公开(公告)号：TWI600753B

公开(公告)日：2017-10-01

申请号：TW102121133

申请日：2013-06-14

申请人： 東洋鋁股份有限公司 ,  TOYO ALUMINIUM KABUSHIKI KAISHA

发明人： 山田和範 ,  YAMADA, KAZUNORI ,  關口朋伸 ,  SEKIGUCHI, TOMONOBU ,  西川浩之 ,  NISHIKAWA, HIROYUKI ,  麻植啓司 ,  OE, HIROSHI ,  寺澤侑哉 ,  TERASAWA, YUYA ,  鎌田正彥 ,  KAMADA, MASAHIKO ,  森井俊夫 ,  MORII, TOSHIO ,  戶崎雄介 ,  TOSAKI, YUSUKE ,  山下行也 ,  YAMASHITA, YUKIYA

IPC分类号： C09K3/18 ,  B65D65/40

CPC分类号： C09K3/18 ,  C01P2004/03 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C09C1/28 ,  C09C1/3072 ,  C09C1/3676 ,  C09C1/40 ,  C09C3/10 ,  C09D133/16 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/249986 ,  Y10T428/254 ,  C08K3/36

公开(公告)号：TWI504669B

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：TW102123271

申请日：2013-06-28

申请人： 可隆股份有限公司 ,  KOLON INDUSTRIES, INC.

发明人： 鄭裕仁 ,  JUNG, YUIN

IPC分类号： C08L67/00 ,  C08K9/02 ,  B29D7/01

CPC分类号： C08J5/18 ,  C08J3/203 ,  C08J2367/02 ,  C08K5/098 ,  C08K9/02 ,  C08K2201/003 ,  Y10T428/2438 ,  C08L67/02

公开(公告)号：TWI358462B

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：TW093131580

申请日：2004-10-18

申请人： 東曹股份有限公司

发明人： 高橋小彌太 ,  松永修 ,  岡本美智雄

IPC分类号： C23C

CPC分类号： H01J37/32495 ,  C23C4/02 ,  C23C4/06 ,  C23C4/10 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4404 ,  H01J5/10 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/24413 ,  Y10T428/24421 ,  Y10T428/2991

摘要： 一種用於真空裝置的組件，該真空裝置係用於半導體等用的電漿加工裝置或成膜裝置中，其中以陶瓷及/或金屬熱噴霧膜及該熱噴霧膜表面上之介於20至20,000粒子/平方毫米之寬度10至300微米、高度4至600微米且平均高/寬比0.4或更高的突出狀粒子覆蓋在該組件表面。該熱噴霧膜具有10至40%的孔隙度，顯示對於膜狀物質具有高黏著性，沒有膜狀物質剝離產生的粒子所造成的產物污染，並可長時期連續地使用。

简体摘要： 一种用于真空设备的组件，该真空设备系用于半导体等用的等离子加工设备或成膜设备中，其中以陶瓷及/或金属热喷雾膜及该热喷雾膜表面上之介于20至20,000粒子/平方毫米之宽度10至300微米、高度4至600微米且平均高/宽比0.4或更高的突出状粒子覆盖在该组件表面。该热喷雾膜具有10至40%的孔隙度，显示对于膜状物质具有高黏着性，没有膜状物质剥离产生的粒子所造成的产物污染，并可长时期连续地使用。

公开(公告)号：TW201011061A

公开(公告)日：2010-03-16

申请号：TW098118516

申请日：2009-06-04

申请人： 羅門哈斯公司

发明人： 克斯 卡羅斯A ,  劉威利 ,  羅柯斯基 喬瑟夫M ,  王棋

IPC分类号： C08J

CPC分类号： C08J3/16 ,  C08F6/22 ,  C08J2300/30 ,  C08J2319/00 ,  C08J2321/00 ,  C08L19/003 ,  C08L33/12 ,  C08L101/02 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24364 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/24405 ,  C08L2666/04

摘要： 本發明提供製造複合材料之方法，包括將交聯橡膠微粒與凝聚水性聚合物分散體組合以於水性分散體中形成混合物，並固態剪切粉碎該水性分散體混合物以於10重量%至95重量%(基於該材料之總固體量)之交聯橡膠濃度形成可如熱塑性塑料般加工之材料。該方法可進一步包括揉合該粉碎產品以形成有用製品，諸如屋頂膜及鞋底。

简体摘要： 本发明提供制造复合材料之方法，包括将交联橡胶微粒与凝聚水性聚合物分散体组合以于水性分散体中形成混合物，并固态剪切粉碎该水性分散体混合物以于10重量%至95重量%(基于该材料之总固体量)之交联橡胶浓度形成可如热塑性塑料般加工之材料。该方法可进一步包括揉合该粉碎产品以形成有用制品，诸如屋顶膜及鞋底。

