公开(公告)号：TWI506141B

公开(公告)日：2015-11-01

申请号：TW100135230

申请日：2011-09-29

Applicant: 王慧玲

Inventor： 王慧玲

IPC: C22B7/00 ,  C22B25/06 ,  C02F1/62

CPC classification number: Y02P10/22 ,  Y02P10/228 ,  Y02P10/234 ,  Y02P10/236

公开(公告)号：TWI409338B

公开(公告)日：2013-09-21

申请号：TW098107087

申请日：2009-03-05

Applicant: 杰富意鋼鐵股份有限公司 ,  JFE STEEL CORPORATION

Inventor： 松井章敏 ,  MATSUI, AKITOSHI ,  內田祐一 ,  UCHIDA, YUICHI ,  岸本康夫 ,  KISHIMOTO, YASUO ,  小笠原太 ,  OGASAWARA, FUTOSHI

IPC: C21C7/04 ,  C21C7/064

CPC classification number: C22B9/106 ,  C21C1/025 ,  C21C7/0645 ,  C21C2200/00 ,  C22B1/005 ,  C22B9/10 ,  C22B15/0056 ,  Y02P10/214 ,  Y02P10/22 ,  Y02P10/234 ,  Y02P10/236

公开(公告)号：TW201337040A

公开(公告)日：2013-09-16

申请号：TW101146600

申请日：2012-12-11

Applicant: 三菱綜合材料股份有限公司 ,  MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION

Inventor： 熊谷淳一 ,  KUMAGAI, JYUNICHI ,  樽谷圭栄 ,  TARUTANI, YOSHIE ,  中山宏明 ,  NAKAYAMA, HIROAKI ,  岡田健志 ,  OKADA, KENZI ,  加藤直樹 ,  KATO, NAOKI ,  久保田賢治 ,  KUBOTA, KENJI

IPC: C23G1/10 ,  C23G1/36 ,  C25C1/12

CPC classification number: Y02P10/236

Abstract: 本發明係提供一種在酸洗浴中浸漬銅或銅基合金，除去氧化皮膜後，使該酸洗液進行電解，有效地回收高純度的銅或銅基合金，且使電解後之酸洗液回至酸洗浴中予以再利用。本發明係使用含有硫酸：50~400g/L、選自硝酸、過氧化氫、過氧二硫酸離子、3價鐵離子所成群中之至少一種的氧化劑：1~100g/L、選自芳香族磺酸、芳香族磺酸鹽、烷胺、芳香族羧酸、芳香族羧酸鹽所成群中之至少一種的添加劑：0.01~10g/L、選自烷基苯磺酸、烷基苯磺酸鹽所成群中之至少一種的界面活性劑：0.005~10g/L、硫酸銅：10~300g/L之酸洗液，除去氧化皮膜後，進行電解，加入相當於被消耗份量的氧化劑、添加劑及界面活性劑予以再利用。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供一种在酸洗浴中浸渍铜或铜基合金，除去氧化皮膜后，使该酸洗液进行电解，有效地回收高纯度的铜或铜基合金，且使电解后之酸洗液回至酸洗浴中予以再利用。本发明系使用含有硫酸：50~400g/L、选自硝酸、过氧化氢、过氧二硫酸离子、3价铁离子所成群中之至少一种的氧化剂：1~100g/L、选自芳香族磺酸、芳香族磺酸盐、烷胺、芳香族羧酸、芳香族羧酸盐所成群中之至少一种的添加剂：0.01~10g/L、选自烷基苯磺酸、烷基苯磺酸盐所成群中之至少一种的界面活性剂：0.005~10g/L、硫酸铜：10~300g/L之酸洗液，除去氧化皮膜后，进行电解，加入相当于被消耗份量的氧化剂、添加剂及界面活性剂予以再利用。

公开(公告)号：TWI392772B

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：TW096142961

申请日：2007-11-14

Applicant: 培爾梅烈克電極股份有限公司 ,  PERMELEC ELECTRODE LTD.

