公开(公告)号：TWI544231B

公开(公告)日：2016-08-01

申请号：TW101117872

申请日：2012-05-18

Applicant: 住友電氣工業股份有限公司 ,  SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. ,  住友電工超效能高分子股份有限公司 ,  SUMITOMO ELECTRIC FINE POLYMER, INC.

Inventor： 多久島道子 ,  TAKUSHIMA, MICHIKO ,  佐野知巳 ,  SANO, TOMOMI ,  依田潤 ,  YORITA, JUN ,  西雅也 ,  NISHI, MASAYA

IPC: G02B27/22 ,  G02B3/00

CPC classification number: G02B27/2214 ,  G02B3/0037 ,  G03B35/24 ,  H04N13/305

公开(公告)号：TW201532775A

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：TW103131790

申请日：2014-09-15

Applicant: 豪威科技股份有限公司 ,  OMNIVISION TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 梁慧燕 ,  NEO, HUIYAN ,  范世倫 ,  FAN, REGIS SH-LOUEN ,  張家揚 ,  CHANG, CHIA YANG

IPC: B29C39/02 ,  G02B3/00 ,  B29L11/00

CPC classification number: G02B3/0037 ,  B29C33/42 ,  B29C39/026 ,  B29D11/00298 ,  B29D11/0048 ,  B29L2011/0016 ,  G02B3/0031

Abstract: 光學模具包括間隔空腔部、透鏡空腔部和流動停止控制部，該光學模具使光學透鏡材料流動於間隔空腔部與透鏡空腔部之間，以形成光學透鏡陣列。光學模具更包含位於間隔空腔部內的基座，以於覆液噴灑製程中支撐模具。一種使用該光學模具的方法，該光學模具包括間隔空腔部、透鏡空腔部和流動停止控制部，及可再具有基座。

Abstract in simplified Chinese: 光学模具包括间隔空腔部、透镜空腔部和流动停止控制部，该光学模具使光学透镜材料流动于间隔空腔部与透镜空腔部之间，以形成光学透镜数组。光学模具更包含位于间隔空腔部内的基座，以于覆液喷洒制程中支撑模具。一种使用该光学模具的方法，该光学模具包括间隔空腔部、透镜空腔部和流动停止控制部，及可再具有基座。

公开(公告)号：TW201518848A

公开(公告)日：2015-05-16

申请号：TW103126894

申请日：2014-08-06

Applicant: 東芝股份有限公司 ,  KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

Inventor： 鈴木和拓 ,  SUZUKI, KAZUHIRO ,  上野梨紗子 ,  UENO, RISAKO ,  小林光吉 ,  KOBAYASHI, MITSUYOSHI ,  權鎬楠 ,  KWON, HONAM ,  舟木英之 ,  FUNAKI, HIDEYUKI

IPC: G03B35/10

CPC classification number: H04N13/271 ,  G01S5/00 ,  G01S11/12 ,  G02B3/0037 ,  G02B27/0075 ,  G06T7/557 ,  G06T7/593 ,  G06T2207/10016 ,  H04N5/2251 ,  H04N13/239 ,  H04N2013/0081

Abstract: 根據一實施例，固態攝像裝置包括第一攝像裝置、第二攝像裝置及運算單元。第一攝像裝置包括第一光學系統、第一攝像單元、以及設置在第一光學系統和第一攝像單元之間的第二光學系統。第二攝像裝置包括第三光學系統、第二攝像單元、以及設置在第三光學系統和第二攝像單元之間的第四光學系統。運算單元配置來執行第一運算以及第二運算。第一運算包括從立體視差(stereo disparity)推導出第一距離。第二運算包括從視差影像(parallax image)推導出第二距離。運算單元配置來根據選自第一距離和第二距離的至少一者來估計目標距離。

Abstract in simplified Chinese: 根据一实施例，固态摄像设备包括第一摄像设备、第二摄像设备及运算单元。第一摄像设备包括第一光学系统、第一摄像单元、以及设置在第一光学系统和第一摄像单元之间的第二光学系统。第二摄像设备包括第三光学系统、第二摄像单元、以及设置在第三光学系统和第二摄像单元之间的第四光学系统。运算单元配置来运行第一运算以及第二运算。第一运算包括从三維视差(stereo disparity)推导出第一距离。第二运算包括从视差影像(parallax image)推导出第二距离。运算单元配置来根据选自第一距离和第二距离的至少一者来估计目标距离。

