,於端面上,設置從鄰接之端面相接之角部沿主表面之邊方向特定長度(邊L4之長度)之範圍的區域之2個角部側區域,與夾於該2個角部側區域間之中央側區域。又,角部側區域之端面為表面粗度Ra為0.5nm以下之鏡面,中央側區域為粗面。

    简体摘要: 本发明系提供一种光罩基底用基板、光罩基底及光罩,其系于以表里2个主表面和4个端面所构成之薄板状光罩基底用基板上,设置倒角面于端面与主表面之间。主表面系一边之长度为500mm以上。又,于端面上,设置从邻接之端面相接之角部沿主表面之边方向特定长度(边L4之长度)之范围的区域之2个角部侧区域,与夹于该2个角部侧区域间之中央侧区域。又,角部侧区域之端面为表面粗度Ra为0.5nm以下之镜面,中央侧区域为粗面。