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    感光性薄膜
    1.
    发明专利
    感光性薄膜 审中-公开

    公开(公告)号：TW201802597A

    公开(公告)日：2018-01-16

    申请号：TW106110071

    申请日：2017-03-27

    申请人： 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

    发明人： 池田芳史 ,  IKEDA, YOSHIFUMI ,  小山祐太朗 ,  KOYAMA, YUTARO

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F12/22 ,  C08G73/06 ,  G03F7/075 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/60 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31

    CPC分类号： C08F8/28 ,  C08F12/22 ,  C08G73/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/20

    摘要： 本發明提供一種感光性薄膜，其係可得到耐熱性高的硬化膜，具有良好的圖案加工性(高感度性)，且具有相對於基板之良好的密合性，亦即，具有積層性。 一種感光性薄膜，其係含有：(A1)具有通式(1)所示之結構單元的鹼可溶性樹脂、(A2)包含選自聚醯亞胺、聚苯并唑、聚醯胺醯亞胺、此等之前驅物、及此等之共聚物之1種以上的鹼可溶性樹脂、(B)光酸產生劑、以及(C)熱交聯劑。 (通式(1)中，R1表示氫原子或碳數1~5的烷基，a表示0~4，b表示1~3之範圍內的整數，R2為氫原子、甲基、乙基、丙基中之任一者。)

    简体摘要： 本发明提供一种感光性薄膜，其系可得到耐热性高的硬化膜，具有良好的图案加工性(高感度性)，且具有相对于基板之良好的密合性，亦即，具有积层性。 一种感光性薄膜，其系含有：(A1)具有通式(1)所示之结构单元的碱可溶性树脂、(A2)包含选自聚酰亚胺、聚苯并唑、聚酰胺酰亚胺、此等之前驱物、及此等之共聚物之1种以上的碱可溶性树脂、(B)光酸产生剂、以及(C)热交联剂。 (通式(1)中，R1表示氢原子或碳数1~5的烷基，a表示0~4，b表示1~3之范围内的整数，R2为氢原子、甲基、乙基、丙基中之任一者。)

    基板的製造方法及使用其的發光元件的製造方法
    3.
    发明专利
    基板的製造方法及使用其的發光元件的製造方法 审中-公开
    基板的制造方法及使用其的发光组件的制造方法

    公开(公告)号：TW201726764A

    公开(公告)日：2017-08-01

    申请号：TW105134884

    申请日：2016-10-28

    申请人： 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

    发明人： 小林秀行 ,  KOBAYASHI, HIDEYUKI ,  弓場智之 ,  YUBA, TOMOYUKI

    IPC分类号： C08G65/18 ,  C08K5/1525 ,  C08L63/00 ,  C08L79/04 ,  C08L79/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

    CPC分类号： C08G65/18 ,  C08K5/1525 ,  C08L63/00 ,  C08L79/04 ,  C08L79/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

    摘要： 本發明使用如下樹脂組成物來提供於表面雕刻有曲面狀圖案的基板的製造方法，所述樹脂組成物可將抗蝕劑圖案形成為曲面狀，於達到高溫的高功率乾式蝕刻處理中亦不產生抗蝕劑燃燒或碳化，可提供具有良好的蝕刻選擇比與蝕刻後的去除性的硬化膜。本發明為經圖案加工的基板的製造方法，其包括：於基板設置包含以下成分樹脂組成物的被膜的步驟：（A）選自由聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺前驅物、聚醯胺醯亞胺前驅物、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前驅物、所述樹脂中的至少兩種以上的共聚物及所述樹脂中的至少一種與其他結構單元的共聚物所組成的群組中的鹼可溶性樹脂， （B）光酸產生劑，及 （C）選自由環氧化合物及氧雜環丁烷化合物所組成的群組中的至少一種化合物； 形成被膜的圖案的步驟； 以被膜的圖案作為遮罩，藉由蝕刻而對基板進行圖案加工的步驟；以及將樹脂組成物的被膜去除的步驟。

    简体摘要： 本发明使用如下树脂组成物来提供于表面雕刻有曲面状图案的基板的制造方法，所述树脂组成物可将抗蚀剂图案形成为曲面状，于达到高温的高功率干式蚀刻处理中亦不产生抗蚀剂燃烧或碳化，可提供具有良好的蚀刻选择比与蚀刻后的去除性的硬化膜。本发明为经图案加工的基板的制造方法，其包括：于基板设置包含以下成分树脂组成物的被膜的步骤：（A）选自由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺前驱物、聚酰胺酰亚胺前驱物、聚苯并恶唑、聚苯并恶唑前驱物、所述树脂中的至少两种以上的共聚物及所述树脂中的至少一种与其他结构单元的共聚物所组成的群组中的碱可溶性树脂， （B）光酸产生剂，及 （C）选自由环氧化合物及氧杂环丁烷化合物所组成的群组中的至少一种化合物； 形成被膜的图案的步骤； 以被膜的图案作为遮罩，借由蚀刻而对基板进行图案加工的步骤；以及将树脂组成物的被膜去除的步骤。