公开(公告)号：TWI354809B

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：TW097123560

申请日：2008-06-24

Applicant: 財團法人工業技術研究院

Inventor： 李企桓 ,  鮑友南 ,  林暉雄

IPC: G02B ,  G02F

CPC classification number: G02B27/1086 ,  G02B3/0037 ,  G02B5/045 ,  G02B5/1866 ,  G02B27/1053 ,  G02B27/123

Abstract: 一種複合式分光元件，可接收至少有混合多個波段光的光束。分光元件包括一第一光學膜片與一第二光學膜片。第一光學膜片具有形狀相同的多個微結構透鏡，以對入射光產生一聚集程度的偏折。第二光學膜片具有多個週期性多邊形結構，接收該些偏折光以將該光束的組成波段光依波長於空間分離而分別往在一平面上的一預定區域射出。

Abstract in simplified Chinese: 一种复合式分光组件，可接收至少有混合多个波段光的光束。分光组件包括一第一光学膜片与一第二光学膜片。第一光学膜片具有形状相同的多个微结构透镜，以对入射光产生一聚集程度的偏折。第二光学膜片具有多个周期性多边形结构，接收该些偏折光以将该光束的组成波段光依波长于空间分离而分别往在一平面上的一预定区域射出。

公开(公告)号：TW201135986A

公开(公告)日：2011-10-16

申请号：TW099134955

申请日：2010-10-13

Applicant: 3M新設資產公司

Inventor： 瓦葛妮爾 妮可 珍妮佛 ,  楊朝暉 ,  史恰特 克萊吉 魯塞爾

IPC: H01L

CPC classification number: G02B3/0037 ,  H01L33/58

Abstract: 本發明描述光源及用於生產該等光源之方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明描述光源及用于生产该等光源之方法。

公开(公告)号：TWI346218B

公开(公告)日：2011-08-01

申请号：TW095126646

申请日：2006-07-21

Applicant: 三菱麗陽股份有限公司

Inventor： 阿部洋 ,  佐伯敬 ,  中川剛 ,  廣田憲史

IPC: G02B ,  B29D

CPC classification number: G02B3/0087 ,  B41J2/451 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0037 ,  G02B3/0056

Abstract: 本發明的塑膠柱透鏡具有半徑R的圓柱形狀，且折射率(nD)自中心軸沿徑向減少，且滿足以下式(1)~(3)的條件：(1)43≦v1≦60(2)|{nA×vA/(nA-1)}-{nB×vB/(nB-1)}|

Abstract in simplified Chinese: 本发明的塑胶柱透镜具有半径R的圆柱形状，且折射率(nD)自中心轴沿径向减少，且满足以下式(1)~(3)的条件：(1)43≦v1≦60(2)|{nA×vA/(nA-1)}-{nB×vB/(nB-1)}|<5(3)n0-n1≧0.01(式中，n1、n0、nA及nB分别表示塑胶柱透镜的外周部、中心、任意点A及任意点B的折射率(nD)；v1、vA及vB分别表示外周部、任意点A及任意点B的阿贝数(v))。

公开(公告)号：TWI333697B

公开(公告)日：2010-11-21

申请号：TW092131429

申请日：2003-11-10

Applicant: 海特根股份有限公司

Inventor： 維爾 凱特尼 ,  哈馬特 盧德曼 ,  馬克思 羅西

IPC: H01L

CPC classification number: G02B3/0043 ,  G02B3/0037 ,  G02B3/08 ,  G02B5/1876 ,  G02B5/1885 ,  H01L25/0753 ,  H01L33/54 ,  H01L33/58 ,  H01L51/524 ,  H01L51/5275 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本發明揭示一種發光裝置，該發光裝置包含電致發光元件(1)、外殼(2)、及用於該電致發光元件的電流供應機構。其特徵為該微光學元件(12)耦合於該外殼(2)並且以其影響該電致發光元件(1)所發出的光之方式加以配置。該微光學元件可由耦合於該外殼(2)的至少局部透明層(11)表面上之微光學結構所製成。例如可藉由將該微光學結構直接壓印在耦合於該外殼(2)的至少局部透明層(11)上，或藉由澆鑄包含該電致發光元件的至少局部透明層(11)到該發光裝置的本體來製造該微光學結構。根據一或多個電致發光元件(1)的位置、尺寸、及形狀，與一或多個電致發光元件(1)的輸出光分佈來設計該微光學元件(12)的繞射光學特徵。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种发光设备，该发光设备包含电致发光组件(1)、外壳(2)、及用于该电致发光组件的电流供应机构。其特征为该微光学组件(12)耦合于该外壳(2)并且以其影响该电致发光组件(1)所发出的光之方式加以配置。该微光学组件可由耦合于该外壳(2)的至少局部透明层(11)表面上之微光学结构所制成。例如可借由将该微光学结构直接压印在耦合于该外壳(2)的至少局部透明层(11)上，或借由浇铸包含该电致发光组件的至少局部透明层(11)到该发光设备的本体来制造该微光学结构。根据一或多个电致发光组件(1)的位置、尺寸、及形状，与一或多个电致发光组件(1)的输出光分布来设计该微光学组件(12)的绕射光学特征。