Inventor： 加藤昭博 ,  AKIHIRO KATO

IPC: C25D17/10

CPC classification number: Y02P10/236

公开(公告)号：TWI392746B

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：TW097151778

申请日：2008-12-31

Applicant: 遠東科技大學 ,  FAR EAST UNIVERSITY

Inventor： 王振興 ,  WANG, JENN SHING

IPC: C22B7/04

CPC classification number: Y02P10/234 ,  Y02P10/236 ,  Y02P10/242

公开(公告)号：TW201311570A

公开(公告)日：2013-03-16

申请号：TW100132504

申请日：2011-09-09

Applicant: 莊倉宏 ,  CHUANG, TSANG HUNG

Inventor： 馮云香 ,  FENG, YUN-XIANG

IPC: C02F1/42 ,  C25C1/12 ,  B01J39/20 ,  B01J49/00 ,  C02F101/20

CPC classification number: Y02P10/236

Abstract: 一種酸性含銅廢液回收製造電解銅方法，係用於回收處理印刷電路板製程中所產生之酸性含銅廢液，其包括銅濃度小於2000ppm之鍍銅水洗液、微蝕槽洗槽液等廢液及其混合液，首先以陽離子交換樹脂吸附酸性含銅廢液中之銅離子；將陽離子交換樹脂以硫酸溶液進行再生，使銅解析成硫酸銅溶液，並且銅濃度為20～25克/公升；將硫酸銅溶液進行電解提銅處理，以製造出電解銅；而硫酸銅溶液進行電解提銅處理後，其銅濃度下降至600ppm以下時，即可返回作為硫酸溶液重複使用，而不必排放。

Abstract in simplified Chinese: 一种酸性含铜废液回收制造电解铜方法，系用于回收处理印刷电路板制程中所产生之酸性含铜废液，其包括铜浓度小于2000ppm之镀铜水洗液、微蚀槽洗槽液等废液及其混合液，首先以阳离子交换树脂吸附酸性含铜废液中之铜离子；将阳离子交换树脂以硫酸溶液进行再生，使铜解析成硫酸铜溶液，并且铜浓度为20～25克/公升；将硫酸铜溶液进行电解提铜处理，以制造出电解铜；而硫酸铜溶液进行电解提铜处理后，其铜浓度下降至600ppm以下时，即可返回作为硫酸溶液重复使用，而不必排放。

公开(公告)号：TW200948981A

公开(公告)日：2009-12-01

申请号：TW097118942

申请日：2008-05-22

Applicant: 廖淑芬

Inventor： 廖淑芬

IPC: C22B ,  C25C ,  C02F ,  B29B ,  B09B

CPC classification number: Y02P10/234 ,  Y02P10/236 ,  Y02W30/62

Abstract: 一種可同時處理回收硫酸銅溶液與鋁塑膜的方法，係將包含由鋁製成的第一層體之鋁塑膜經一前處理後，浸入一廢硫酸銅溶液中，直到該廢硫酸銅溶液與該第一層體反應產生銅以及硫酸鋁溶液。

Abstract in simplified Chinese: 一种可同时处理回收硫酸铜溶液与铝塑膜的方法，系将包含由铝制成的第一层体之铝塑膜经一前处理后，浸入一废硫酸铜溶液中，直到该废硫酸铜溶液与该第一层体反应产生铜以及硫酸铝溶液。

公开(公告)号：TWI315349B

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：TW095117439

申请日：2006-05-17

Applicant: 日鑛金屬股份有限公司

Inventor： 新藤裕一朗 ,  竹本幸一

IPC: C22C ,  H01L ,  C25C

CPC classification number: C22B15/0084 ,  C22B15/0073 ,  C22B15/0089 ,  C22C9/00 ,  C25C1/12 ,  C25C7/06 ,  H01L24/43 ,  H01L24/45 ,  H01L2224/05624 ,  H01L2224/43 ,  H01L2224/43848 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2224/45144 ,  H01L2224/45147 ,  H01L2224/45565 ,  H01L2224/456 ,  H01L2224/48624 ,  H01L2924/00011 ,  H01L2924/01105 ,  H01L2924/01208 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/14 ,  Y02P10/236 ,  H01L2924/01008 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01016 ,  H01L2924/01205 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2224/45647 ,  H01L2224/48824 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00015 ,  H01L2924/013 ,  H01L2924/20105 ,  H01L2924/20106 ,  H01L2924/20107 ,  H01L2924/2011 ,  H01L2924/20111 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01001 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01007

