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公开(公告)号：TW202004949A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108113699
申请日：2019-04-19
发明人： 篠木武虎 , SHINOGI, TAKETORA , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 大島澄美 , OSHIMA, KIYOMI
IPC分类号： H01L21/67 , B05B1/02 , B05B1/14 , B05B3/18 , B05B15/00 , B05D1/02 , H05B33/10 , H01L51/50 , H01L27/32
摘要： [課題]提供使補助電極用之接觸孔之數目成為最佳化的有機EL顯示器。 [解決手段]本揭示之一態樣的塗布裝置，係具備基板保持部與吐出單元與移動機構。吐出單元包含在第1方向並列設置有複數個噴嘴的複數個噴頭噴頭。移動機構使吐出單元與基板保持部沿著與第1方向交叉的第2方向相對地移動。基板具備：複數個像素電極，與複數個副像素對應而設置；堤岸，覆蓋複數個像素電極，並且形成有使至少1個像素電極露出的複數個開口部；及複數個接觸孔，用以將與複數個像素電極對向的對向電極電連接於補助電極。接觸孔係按每2個以上之副像素設置。吐出單元係從噴嘴朝向基板保持部所保持的基板之開口部吐出有機材料之液滴。
简体摘要： [课题]提供使补助电极用之接触孔之数目成为最优化的有机EL显示器。 [解决手段]本揭示之一态样的涂布设备，系具备基板保持部与吐出单元与移动机构。吐出单元包含在第1方向并列设置有复数个喷嘴的复数个喷头喷头。移动机构使吐出单元与基板保持部沿着与第1方向交叉的第2方向相对地移动。基板具备：复数个像素电极，与复数个副像素对应而设置；堤岸，覆盖复数个像素电极，并且形成有使至少1个像素电极露出的复数个开口部；及复数个接触孔，用以将与复数个像素电极对向的对向电极电连接于补助电极。接触孔系按每2个以上之副像素设置。吐出单元系从喷嘴朝向基板保持部所保持的基板之开口部吐出有机材料之液滴。
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公开(公告)号：TW201841729A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106103539
申请日：2017-02-02
发明人： 泉寛之 , IZUMI, HIROYUKI , 牧野竜也 , MAKINO, TATSUYA , 小竹智彦 , KOTAKE, TOMOHIKO , 赤須雄太 , AKASU, YUTA
摘要： 本發明是有關於一種結構體的製造方法，其為形成有氣凝膠層的結構體的製造方法，並且包括由霧滴狀的溶膠來形成氣凝膠層的步驟。
简体摘要： 本发明是有关于一种结构体的制造方法，其为形成有气凝胶层的结构体的制造方法，并且包括由雾滴状的溶胶来形成气凝胶层的步骤。
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3.发明专利
公开(公告)号：TW201825193A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106142805
申请日：2015-01-29
发明人： 班格特史丹分 , BANGERT,STEFAN , 史奇伯勒佑維 , SCHUBLER,UWE , 地古坎柏喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO,JOSE MANUEL , 海斯戴德 , HAAS,DIETER
IPC分类号： B05D1/00 , B05D1/02 , B05D3/04 , B65G49/05 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/00 , H01L51/56
摘要： 敘述一種蒸發源。該蒸發源包含：一蒸發坩鍋、一分佈管，具有一或多個出口，其中該分佈管係與該蒸發坩鍋處於流體連通狀態，且該分佈管係在蒸發期間能夠繞著一軸旋轉；以及一支座，用於該分佈管，其中該支座係能夠連接至一第一傳動器、或包含該第一傳動器，其中該第一傳動器係配置成用於該支座和該分佈管的平移運動。此外，也敘述包含至少一蒸發源的系統以及蒸發有機材料的方法。
简体摘要： 叙述一种蒸发源。该蒸发源包含：一蒸发坩锅、一分布管，具有一或多个出口，其中该分布管系与该蒸发坩锅处于流体连通状态，且该分布管系在蒸发期间能够绕着一轴旋转；以及一支座，用于该分布管，其中该支座系能够连接至一第一传动器、或包含该第一传动器，其中该第一传动器系配置成用于该支座和该分布管的平移运动。此外，也叙述包含至少一蒸发源的系统以及蒸发有机材料的方法。
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公开(公告)号：TW201817854A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106123754
申请日：2017-07-17
发明人： 田中辰児 , TANAKA, TATSUJI
摘要： 本發明之課題為，於被施工於包含水及非氧化物之耐火物施工成形體的表面之抗氧化劑中，提昇耐爆裂性及接著性。 本發明之解決手段為，一種被施工於包含水及非氧化物之耐火物施工成形體的表面之抗氧化劑，其包含玻璃粉末與水溶性之增黏劑，或玻璃粉末與水溶性之增黏劑與分散劑，前述玻璃粉末之含量為95質量%以上，前述水溶性之增黏劑之含量為0.5質量%以上，前述玻璃粉末、前述水溶性之增黏劑及前述分散劑以外的物質之含量為4質量%以下(包含0)，前述水溶性之增黏劑之分解消失溫度為350℃以下。
简体摘要： 本发明之课题为，于被施工于包含水及非氧化物之耐火物施工成形体的表面之抗氧化剂中，提升耐爆裂性及接着性。 本发明之解决手段为，一种被施工于包含水及非氧化物之耐火物施工成形体的表面之抗氧化剂，其包含玻璃粉末与水溶性之增黏剂，或玻璃粉末与水溶性之增黏剂与分散剂，前述玻璃粉末之含量为95质量%以上，前述水溶性之增黏剂之含量为0.5质量%以上，前述玻璃粉末、前述水溶性之增黏剂及前述分散剂以外的物质之含量为4质量%以下(包含0)，前述水溶性之增黏剂之分解消失温度为350℃以下。
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公开(公告)号：TWI620791B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103106757
申请日：2014-02-27
发明人： 菊池奈穂 , KIKUCHI, NAHO , 三木徳俊 , MIKI, NORITOSHI , 巴幸司 , TOMOE, KOJI , 片山雅章 , KATAYAMA, MASAAKI , 保坂和義 , HOSAKA, KAZUYOSHI
IPC分类号： C08L79/08 , C08G73/10 , C07D407/06 , C07D493/04 , C07C217/90 , C07C217/76 , C07C217/88 , C08J5/18 , B05D1/02 , G02B1/10 , G02F1/1337
CPC分类号： C08G73/1078 , C08G73/1042 , C09D179/08
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公开(公告)号：TW201803078A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106109461
申请日：2017-03-22
申请人： 普羅科技有限公司 , PROTEC CO., LTD.
