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    光學構件及微透鏡陣列
    2.
    发明专利
    光學構件及微透鏡陣列 审中-公开
    光学构件及微透镜数组

    公开(公告)号：TW201725341A

    公开(公告)日：2017-07-16

    申请号：TW105132303

    申请日：2016-10-06

    申请人： 松下知識產權經營股份有限公司 ,  PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD.

    发明人： 山名正人 ,  YAMANA, MASAHITO ,  林真太郎 ,  HAYASHI, SHINTARO

    IPC分类号： F21V5/04 ,  F21V9/16 ,  G02B3/08

    CPC分类号： F21V5/04 ,  F21V9/30 ,  G02B3/08 ,  G02B5/18 ,  G02B5/20

    摘要： 本發明之光學構件（10）具備：螢光體層（11），其包含螢光體，該螢光體將入射到入射面之光源（16）所發出之光的一部分予以波長轉換；以及微透鏡陣列（12），使以螢光體層（11）進行過波長轉換之該光的一部分、與透射過螢光體層（11）之該光的其他部分，從出射面出射；於微透鏡陣列（12）之出射面，設有繞射型透鏡陣列（14），用以使進行過波長轉換之該光的一部分、與透射之該光的其他部分，繞射並出射；繞射型透鏡陣列（14）的間距，係隨各指定區域而不同。

    简体摘要： 本发明之光学构件（10）具备：萤光体层（11），其包含萤光体，该萤光体将入射到入射面之光源（16）所发出之光的一部分予以波长转换；以及微透镜数组（12），使以萤光体层（11）进行过波长转换之该光的一部分、与透射过萤光体层（11）之该光的其他部分，从出射面出射；于微透镜数组（12）之出射面，设有绕射型透镜数组（14），用以使进行过波长转换之该光的一部分、与透射之该光的其他部分，绕射并出射；绕射型透镜数组（14）的间距，系随各指定区域而不同。

    光柵之製備方法
    5.
    发明专利
    光柵之製備方法 审中-公开
    光栅之制备方法

    公开(公告)号：TW201317637A

    公开(公告)日：2013-05-01

    申请号：TW100139659

    申请日：2011-10-31

    申请人： 鴻海精密工業股份有限公司 ,  HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.

    发明人： 朱振東 ,  ZHU, ZHENG-DONG ,  李群慶 ,  LI, QUN-QING ,  張立輝 ,  ZHANG, LI-HUI ,  陳墨 ,  CHEN, MO

    IPC分类号： G02B5/18

    CPC分类号： G02B5/1857 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1809 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/095 ,  G03F7/70691 ,  H01L33/508

    摘要： 一種光柵之製備方法，其包括以下步驟：提供一基底；形成一抗蝕材料薄膜於該基底的表面；奈米壓印並蝕刻所述抗蝕材料薄膜，得到抗蝕層；形成一光罩層於所述基底表面，所述光罩層覆蓋所述抗蝕層以及基底通過所述抗蝕層暴露的表面；剝離所述抗蝕層及抗蝕層表面的部份光罩層，使基底形成一具圖形化的光罩層；採用反應離子蝕刻法蝕刻基底得到石英光柵，蝕刻過程中蝕刻氣體為四氟化碳、六氟化硫以及氬氣；以及去除光罩層。該種光柵對光波的繞射性能較好。

    简体摘要： 一种光栅之制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；形成一抗蚀材料薄膜于该基底的表面；奈米压印并蚀刻所述抗蚀材料薄膜，得到抗蚀层；形成一光罩层于所述基底表面，所述光罩层覆盖所述抗蚀层以及基底通过所述抗蚀层暴露的表面；剥离所述抗蚀层及抗蚀层表面的部份光罩层，使基底形成一具图形化的光罩层；采用反应离子蚀刻法蚀刻基底得到石英光栅，蚀刻过程中蚀刻气体为四氟化碳、六氟化硫以及氩气；以及去除光罩层。该种光栅对光波的绕射性能较好。

    車用抬頭顯示器 HEAD-UP DISPLAY FOR VEHICLES
    7.
    发明专利
    車用抬頭顯示器 HEAD-UP DISPLAY FOR VEHICLES 失效
    车用抬头显示器 HEAD-UP DISPLAY FOR VEHICLES

    公开(公告)号：TWI355510B

    公开(公告)日：2012-01-01

    申请号：TW096117850

    申请日：2007-05-18

    申请人： 創盟科技股份有限公司

    发明人： 陳政寰

    IPC分类号： G02B

    CPC分类号： G02B27/0101 ,  G02B5/18 ,  G02B6/00 ,  G02B2027/0118

    摘要： 一種車用抬頭顯示器，包括：至少一光源；至少一導光管，其設於光源前方；一影像面板，其設於導光管前方；及具有至少部分鏡面反射特性之一表面。其中，光源發出之光經由導光管之共同傳遞空間照亮影像面板，再由表面反射影像面板上之一影像至一觀看者，形成觀看者可看見之一虛像，及一成像光學模組，用以調整虛像之放大率。本發明之導光管可使來自光源之入射光照射至影像面板之光損失較小且具較高之方向性，所以觀看者看到的影像亮度較強；並且可使來自光源的入射光均勻照射至影像面板，所以觀看者看到的影像亮度較均勻，影像品質較佳。