Abstract: 本發明係關於超高純度銅及其製造方法。該超高純度銅其硬度為40Hv以下、純度為8N以上(不計O、C、N、H、S、P之氣體成分)，且氣體成分之O、S、P各元素皆為1重量ppm以下。又，該製造方法係使用由硝酸銅溶液構成之電解液以二階段電解製造超高純度銅時，於硝酸銅溶液構成之電解液中添加鹽酸，且使電解液循環，將此循環之電解液暫時降至10℃以下，以過濾器去除雜質，並以二階段電解進行電解。本發明之目的在製得上述可適用於細線化(拉伸化)之銅材。亦即，有效率的製造純度8N(99.999999重量%)以上的超高純度銅，並提供所製得之超高純度銅以得到尤其是可細線化之半導體元件用引線。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于超高纯度铜及其制造方法。该超高纯度铜其硬度为40Hv以下、纯度为8N以上(不计O、C、N、H、S、P之气体成分)，且气体成分之O、S、P各元素皆为1重量ppm以下。又，该制造方法系使用由硝酸铜溶液构成之电解液以二阶段电解制造超高纯度铜时，于硝酸铜溶液构成之电解液中添加盐酸，且使电解液循环，将此循环之电解液暂时降至10℃以下，以过滤器去除杂质，并以二阶段电解进行电解。本发明之目的在制得上述可适用于细线化(拉伸化)之铜材。亦即，有效率的制造纯度8N(99.999999重量%)以上的超高纯度铜，并提供所制得之超高纯度铜以得到尤其是可细线化之半导体组件用引线。

公开(公告)号：TWI226910B

公开(公告)日：2005-01-21

申请号：TW088110274

申请日：1999-06-21

Applicant: 長春石油化學股份有限公司

Inventor： 陳朝興 ,  蕭國瀧 ,  蔡承平

IPC: C25C

CPC classification number: Y02P10/236

Abstract: 本發明係有關一種銅箔之製法，包括將銅板利用網板擴張機將銅板於單定向衝壓，使銅板具有切痕但並未切斷銅板之狀態下，以垂直於該衝壓之方向予以拉伸，而擴張成銅擴張網板，使該銅擴張網板置入含有電解液之溶解槽中，令銅擴張網板溶解並氧化成銅離子，再經電化學作用製得銅箔金屬。本發明方法之特徵為使銅板擴張成銅擴張網板，以增加銅與電解液間之接觸面積，進而增加溶解速度並增加產能。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系有关一种铜箔之制法，包括将铜板利用网板扩张机将铜板於单定向冲压，使铜板具有切痕但并未切断铜板之状态下，以垂直于该冲压之方向予以拉伸，而扩张成铜扩张网板，使该铜扩张网板置入含有电解液之溶解槽中，令铜扩张网板溶解并氧化成铜离子，再经电化学作用制得铜箔金属。本发明方法之特征为使铜板扩张成铜扩张网板，以增加铜与电解液间之接触面积，进而增加溶解速度并增加产能。

公开(公告)号：TW553939B

公开(公告)日：2003-09-21

申请号：TW089105605

申请日：2000-03-27

Applicant: 輝瑞製品股份有限公司

Inventor： 理查 理納 ,  提摩西 諾利斯 ,  狄諾斯 山塔菲諾斯

IPC: C07D ,  C07F

CPC classification number: C22B15/0004 ,  C07D239/94 ,  C07F7/0812 ,  C22B15/0071 ,  Y02P10/236

Abstract: 本發明係有關對於製備式I化合物及其醫藥可接受鹽和溶劑合物，以及其構造相關性化合物所用方法及中間體式中R1，R2與R3皆為本文所定義者。前述化合物可用來治療哺乳動物的過度增生性疾病，例如癌症。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系有关对于制备式I化合物及其医药可接受盐和溶剂合物，以及其构造相关性化合物所用方法及中间体式中R1，R2与R3皆为本文所定义者。前述化合物可用来治疗哺乳动物的过度增生性疾病，例如癌症。