发明人： 洪承珉 , HONG, SEUNG MIN , 金建熙 , KIM, KEON HEE
摘要： 本發明是有關於一種半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法，更詳細而言，有關於一種將黏性液體按照準確的容量塗佈至如半導體零件的材料的準確的區域的半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法。本發明的半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法是一種提供具有如下效果的半導體封裝之電磁波遮蔽層形成裝置與方法：可準確地調整黏性液體的塗佈量及精細地調整黏性液體的塗佈區域。
简体摘要： 本发明是有关于一种半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法，更详细而言，有关于一种将黏性液体按照准确的容量涂布至如半导体零件的材料的准确的区域的半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法。本发明的半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法是一种提供具有如下效果的半导体封装之电磁波屏蔽层形成设备与方法：可准确地调整黏性液体的涂布量及精细地调整黏性液体的涂布区域。
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公开(公告)号：TW201733689A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106121436
申请日：2015-01-29
发明人： 班格特史丹分 , BANGERT,STEFAN , 史奇伯勒佑維 , SCHUBLER,UWE , 地古坎柏喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO,JOSE MANUEL , 海斯戴德 , HAAS,DIETER
IPC分类号： B05D1/00 , B05D1/02 , B05D3/04 , B65G49/05 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/00 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/56 , B05D1/60 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C14/564 , C23C14/566 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/67196 , H01L21/67271 , H01L21/67712 , H01L21/67718 , H01L21/67727 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/6776 , H01L51/001 , H01L51/0011
摘要： 敘述一種用於沉積一或多層的系統，所述層特別是包含有機材料於其中的層。系統包含：一第一裝載室；一第一移送室和一第二移送室，用於傳送基板；一直線型沉積系統部分，包括二或多個沉積設備，該些沉積設備提供在第一移送室和第二移送室之間，並適用於從一沉積設備往一相鄰沉積設備的載具傳送，其中該些沉積設備包括一可移動且可轉向的蒸發源；以及一第二裝載室。
简体摘要： 叙述一种用于沉积一或多层的系统，所述层特别是包含有机材料于其中的层。系统包含：一第一装载室；一第一移送室和一第二移送室，用于发送基板；一直线型沉积系统部分，包括二或多个沉积设备，该些沉积设备提供在第一移送室和第二移送室之间，并适用于从一沉积设备往一相邻沉积设备的载具发送，其中该些沉积设备包括一可移动且可转向的蒸发源；以及一第二装载室。
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公开(公告)号：TWI595929B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW104119271
申请日：2015-06-15
发明人： 藤原五男 , FUJIWARA, ITSUO , 高本徳男 , TAKAMOTO, TOKUO , 永田義寿 , NAGATA, YOSHIHISA , 中川優志 , NAKAGAWA, YUSHI , 早野一臣 , HAYANO, KAZUOMI , 小川康一 , OGAWA, KOICHI
CPC分类号： B05B12/084 , B32B37/1284 , B32B2310/0831 , B32B2457/20 , Y10T156/10
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公开(公告)号：TWI593155B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW105119106
申请日：2015-01-20
申请人： 凱特伊夫公司 , KATEEVA, INC.
发明人： 高 亞歷山大 守康 , KO, ALEXANDER SOU-KANG , 默克 賈斯汀 , MAUCK, JUSTIN , 馬狄剛 寇諾F , MADIGAN, CONOR F. , 沃斯凱 伊莉亞 , VRONSKY, ELIYAHU , 拉賓歐維奇 尤金 , RABINOVICH, EUGENE , 哈爾吉 那喜德 , HARJEE, NAHID , 布雀能 克里斯多夫 , BUCHNER, CHRISTOPHER , 路易斯 格雷葛瑞 , LEWIS, GREGORY
CPC分类号： H01L51/0004 , H01L21/67017 , H01L21/67155 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/67383 , H01L21/67784 , H01L21/6838 , H01L51/56
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