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    一種製造漫反射光學構造的方法
    1.
    发明专利
    一種製造漫反射光學構造的方法 审中-公开
    一种制造漫反射光学构造的方法

    公开(公告)号：TW201814331A

    公开(公告)日：2018-04-16

    申请号：TW106133773

    申请日：2017-09-29

    申请人： 狄倫 史蒂芬M ,  DILLON, STEPHEN M.

    发明人： 狄倫 史蒂芬M ,  DILLON, STEPHEN M.

    IPC分类号： G02B1/10 ,  G02B5/02 ,  B32B33/00

    CPC分类号： G02B5/0268 ,  B05D1/02 ,  B05D5/02 ,  B29D11/00326 ,  B29D11/0073 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0226 ,  G02B5/0236 ,  G02B5/0278 ,  G02B5/0284

    摘要： 本發明提供一種漫反射光學構造，其不依賴於現有技術的特殊模具或加工工具來產生光學構造的關鍵漫反射表面特徵。使用霧化噴塗方法將可硬化的透明液體聚合物層塗覆到預製的基底光學基板的表面。所述聚合物層在所述預製的基底光學基板的所述表面上形成珠粒，從而形成上面具有形成所述漫反射表面特徵的隨機且連續系列的峰谷部的表面。上面具有所述漫反射聚合物層的所述預製的基底光學基板與額外光學層的組合形成可在製造光學透鏡、窗戶和透明膜時使用的透明漫反射光學構造，所述透明漫反射光學構造在以基本上無畸變的方式透射光時以漫射方式反射光。

    简体摘要： 本发明提供一种漫反射光学构造，其不依赖于现有技术的特殊模具或加工工具来产生光学构造的关键漫反射表面特征。使用雾化喷涂方法将可硬化的透明液体聚合物层涂覆到预制的基底光学基板的表面。所述聚合物层在所述预制的基底光学基板的所述表面上形成珠粒，从而形成上面具有形成所述漫反射表面特征的随机且连续系列的峰谷部的表面。上面具有所述漫反射聚合物层的所述预制的基底光学基板与额外光学层的组合形成可在制造光学透镜、窗户和透明膜时使用的透明漫反射光学构造，所述透明漫反射光学构造在以基本上无畸变的方式透射光时以漫射方式反射光。

    半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置及方法
    2.
    发明专利
    半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置及方法 审中-公开
    半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备及方法

    公开(公告)号：TW201803078A

    公开(公告)日：2018-01-16

    申请号：TW106109461

    申请日：2017-03-22

    申请人： 普羅科技有限公司 ,  PROTEC CO., LTD.

    发明人： 洪承珉 ,  HONG, SEUNG MIN ,  金建熙 ,  KIM, KEON HEE

    IPC分类号： H01L23/60 ,  H01L23/28 ,  B05B13/02 ,  B05B17/06 ,  B05B13/04 ,  B05D5/12 ,  B05D1/02

    CPC分类号： B05B1/00 ,  B05B13/02 ,  B05B13/04 ,  B05B17/06 ,  B05D1/02 ,  B05D5/12 ,  H01L23/28 ,  H01L23/60

    摘要： 本發明是有關於一種半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法，更詳細而言，有關於一種將黏性液體按照準確的容量塗佈至如半導體零件的材料的準確的區域的半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法。本發明的半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法是一種提供具有如下效果的半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法：可準確地調整黏性液體的塗佈量及精細地調整黏性液體的塗佈區域。

    简体摘要： 本发明是有关于一种半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法，更详细而言，有关于一种将黏性液体按照准确的容量涂布至如半导体零件的材料的准确的区域的半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法。本发明的半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法是一种提供具有如下效果的半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法：可准确地调整黏性液体的涂布量及精细地调整黏性液体的涂布区域。

    鏡片防霧薄膜製造方法及鏡片防霧薄膜之光硬化裝置
    5.
    发明专利
    鏡片防霧薄膜製造方法及鏡片防霧薄膜之光硬化裝置 审中-公开
    镜片防雾薄膜制造方法及镜片防雾薄膜之光硬化设备

