利索-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

87 records (took 0.019 seconds)

    溶液製膜用支撐薄膜及使用其之電解質膜的製造方法
    5.
    发明专利
    溶液製膜用支撐薄膜及使用其之電解質膜的製造方法 审中-公开
    溶液制膜用支撑薄膜及使用其之电解质膜的制造方法

    公开(公告)号：TW201542632A

    公开(公告)日：2015-11-16

    申请号：TW104110166

    申请日：2015-03-30

    Applicant: 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

    Inventor： 足立真哉 ,  ADACHI, SHINYA ,  出原大輔 ,  IZUHARA, DAISUKE

    IPC: C08J5/18 ,  H01M8/10

    CPC classification number: H01M8/1081 ,  C08J5/2256 ,  C08J5/2262 ,  C08J7/126 ,  C08J2300/00 ,  C08J2323/04 ,  C08J2323/10 ,  C08J2367/02 ,  C08J2371/00 ,  H01M8/1069 ,  H01M8/1088 ,  H01M2008/1095 ,  Y02P70/56

    Abstract: 本發明提供一種溶液製膜用支撐薄膜，其兼具溶液製膜步驟時的聚合物溶液之潤濕性、乾燥步驟及濕潤步驟中的耐早期剝離性、意圖剝離聚合物皮膜時的易剝離性。 該溶液製膜用支撐薄膜係對於由包含聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚苯硫、聚碸、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚苯并咪唑、聚碳酸酯、聚芳酯、聚氯乙烯之群組所選出的1種或2種以上之聚合物所形成的基底薄膜(base film)之至少一側之表面，導入氟原子而成之溶液製膜用支撐薄膜，其中該導入有氟原子的表面，即改質表面之經X射線光電子光譜法(X-ray photoelectron spectroscopy)所測定的氟原子數/碳原子數之比為0.02以上0.8以下。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种溶液制膜用支撑薄膜，其兼具溶液制膜步骤时的聚合物溶液之润湿性、干燥步骤及湿润步骤中的耐早期剥离性、意图剥离聚合物皮膜时的易剥离性。 该溶液制膜用支撑薄膜系对于由包含聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚苯硫、聚砜、聚醚酮、聚醚醚酮、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯并咪唑、聚碳酸酯、聚芳酯、聚氯乙烯之群组所选出的1种或2种以上之聚合物所形成的基底薄膜(base film)之至少一侧之表面，导入氟原子而成之溶液制膜用支撑薄膜，其中该导入有氟原子的表面，即改质表面之经X射线光电子光谱法(X-ray photoelectron spectroscopy)所测定的氟原子数/碳原子数之比为0.02以上0.8以下。

    含有改質型馬來醯亞胺寡聚合物之交換膜 AN EXCHANGE MEMBRANE CONTAINING MODIFIED MALEIMIDE OLIGOMERS
    9.
    发明专利
    含有改質型馬來醯亞胺寡聚合物之交換膜 AN EXCHANGE MEMBRANE CONTAINING MODIFIED MALEIMIDE OLIGOMERS 有权
    含有改质型马来酰亚胺寡聚合物之交换膜 AN EXCHANGE MEMBRANE CONTAINING MODIFIED MALEIMIDE OLIGOMERS

    公开(公告)号：TWI354579B

    公开(公告)日：2011-12-21

    申请号：TW096127417

    申请日：2007-07-27

    Applicant: 財團法人工業技術研究院 ,  國立中央大學

    Inventor： 潘金平 ,  王宗雄 ,  許榮木 ,  諸柏仁 ,  吳千舜 ,  劉柏均

    IPC: B01J ,  C08J ,  C08G

    CPC classification number: C08J5/2256 ,  C08G65/48 ,  C08G2650/40 ,  C08J2371/12

    Abstract: 一種含有改質型馬來醯亞胺寡聚合物之交換膜，包括磺酸化聚芳基醚酮聚合物和改質型馬來醯亞胺寡聚合物。該交換膜係以經巴比土酸改質而具有高分歧結構(hyper branched architecture)之改質型馬來醯亞胺寡聚合物作為結構基質，並導入於磺酸化聚芳基醚酮聚合物中，構成半互穿式交聯網狀結構(semi－IPN)，藉以強化該離子/質子交換膜之保水能力、抗化學性、電化學穩定性及耐熱性，可用於製作薄膜電極組、燃料電池，或應用於海水淡化、重水與污水之處理，以及生質能源等領域。