    感光性樹脂組成物、感光性薄片、半導體裝置及半導體裝置之製造方法
    5.
    发明专利
    感光性樹脂組成物、感光性薄片、半導體裝置及半導體裝置之製造方法 审中-公开
    感光性树脂组成物、感光性薄片、半导体设备及半导体设备之制造方法

    公开(公告)号：TW201715301A

    公开(公告)日：2017-05-01

    申请号：TW105128192

    申请日：2016-09-01

    申请人： 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

    发明人： 大西啓之 ,  ONISHI, HIROYUKI ,  小山祐太朗 ,  KOYAMA, YUTARO ,  奧田良治 ,  OKUDA, RYOJI

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08L25/18 ,  C08L79/04 ,  C08L77/00 ,  C08L71/00 ,  C08G81/00 ,  G03F7/022 ,  H01L21/312 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/033 ,  G03F7/037

    摘要： 本發明提供一種感光性樹脂組成物，其能夠得到熱硬化後圖案的垂直性高且低應力性優異並且23℃下的斷裂伸度被提升之硬化膜，該感光性樹脂組成物之特徵為含有(a1)具有以下述通式(1)表示之結構單元的鹼溶性樹脂；(a2)選自聚醯亞胺、聚羥基醯胺、聚醯胺、聚醯胺酸酯、聚苯并唑、及該等的共聚物中之鹼溶性樹脂；與(B)感光劑，且前述鹼溶性樹脂(a2)至少具有聚醚嵌段結構單元。 (式中，R1係表示氫原子或碳數1~5的烷基，a為1~4，b為1~3，而且a+b為2~5的範圍內的整數；R2係表示選自氫原子、甲基、乙基或丙基之中的原子或一個基團。)

    简体摘要： 本发明提供一种感光性树脂组成物，其能够得到热硬化后图案的垂直性高且低应力性优异并且23℃下的断裂伸度被提升之硬化膜，该感光性树脂组成物之特征为含有(a1)具有以下述通式(1)表示之结构单元的碱溶性树脂；(a2)选自聚酰亚胺、聚羟基酰胺、聚酰胺、聚酰胺酸酯、聚苯并唑、及该等的共聚物中之碱溶性树脂；与(B)感光剂，且前述碱溶性树脂(a2)至少具有聚醚嵌段结构单元。 (式中，R1系表示氢原子或碳数1~5的烷基，a为1~4，b为1~3，而且a+b为2~5的范围内的整数；R2系表示选自氢原子、甲基、乙基或丙基之中的原子或一个基团。)

    正型感光性樹脂組成物、乾式薄膜、硬化物及印刷配線板
    7.
    发明专利
    正型感光性樹脂組成物、乾式薄膜、硬化物及印刷配線板 审中-公开
    正型感光性树脂组成物、干式薄膜、硬化物及印刷配线板

    公开(公告)号：TW201704876A

    公开(公告)日：2017-02-01

    申请号：TW105107404

    申请日：2016-03-10

    申请人： 太陽控股股份有限公司 ,  TAIYO HOLDINGS CO., LTD.

    发明人： 秋元真歩 ,  AKIMOTO, MAHO ,  三輪崇夫 ,  MIWA, TAKAO

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/037 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00

    CPC分类号： G03F7/004 ,  C08G73/10 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039 ,  H05K3/28

    摘要： 本發明係提供一種解像性優異之正型感光性樹脂組成物、具有由該組成物所得之樹脂層的乾式薄膜、具有該組成物或該乾式薄膜之樹脂層的硬化物、及具有該硬化物之印刷配線板。 本發明係含有(A)由具有環狀脂肪族骨架與芳香族骨架之酸酐、與二胺所得之聚醯胺酸、與(B)光酸產生劑為特徵之正型感光性樹脂組成物等。前述(A)聚醯胺酸係以具有下述一般式(I)所示構造之化合物者佳， (式中，R1係含由芳香族環與脂肪族烴環所成縮合環之4價有機基、或含芳香族基與脂環式烴基之4價有機基、R2係2價有機基、X係2價有機基、m係1以上之整數、n係0或1以上之整數)。

    简体摘要： 本发明系提供一种解像性优异之正型感光性树脂组成物、具有由该组成物所得之树脂层的干式薄膜、具有该组成物或该干式薄膜之树脂层的硬化物、及具有该硬化物之印刷配线板。 本发明系含有(A)由具有环状脂肪族骨架与芳香族骨架之酸酐、与二胺所得之聚酰胺酸、与(B)光酸产生剂为特征之正型感光性树脂组成物等。前述(A)聚酰胺酸系以具有下述一般式(I)所示构造之化合物者佳， (式中，R1系含由芳香族环与脂肪族烃环所成缩合环之4价有机基、或含芳香族基与脂环式烃基之4价有机基、R2系2价有机基、X系2价有机基、m系1以上之整数、n系0或1以上之整数)。

