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公开(公告)号：TW201812434A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106122347
申请日：2017-07-04
发明人： 吉達 維胡 , JINDAL, VIBHU
摘要： 揭露了極紫外（EUV）遮罩坯料及其製造方法及其生產系統。EUV遮罩坯料包含覆蓋層上的吸收層的多層堆疊，吸收層的多層堆疊包括複數個吸收層對。
简体摘要： 揭露了极紫外（EUV）遮罩坯料及其制造方法及其生产系统。EUV遮罩坯料包含覆盖层上的吸收层的多层堆栈，吸收层的多层堆栈包括复数个吸收层对。
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公开(公告)号：TWI618616B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102139553
申请日：2013-10-31
发明人： 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 岡藤大雄 , OKAFUJI, DAIYU , 山崎裕之 , YAMAZAKI, HIROYUKI , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/002 , B29C59/026 , B29C59/16 , C03C15/02 , G03F1/14 , G03F1/60 , G03F7/0002
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公开(公告)号：TWI612375B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW102128614
申请日：2013-08-09
申请人： 尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人： 柴田規夫 , SHIBATA, NORIO , 持田昌昭 , MOCHIDA, MASAAKI , 安住美菜子 , AZUMI, MINAKO
CPC分类号： G03F1/60 , B24B37/042
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公开(公告)号：TWI600623B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW103126324
申请日：2014-08-01
发明人： 歐克斯 史帝芬 , OCHS, STEFAN , 貝克 克勞斯 , BECKER, KLAUS , 湯瑪士 史帝芬 , THOMAS, STEPHAN
IPC分类号： C03B19/01
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/00 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/46 , C03C2203/52 , C03C2204/00 , G03F1/52 , G03F1/60
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公开(公告)号：TW201730002A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105133853
申请日：2016-10-20
发明人： 小池章夫 , KOIKE, AKIO , 角田純一 , KAKUTA, JUNICHI , 林英明 , HAYASHI, HIDEAKI
摘要： 本發明係一種玻璃-樹脂複合體，其特徵在於：其係包含玻璃板及樹脂膜者，於上述玻璃板之至少一主面上之整面設置有上述樹脂膜，上述玻璃板係於主面及端面之所有表層具有壓縮應力層之化學強化玻璃，上述玻璃板之板厚t1為0.05～0.25 mm，且上述板厚t1、上述樹脂膜之厚度t2及上述樹脂膜之降伏應力P滿足{t1(mm)×4(N/mm2)＜t2(mm)×P(N/mm2)}之關係。
简体摘要： 本发明系一种玻璃-树脂复合体，其特征在于：其系包含玻璃板及树脂膜者，于上述玻璃板之至少一主面上之整面设置有上述树脂膜，上述玻璃板系于主面及端面之所有表层具有压缩应力层之化学强化玻璃，上述玻璃板之板厚t1为0.05～0.25 mm，且上述板厚t1、上述树脂膜之厚度t2及上述树脂膜之降伏应力P满足{t1(mm)×4(N/mm2)＜t2(mm)×P(N/mm2)}之关系。
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公开(公告)号：TWI568699B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW100117953
申请日：2011-05-23
发明人： 松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU , 原田大實 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
CPC分类号： C03C3/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C19/00 , C03C2201/42 , C03C2204/08 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F7/0002 , Y10T428/24355
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公开(公告)号：TWI551939B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW101117691
申请日：2012-05-18
申请人： HOYA股份有限公司 , HOYA CORPORATION
发明人： 佐佐木達也 , SASAKI, TATSUYA , 西村貴仁 , NISHIMURA, TAKAHITO
IPC分类号： G03F1/26
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公开(公告)号：TWI497195B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099104810
申请日：2010-02-12
申请人： HOYA股份有限公司 , HOYA CORPORATION
发明人： 丸山修 , MARUYAMA, OSAMU , 原田和明 , HARADA, KAZUAKI , 赤川裕之 , AKAGAWA, HIROYUKI
IPC分类号： G03F1/60
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公开(公告)号：TWI495950B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW102145069
申请日：2013-12-09
发明人： 林本堅 , LIN, BURN JENG , 李信昌 , LEE, HSIN CHANG , 秦聖基 , CHIN, SHENG CHI
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公开(公告)号：TW201436973A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW102139553
申请日：2013-10-31
发明人： 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 岡藤大雄 , OKAFUJI, DAIYU , 山崎裕之 , YAMAZAKI, HIROYUKI , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/002 , B29C59/026 , B29C59/16 , C03C15/02 , G03F1/14 , G03F1/60 , G03F7/0002
摘要： 本發明的方形模具用基板，是在基板上形成凹凸的圖型後所使用之方形的模具用基板，其特徵為：形成凹凸的圖型後所使用的面(A面)之中心的1~50mm×1~50mm平方的範圍，且形成有凹凸之圖型的領域的平坦度為350nm以下。根據本發明，可防止在方形模具用基板上製作圖型時與轉印時，圖型位置變得不一致、或者產生圖型誤差，而能成為高精細且複雜之圖型的轉印。
简体摘要： 本发明的方形模具用基板，是在基板上形成凹凸的图型后所使用之方形的模具用基板，其特征为：形成凹凸的图型后所使用的面(A面)之中心的1~50mm×1~50mm平方的范围，且形成有凹凸之图型的领域的平坦度为350nm以下。根据本发明，可防止在方形模具用基板上制作图型时与转印时，图型位置变得不一致、或者产生图型误差，而能成为高精细且复杂之图型的转印。
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