公开(公告)号：TW200638130A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：TW094134891

申请日：2005-10-06

Applicant: 三星電子股份有限公司 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.

Inventor： 朴世起 PARK, SE-KI ,  李相裕 LEE, SANG-YU ,  金基哲 KIM, GI-CHERL ,  南錫鉉 NAM, SEOK-HYUN

IPC: G02F

CPC classification number: G02B3/0037 ,  G02B3/0056 ,  G02B6/002 ,  G02B6/0021 ,  Y10S362/80

Abstract: 本發明提供一種可導光之光學封裝、及一種光學透鏡以及一種具有該光學封裝之背光組件。該光學封裝包括複數個發光零件及一透鏡板。該透鏡板界定分別與該等發光零件相對應之複數個透鏡零件。該透鏡板具有自該等透鏡零件而在該光學封裝之一側向延伸的複數個導光部分。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种可导光之光学封装、及一种光学透镜以及一种具有该光学封装之背光组件。该光学封装包括复数个发光零件及一透镜板。该透镜板界定分别与该等发光零件相对应之复数个透镜零件。该透镜板具有自该等透镜零件而在该光学封装之一侧向延伸的复数个导光部分。

公开(公告)号：TW200532360A

公开(公告)日：2005-10-01

申请号：TW093140393

申请日：2004-12-24

Applicant: 富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

Inventor： 石川弘美 ISHIKAWA, HIROMI ,  石井秀一 ISHII, SHUUICHI

IPC: G03B ,  G03F

CPC classification number: G02B3/0087 ,  G02B3/0037 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70791

Abstract: 【課題】在由空間光調變元件和微透鏡陣列組合而成的圖像曝光裝置中防止微透鏡所集光的射束之歪斜。【解決手段】係在一種圖像曝光裝置中，將微透鏡陣列55之各微透鏡55a作成非球面形狀，用以補正依前述畫素部之面的歪斜所造成的變形，而該圖像曝光裝置具備有：DMD等之空間光調變元件50，係以2次元狀配列有用以調變各個被照射的光之多數個畫素部；光源66，對此空間光調變元件50照射光B；以及微透鏡陣列55，係以陣列狀配設有用以將來自空間光調變元件50的各畫素部之光B各自集光的微透鏡55a。

Abstract in simplified Chinese: 【课题】在由空间光调制组件和微透镜数组组合而成的图像曝光设备中防止微透镜所集光的射束之歪斜。【解决手段】系在一种图像曝光设备中，将微透镜数组55之各微透镜55a作成非球面形状，用以补正依前述像素部之面的歪斜所造成的变形，而该图像曝光设备具备有：DMD等之空间光调制组件50，系以2次元状配列有用以调制各个被照射的光之多数个像素部；光源66，对此空间光调制组件50照射光B；以及微透镜数组55，系以数组状配设有用以将来自空间光调制组件50的各像素部之光B各自集光的微透镜55a。

公开(公告)号：TW200424593A

公开(公告)日：2004-11-16

申请号：TW093112974

申请日：2004-05-07

Applicant: 麥克隆科技公司 MICRON TECHNOLOGY, INC.

Inventor： 大衛 威爾斯 WELLS, DAVID ,  歐瑞奇C 鮑堤格 BOETTIGER, ULRICH C.

IPC: G02B

CPC classification number: G02B3/0018 ,  G02B3/0037 ,  G02B3/0056 ,  H01L27/14627

Abstract: 本發明揭示一種具有多重透鏡的成像器或顯示系統，該等透鏡係形成、圖案化及成形於一成像器或顯示陣列中的一或多個像素上。該等多重透鏡可改善折射至一光敏區域的光或從一顯示像素擴散的光之集中。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种具有多重透镜的成像器或显示系统，该等透镜系形成、图案化及成形于一成像器或显示数组中的一或多个像素上。该等多重透镜可改善折射至一光敏区域的光或从一显示像素扩散的光之集中。