    Abstract in simplified Chinese: 一种含有改质型马来酰亚胺寡聚合物之交换膜，包括磺酸化聚芳基醚酮聚合物和改质型马来酰亚胺寡聚合物。该交换膜系以经巴比土酸改质而具有高分歧结构(hyper branched architecture)之改质型马来酰亚胺寡聚合物作为结构基质，并导入于磺酸化聚芳基醚酮聚合物中，构成半互穿式交联网状结构(semi－IPN)，借以强化该离子/质子交换膜之保水能力、抗化学性、电化学稳定性及耐热性，可用于制作薄膜电极组、燃料电池，或应用于海水淡化、重水与污水之处理，以及生质能源等领域。

    聚苯並咪唑-苯甲醯胺共聚合物及其製備方法，利用該共聚合物製成之電解質膜及其製備方法 POLYBENZIMIDAZOLE-BENZAMIDE COPOLYMER, PROCESS FOR PREPARING THE SAME, ELECTROLYTE MEMBRANE PREPARED THEREFROM AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME
    10.
    发明专利
    聚苯並咪唑-苯甲醯胺共聚合物及其製備方法，利用該共聚合物製成之電解質膜及其製備方法 POLYBENZIMIDAZOLE-BENZAMIDE COPOLYMER, PROCESS FOR PREPARING THE SAME, ELECTROLYTE MEMBRANE PREPARED THEREFROM AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME 有权
    聚苯并咪唑-苯甲酰胺共聚合物及其制备方法，利用该共聚合物制成之电解质膜及其制备方法 POLYBENZIMIDAZOLE-BENZAMIDE COPOLYMER, PROCESS FOR PREPARING THE SAME, ELECTROLYTE MEMBRANE PREPARED THEREFROM AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME

    公开(公告)号：TWI316523B

    公开(公告)日：2009-11-01

    申请号：TW094138561

    申请日：2005-11-03

    Applicant: LG化學股份有限公司

    Inventor： 李鍾贊 ,  朴容秀 ,  金兌昊 ,  李奉根 ,  申程圭

    IPC: C08G ,  C08J ,  H01M

    CPC classification number: H01M8/103 ,  C08G69/12 ,  C08G73/18 ,  C08J5/2256 ,  C08J2377/10 ,  C08J2379/06 ,  H01M8/1027 ,  H01M8/1048 ,  H01M2300/0082

    Abstract: 本發明係關於一種新穎的聚苯並咪唑－苯甲醯胺共聚合物，及其製備方法，該共聚合物是由化學式1所代表之重複單元所組成，其係可應用於燃料電池之電解質膜。本發明亦關於使用前述共聚合物所製得之電解質膜，及其製備方法。本發明更進一步關於用於含有前述之電解質膜的燃料電池之一種膜－電極單元(membrane－electrode unit)，以及一種包括該膜－電極單元之燃料電池系統。
    藉由本發明之聚苯並咪唑－苯甲醯胺共聚合物所製備的電解質膜，相較於傳統的聚苯並咪唑聚合物膜，具已改善之質子導電率，及大範圍溫度內下之操作能力以外之熱及化學安定性。
    其中x係0.1~99.9。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种新颖的聚苯并咪唑－苯甲酰胺共聚合物，及其制备方法，该共聚合物是由化学式1所代表之重复单元所组成，其系可应用于燃料电池之电解质膜。本发明亦关于使用前述共聚合物所制得之电解质膜，及其制备方法。本发明更进一步关于用于含有前述之电解质膜的燃料电池之一种膜－电极单元(membrane－electrode unit)，以及一种包括该膜－电极单元之燃料电池系统。 借由本发明之聚苯并咪唑－苯甲酰胺共聚合物所制备的电解质膜，相较于传统的聚苯并咪唑聚合物膜，具已改善之质子导电率，及大范围温度内下之操作能力以外之热及化学安定性。 其中x系0.1~99.9。

Patent Agency Ranking