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公开(公告)号:TW201812056A
公开(公告)日:2018-04-01
申请号:TW107100992
申请日:2016-07-13
发明人: 班格特史丹分 , BANGERT,STEFAN , 地古坎柏喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO,JOSE MANUEL , 凱樂史丹分 , KELLER,STEFAN , 斯巴茲若伯特 , SPATZ,NORBERT
CPC分类号: C23C14/243 , C23C14/246 , C23C16/4401
摘要: 一種蒸發源係說明。蒸發源包括一蒸發坩鍋及一分佈管,分佈管具有一或多個出口,沿著分佈管之長度提供,其中分佈管係流體連通於蒸發坩鍋,其中分佈管包括一第一外部管、一第一內部管、及一第一加熱元件,第一加熱元件配置於第一內部管之內側,以及其中蒸發坩鍋包括一第二外部管、一第二內部管、及第二加熱元件,第二加熱元件配置於第二內部管之內側。
简体摘要: 一种蒸发源系说明。蒸发源包括一蒸发坩锅及一分布管,分布管具有一或多个出口,沿着分布管之长度提供,其中分布管系流体连通于蒸发坩锅,其中分布管包括一第一外部管、一第一内部管、及一第一加热组件,第一加热组件配置于第一内部管之内侧,以及其中蒸发坩锅包括一第二外部管、一第二内部管、及第二加热组件,第二加热组件配置于第二内部管之内侧。
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公开(公告)号:TWI607102B
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:TW102146965
申请日:2013-12-18
发明人: 凱樂史帝芬 , KELLER, STEFAN , 班傑史帝芬 , BANGERT, STEFAN , 郭炳松 , KWAK, BYUNG-SUNG LEO
CPC分类号: C23C14/243 , C23C14/0676 , C23C14/246 , C23C14/30 , C23C14/32 , C23C14/50 , H01J37/32091 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01M4/0428 , H01M4/1391 , H01M10/052 , H01M10/0562
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公开(公告)号:TW201733689A
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW106121436
申请日:2015-01-29
发明人: 班格特史丹分 , BANGERT,STEFAN , 史奇伯勒佑維 , SCHUBLER,UWE , 地古坎柏喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO,JOSE MANUEL , 海斯戴德 , HAAS,DIETER
IPC分类号: B05D1/00 , B05D1/02 , B05D3/04 , B65G49/05 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/00 , H01L51/56
CPC分类号: H01L51/56 , B05D1/60 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C14/564 , C23C14/566 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/67196 , H01L21/67271 , H01L21/67712 , H01L21/67718 , H01L21/67727 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/6776 , H01L51/001 , H01L51/0011
摘要: 敘述一種用於沉積一或多層的系統,所述層特別是包含有機材料於其中的層。系統包含:一第一裝載室;一第一移送室和一第二移送室,用於傳送基板;一直線型沉積系統部分,包括二或多個沉積設備,該些沉積設備提供在第一移送室和第二移送室之間,並適用於從一沉積設備往一相鄰沉積設備的載具傳送,其中該些沉積設備包括一可移動且可轉向的蒸發源;以及一第二裝載室。
简体摘要: 叙述一种用于沉积一或多层的系统,所述层特别是包含有机材料于其中的层。系统包含:一第一装载室;一第一移送室和一第二移送室,用于发送基板;一直线型沉积系统部分,包括二或多个沉积设备,该些沉积设备提供在第一移送室和第二移送室之间,并适用于从一沉积设备往一相邻沉积设备的载具发送,其中该些沉积设备包括一可移动且可转向的蒸发源;以及一第二装载室。
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公开(公告)号:TWI585224B
公开(公告)日:2017-06-01
申请号:TW101151154
申请日:2012-12-28
发明人: 鄭石源 , JUNG, SUK-WON , 李勇錫 , LEE, YONG-SUK , 洪祥赫 , HONG, SANG-HYUK
IPC分类号: C23C14/08
CPC分类号: B05C5/001 , B05B1/14 , B05B7/0012 , B05B7/168 , B05B13/04 , B05D1/02 , B05D3/061 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/56 , C23C14/58 , H01L51/56
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公开(公告)号:TWI583809B
公开(公告)日:2017-05-21
申请号:TW101120868
申请日:2012-06-11
申请人: 愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人: 朗 麥克 , LONG, MICHAEL , 葛斯多夫 馬庫斯 , GERSDORFF, MARKUS
IPC分类号: C23C14/24
CPC分类号: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/246 , H01L51/0008
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公开(公告)号:TW201522681A