    简体摘要： 一种车用抬头显示器，包括：至少一光源；至少一导光管，其设于光源前方；一影像皮肤，其设于导光管前方；及具有至少部分镜面反射特性之一表面。其中，光源发出之光经由导光管之共同传递空间照亮影像皮肤，再由表面反射影像皮肤上之一影像至一观看者，形成观看者可看见之一虚像，及一成像光学模块，用以调整虚像之放大率。本发明之导光管可使来自光源之入射光照射至影像皮肤之光损失较小且具较高之方向性，所以观看者看到的影像亮度较强；并且可使来自光源的入射光均匀照射至影像皮肤，所以观看者看到的影像亮度较均匀，影像品质较佳。

    繞射型液晶顯示器 DIFFRACTIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY
    8.
    发明专利
    繞射型液晶顯示器 DIFFRACTIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY 审中-公开
    绕射型液晶显示器 DIFFRACTIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY

    公开(公告)号：TW201013260A

    公开(公告)日：2010-04-01

    申请号：TW098125404

    申请日：2009-07-28

    申请人： 映像點氣公司

    发明人： 賈普森 瑪莉蘿

    IPC分类号： G02F

    CPC分类号： G02F1/133555 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1842 ,  G02F1/133615 ,  G02F2001/133607 ,  G02F2001/133618 ,  G02F2201/305 ,  G02F2203/62

    摘要： 一種液晶顯示器（LCD），包含：光源；光繞射器，在該光源上，被架構以繞射自該光源接收的光；液晶繞射光柵，在該光繞射器上與在液晶像素結構之間，該液晶像素結構包含多數液晶像素；該液晶繞射光柵回應於在該繞射光柵間之電壓差的施加，而具有一改變繞射率，及當具有該改變的繞射率時，將自光繞射器接收的繞射光對準朝向該液晶像素結構的對準光。一種LCD可以包含多數液晶像素，各液晶像素包含反射部及透射部，該多數液晶像素的至少部份液晶像素的反射部包含一回反射器（retroflector），架構以反射自外部光源接收的至少部份光線向該外部光源。

    简体摘要： 一种液晶显示器（LCD），包含：光源；光绕射器，在该光源上，被架构以绕射自该光源接收的光；液晶绕射光栅，在该光绕射器上与在液晶像素结构之间，该液晶像素结构包含多数液晶像素；该液晶绕射光栅回应于在该绕射光栅间之电压差的施加，而具有一改变绕射率，及当具有该改变的绕射率时，将自光绕射器接收的绕射光对准朝向该液晶像素结构的对准光。一种LCD可以包含多数液晶像素，各液晶像素包含反射部及透射部，该多数液晶像素的至少部份液晶像素的反射部包含一回反射器（retroflector），架构以反射自外部光源接收的至少部份光线向该外部光源。

    光柵設計方法 METHOD FOR DESIGNING GRATINGS
    9.
    发明专利
    光柵設計方法 METHOD FOR DESIGNING GRATINGS 审中-公开
    光栅设计方法 METHOD FOR DESIGNING GRATINGS

    公开(公告)号：TW200804993A

    公开(公告)日：2008-01-16

    申请号：TW095125397

    申请日：2006-07-12

    申请人： 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE ,  安格盛光電科技股份有限公司 ACCENT OPTICAL TECHNOLOGIES, INC.

    发明人： 王世君 WANG, SHIH CHUN ,  顧逸霞 KU, YI SHA ,  柯俊宏 KO, CHUN HUNG ,  徐得銘 SHYU, DEH MING ,  史密斯 奈吉 SMITH, NIGEL

    IPC分类号： G03F ,  H01L

    CPC分类号： G02B5/18 ,  G02B27/0012 ,  Y10S359/90

    摘要： 一種光柵設計方法包含下列步驟:(a1)根據複數個結構參數値產生一第一繞射圖譜;(a2)根據該第一繞射圖譜與一第一標準圖譜計算一第一離散値,並設定該第一離散値為一預設離散値及該複數個結構參數値為預設結構參數値;(b1)變更該複數個結構參數之一,並據以產生一第二繞射圖譜;(b2)根據該第二繞射圖譜與一第二標準圖譜,計算一第二離散値;(c)比較該預設離散値與該第二離散値,並使用較小者更新該預設離散値及使用較小者對應之結構參數値更新該預設結構參數値;以及(d)重覆步驟(b1)、(b2)及(c)一預定次數之後,使用該預設結構參數値設計光柵。

    简体摘要： 一种光栅设计方法包含下列步骤:(a1)根据复数个结构参数値产生一第一绕射图谱;(a2)根据该第一绕射图谱与一第一标准图谱计算一第一离散値,并设置该第一离散値为一默认离散値及该复数个结构参数値为默认结构参数値;(b1)变更该复数个结构参数之一,并据以产生一第二绕射图谱;(b2)根据该第二绕射图谱与一第二标准图谱,计算一第二离散値;(c)比较该默认离散値与该第二离散値,并使用较小者更新该默认离散値及使用较小者对应之结构参数値更新该默认结构参数値;以及(d)重复步骤(b1)、(b2)及(c)一预定次数之后,使用该默认结构参数値设计光栅。