    樹脂組合物、樹脂膜及電子元件
    8.
    发明专利
    樹脂組合物、樹脂膜及電子元件 审中-公开
    树脂组合物、树脂膜及电子组件

    公开(公告)号：TW201639933A

    公开(公告)日：2016-11-16

    申请号：TW105104232

    申请日：2016-02-15

    申请人： 日本瑞翁股份有限公司 ,  ZEON CORPORATION

    发明人： 堤隆志 ,  TSUTSUMI, TAKASHI ,  大迫由美 ,  OSAKU, YUMI

    IPC分类号： C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  C08K5/057 ,  H05K3/28

    CPC分类号： C08L45/00 ,  C08K5/09 ,  C08K5/1515 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/5435 ,  C08L79/08 ,  C08L83/04 ,  C08L101/00 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757

    摘要： 提供一種樹脂組合物，其特徵在於含有黏結劑樹脂(A)、具有酸性基或潛在性酸性基的化合物(B)、有機溶劑(C)、以及化合物(D)而成，其中此化合物(D)係具有選自矽原子、鈦原子、鋁原子、及鋯原子之中之1個原子且具有鍵結在此原子之烴氧基或羥基；前述化合物(B)係選自由脂肪族化合物、芳香族化合物、及雜環化合物所組成群組之至少1種，相對於前述黏結劑樹脂(A)100重量份，前述化合物(B)的含量為0.1~2.5重量份，前述化合物(D)的含量為2.2~7.0重量份。

    简体摘要： 提供一种树脂组合物，其特征在于含有黏结剂树脂(A)、具有酸性基或潜在性酸性基的化合物(B)、有机溶剂(C)、以及化合物(D)而成，其中此化合物(D)系具有选自硅原子、钛原子、铝原子、及锆原子之中之1个原子且具有键结在此原子之烃氧基或羟基；前述化合物(B)系选自由脂肪族化合物、芳香族化合物、及杂环化合物所组成群组之至少1种，相对于前述黏结剂树脂(A)100重量份，前述化合物(B)的含量为0.1~2.5重量份，前述化合物(D)的含量为2.2~7.0重量份。

    酚醛型酚樹脂、感光性組成物、抗蝕劑材料、塗膜、及抗蝕劑塗膜
    9.
    发明专利
    酚醛型酚樹脂、感光性組成物、抗蝕劑材料、塗膜、及抗蝕劑塗膜 审中-公开
    酚醛型酚树脂、感光性组成物、抗蚀剂材料、涂膜、及抗蚀剂涂膜

    公开(公告)号：TW201634508A

    公开(公告)日：2016-10-01

    申请号：TW104136834

    申请日：2015-11-09

    申请人： 迪愛生股份有限公司 ,  DIC CORPORATION

    发明人： 今田知之 ,  IMADA, TOMOYUKI ,  長江教夫 ,  NAGAE, NORIO ,  佐藤勇介 ,  SATO, YUSUKE

    IPC分类号： C08G8/20 ,  C08G8/04 ,  G03F7/004 ,  C09D161/12

    CPC分类号： C08G8/20 ,  G03F7/023

    摘要： 提供一種適合用以獲得即使於設為厚膜之情形時柔軟性亦優異，而且耐熱性、鹼顯影性、感度及解像度優異之塗膜的酚醛型酚樹脂等。具體而言，提供一種酚醛型酚樹脂，其係於存在酸觸媒之條件下使選自由通式(1)所示之化合物及通式(2)所示之化合物構成之群中之1種以上之酚系三核體化合物(A)、單醛類(B)與聚醛類(C)進行反應而獲得。 [式中，R1、R2及R3分別獨立地表示亦可具有取代基之碳原子數1~8之烷基，R4表示氫原子、亦可具有取代基之烷基或亦可具有取代基之芳基，p及q分別獨立為1~4之整數，r為0~4之整數，s為1或2。其中，r與s之和為5以下]

    简体摘要： 提供一种适合用以获得即使于设为厚膜之情形时柔软性亦优异，而且耐热性、碱显影性、感度及解像度优异之涂膜的酚醛型酚树脂等。具体而言，提供一种酚醛型酚树脂，其系于存在酸触媒之条件下使选自由通式(1)所示之化合物及通式(2)所示之化合物构成之群中之1种以上之酚系三核体化合物(A)、单醛类(B)与聚醛类(C)进行反应而获得。 [式中，R1、R2及R3分别独立地表示亦可具有取代基之碳原子数1~8之烷基，R4表示氢原子、亦可具有取代基之烷基或亦可具有取代基之芳基，p及q分别独立为1~4之整数，r为0~4之整数，s为1或2。其中，r与s之和为5以下]