公开(公告)日:2015-06-16
申请号:TW103141823
申请日:2014-12-02
发明人: 薛思樂烏維 , SCHUSSLER, UWE , 班格特史蒂芬 , BANGERT, STEFAN , 凱姆卡爾艾伯特 , KEIM, KARL-ALBERT , 迪格斯坎波喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO, JOSE MANUEL
CPC分类号: C23C14/14 , B01D1/0064 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/542 , C23C14/545
摘要: 本發明揭露一種用於蒸發材料及將該材料沉積於基材上之沉積配置,該材料包括鹼金屬或鹼土金屬。沉積配置包含第一腔室,該第一腔室經構造以液化材料,其中第一腔室包括氣體入口,該氣體入口經構造而用於在第一腔室中之氣體的入口;蒸發區域,該蒸發區域經構造以蒸發液化的材料;管線,提供於第一腔室和蒸發區域間用於液化的材料的流體連通,其中管線包含第一部分,該第一部分界定管線的流體阻力;閥,該閥經構造以控制在第一腔室中之氣體的流率,而用以控制通過具有流體阻力之管線之液化的材料的流率;及一或多個出口,用以將蒸發的材料引導朝向基材。
简体摘要: 本发明揭露一种用于蒸发材料及将该材料沉积于基材上之沉积配置,该材料包括碱金属或碱土金属。沉积配置包含第一腔室,该第一腔室经构造以液化材料,其中第一腔室包括气体入口,该气体入口经构造而用于在第一腔室中之气体的入口;蒸发区域,该蒸发区域经构造以蒸发液化的材料;管线,提供于第一腔室和蒸发区域间用于液化的材料的流体连通,其中管线包含第一部分,该第一部分界定管线的流体阻力;阀,该阀经构造以控制在第一腔室中之气体的流率,而用以控制通过具有流体阻力之管线之液化的材料的流率;及一或多个出口,用以将蒸发的材料引导朝向基材。
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公开(公告)号:TWI452157B
公开(公告)日:2014-09-11
申请号:TW099141055
申请日:2010-11-26
发明人: 陳建志 , CHEN, CHIEN CHIH , 王慶鈞 , WANG, CHING CHIUN , 吳慶輝 , WU, CHING HUEI , 董福慶 , TUNG, FU CHING
CPC分类号: C23C14/56 , C23C14/24 , C23C14/246
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公开(公告)号:TWI432596B
公开(公告)日:2014-04-01
申请号:TW098100394
申请日:2009-01-07
发明人: 龍 麥可 , LONG, MICHAEL , 帕隆 湯瑪士W , PALONE, THOMAS W. , 寇佩 布魯斯E , KOPPE, BRUCE E. , 柏洛森 麥可L , BOROSON, MICHAEL L.
IPC分类号: C23C16/448
CPC分类号: C23C14/246 , C23C16/4486
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公开(公告)号:TW201413015A
公开(公告)日:2014-04-01
申请号:TW102121724
申请日:2013-06-19
申请人: 愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人: 斎藤和彥 , SAITOU, KAZUHIKO , 飯島正行 , IIJIMA, MASAYUKI , 廣野貴啓 , HIRONO, TAKAYOSHI , 中森建治 , NAKAMORI, KENJI
CPC分类号: C23C16/48 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/562 , C23C16/4401 , C23C16/4409 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/545
摘要: 本發明係提供在真空槽內一邊搬送薄膜一邊以高的成膜速度在薄膜上形成均等的膜厚之有機化合物膜的技術。在真空槽(2)內,使自原料帶捲筒(41)反覆送出的薄膜(10)一邊接觸於中央滾子(3)一邊搬送,在薄膜(10)上形成有機化合物膜。具有:蒸氣釋出裝置(8),該蒸氣釋出裝置配置於設在真空槽(2)內的成膜室(6)內,並具有釋出有機化合物單體的蒸氣而噴吹至中央滾子(3)的薄膜(10)之蒸氣釋出部(82);和能量線射出裝置(9),該能量線射出裝置是對形成於中央滾子(3)上的有機化合物單體層照射能量線,使有機化合物單體層硬化。蒸氣釋出裝置(8)及成膜室(6)分別連接於可獨立控制之第5及第3真空排氣裝置(80)、(60),將蒸氣釋出裝置(8)內的壓力作成為較成膜室(6)內的壓力大,且蒸氣釋出裝置(8)內的壓力與成膜室(6)內的壓力之差成為一定。
简体摘要: 本发明系提供在真空槽内一边搬送薄膜一边以高的成膜速度在薄膜上形成均等的膜厚之有机化合物膜的技术。在真空槽(2)内,使自原料带卷筒(41)反复送出的薄膜(10)一边接触于中央滚子(3)一边搬送,在薄膜(10)上形成有机化合物膜。具有:蒸气发佈设备(8),该蒸气发佈设备配置于设在真空槽(2)内的成膜室(6)内,并具有发佈有机化合物单体的蒸气而喷吹至中央滚子(3)的薄膜(10)之蒸气发佈部(82);和能量线射出设备(9),该能量线射出设备是对形成于中央滚子(3)上的有机化合物单体层照射能量线,使有机化合物单体层硬化。蒸气发佈设备(8)及成膜室(6)分别连接于可独立控制之第5及第3真空排气设备(80)、(60),将蒸气发佈设备(8)内的压力作成为较成膜室(6)内的压力大,且蒸气发佈设备(8)内的压力与成膜室(6)内的压力之差成为一定。
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公开(公告)号:TWI428456B
公开(公告)日:2014-03-01
申请号:TW097134567
申请日:2008-09-09
申请人: 愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人: 根岸敏夫 , NEGISHI, TOSHIO
CPC分类号: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/246
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