    公开(公告)号：TW201728917A

    公开(公告)日：2017-08-16

    申请号：TW105104049

    申请日：2016-02-05

    申请人： 宋琇瑩 ,  SUNG, HSIU YING

    发明人： 宋琇瑩 ,  SUNG, HSIU YING

    IPC分类号： G02B1/10

    CPC分类号： G02B1/18 ,  B05D1/02 ,  B05D3/002 ,  B05D3/067 ,  B05D7/02 ,  B05D2601/20 ,  C09D5/00 ,  G02B1/12 ,  G02B27/0006

    摘要： 一種鏡片防霧薄膜製造方法包括：一鏡片裝載步驟：為將多個鏡片設置於一移動載具上；一鏡片噴塗步驟：利用一噴塗設備將一光硬化防霧塗料噴塗於多個所述鏡片的所述噴塗面上，一吸拭步驟：為利用吸嘴將多餘的光硬化防霧塗料吸除；一鏡片預乾步驟：將噴塗完成的鏡片放置於室溫下使所述光硬化防霧塗料初步乾燥；一薄膜硬化步驟：為以紫外光照射多個所述鏡片，使所述光硬化防霧塗料吸收紫外光後硬化形成一防霧薄膜；一取片步驟：將完成薄膜硬化步驟的鏡片從所述光硬化設備中取出。本發明同時提供一種鏡片防霧薄膜之光硬化裝置。

    简体摘要： 一种镜片防雾薄膜制造方法包括：一镜片装载步骤：为将多个镜片设置于一移动载具上；一镜片喷涂步骤：利用一喷涂设备将一光硬化防雾涂料喷涂于多个所述镜片的所述喷涂面上，一吸拭步骤：为利用吸嘴将多余的光硬化防雾涂料吸除；一镜片预干步骤：将喷涂完成的镜片放置于室温下使所述光硬化防雾涂料初步干燥；一薄膜硬化步骤：为以紫外光照射多个所述镜片，使所述光硬化防雾涂料吸收紫外光后硬化形成一防雾薄膜；一取片步骤：将完成薄膜硬化步骤的镜片从所述光硬化设备中取出。本发明同时提供一种镜片防雾薄膜之光硬化设备。

    吐出判定方法及吐出裝置
    8.
    发明专利
    吐出判定方法及吐出裝置 审中-公开
    吐出判定方法及吐出设备

    公开(公告)号：TW201722565A

    公开(公告)日：2017-07-01

    申请号：TW105135483

    申请日：2016-11-02

    申请人： 斯庫林集團股份有限公司 ,  SCREEN HOLDINGS CO., LTD.

    发明人： 沖田有史 ,  OKITA, YUJI

    IPC分类号： B05C11/00 ,  G06K9/52

    CPC分类号： B05D1/02 ,  B05C1/00 ,  G06T7/0006 ,  G06T2207/10024 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

    摘要： 本發明係根據圖像而於短時間內確實地判定是否有自噴嘴吐出液體。於吐出狀態下取得較非吐出狀態大的值之指標值，係自圖像中的包含液體之流通路徑之評價對象區域中算出，且根據與預先設定之判定基準值之大小關係，判定是吐出狀態還是非吐出狀態。判定基準值係根據自預先收集之複數個圖像中分別求出的指標值所示之直方圖之形狀而定。當於直方圖中顯示波峰位置或波峰之銳度之評價值較規定的臨限值小時，推定所收集之圖像為非吐出狀態者，當評價值較臨限值大時，推定所收集之圖像為吐出狀態者。因此，無論是吐出狀態還是非吐出狀態，皆可適宜地設定判定基準值。

    简体摘要： 本发明系根据图像而于短时间内确实地判定是否有自喷嘴吐出液体。于吐出状态下取得较非吐出状态大的值之指针值，系自图像中的包含液体之流通路径之评价对象区域中算出，且根据与预先设置之判定基准值之大小关系，判定是吐出状态还是非吐出状态。判定基准值系根据自预先收集之复数个图像中分别求出的指针值所示之直方图之形状而定。当于直方图中显示波峰位置或波峰之锐度之评价值较规定的临限值小时，推定所收集之图像为非吐出状态者，当评价值较临限值大时，推定所收集之图像为吐出状态者。因此，无论是吐出状态还是非吐出状态，皆可适宜地设置判定基准值。