公开(公告)号：TW200900564A

公开(公告)日：2009-01-01

申请号：TW097100573

申请日：2008-01-07

申请人： 日吉華股份有限公司 NICHIHA CO., LTD

发明人： 大野省三 OHNO, SYOUZOU

IPC分类号： E04F

CPC分类号： E04F13/0871 ,  B05D5/06 ,  B05D7/57 ,  B05D2203/30 ,  B44C5/04 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B41/71 ,  C04B2111/82 ,  Y10T428/12396 ,  Y10T428/24 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24364 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/24388 ,  C04B41/4543 ,  C04B41/483 ,  C04B20/0016 ,  C04B41/4535 ,  C04B41/4572 ,  C04B28/182 ,  C04B28/14 ,  C04B28/02

摘要： 【【課題】】本發明的目的在於提供一種,即使在原板的凸部之緣角部的斜面部或其端部附近的部分,有龜裂、細裂痕、孔洞、氣泡,亦以塗裝方法來解決,甚至接縫部分不但具創意性也具耐候性,且為消光狀態,將凸部之緣角部的斜面部或其端部附近,易出現龜裂、細裂痕、孔洞、氣泡的凸部作為亮面狀態,而可提高創意性與耐候性的外牆板及其塗裝方法。【【解決手段】】一種外牆板,其特徵為:在具有凹凸圖樣面之原板的表面,依序形成有下塗層、中塗層,在該中塗層的表面形成有混入珠子的第1潻料(clear)層,且該第1潻料層的表面,即在由該圖樣面的凸部起朝向凹部的凸部緣角至附近部分,形成有透明或半透明的第2潻料層。

简体摘要： 【【课题】】本发明的目的在于提供一种,即使在原板的凸部之缘角部的斜面部或其端部附近的部分,有龟裂、细裂痕、孔洞、气泡,亦以涂装方法来解决,甚至接缝部分不但具创意性也具耐候性,且为消光状态,将凸部之缘角部的斜面部或其端部附近,易出现龟裂、细裂痕、孔洞、气泡的凸部作为亮面状态,而可提高创意性与耐候性的外墙板及其涂装方法。【【解决手段】】一种外墙板,其特征为:在具有凹凸图样面之原板的表面,依序形成有下涂层、中涂层,在该中涂层的表面形成有混入珠子的第1潻料(clear)层,且该第1潻料层的表面,即在由该图样面的凸部起朝向凹部的凸部缘角至附近部分,形成有透明或半透明的第2潻料层。

公开(公告)号：TWI284212B

公开(公告)日：2007-07-21

申请号：TW089111425

申请日：2000-06-12

申请人： 3M新設資產公司 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

发明人： 布利頓 傑夫瑞 畢林斯利 BRITTON GEOFFREY BILLINGSLEY ,  羅伯特 詹姆士 弗萊明 ROBERT JAMES FLEMING

IPC分类号： G02B

CPC分类号： A41D13/01 ,  G02B5/128 ,  Y10S428/913 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/24893

摘要： 一種曝露式透鏡逆反射物件10，其包含部份置入黏合劑層14的光學元件層12。反射層16機能性地位於光學元件12的後方，且有色層18位於反射層16及光學元件12間。有色層18以共價鍵結至聚合物上之染料上色。在多次工業清洗循環後，該曝露式透鏡逆反射物件可保持其顏色及逆反射能力，故該物件特別適用於如救火員夾克的服裝。

简体摘要： 一种曝露式透镜逆反射对象10，其包含部份置入黏合剂层14的光学组件层12。反射层16机能性地位于光学组件12的后方，且有色层18位于反射层16及光学组件12间。有色层18以共价键结至聚合物上之染料上色。在多次工业清洗循环后，该曝露式透镜逆反射对象可保持其颜色及逆反射能力，故该对象特别适用于如救火员夹克的服装。

公开(公告)号：TWI279422B

公开(公告)日：2007-04-21

申请号：TW092125204

申请日：2003-09-12

申请人： 菲利克斯產品公司 FLEX PRODUCTS, INC.

发明人： 艾爾伯托 安哥提亞 ALBERTO ARGOITIA ,  瓦拉迪米爾P. 洛克夏 VLADIMIR P. RAKSHA ,  朱迪軒 DISHUAN CHU

IPC分类号： C09B

CPC分类号： H01F10/12 ,  B41M3/148 ,  B42D25/29 ,  B42D25/328 ,  B42D25/369 ,  B42D2033/16 ,  B42D2033/20 ,  C01P2004/54 ,  C01P2006/42 ,  C09C1/0015 ,  C09C1/0078 ,  C09C2200/30 ,  C09C2200/40 ,  C09C2210/30 ,  C09D5/36 ,  C09D11/50 ,  G03H1/0244 ,  G03H1/028 ,  G03H2270/24 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/24413 ,  Y10T428/24893 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991

摘要： 將衍射性顏料片選擇性對準而形成像。在一具體實施例中，將具有磁性層之片成形以便利於在磁場中對準。在另一具體實施例中，各片包括磁性不連續層。在一特別具體實施例中，沉積鎳在衍射光柵圖型上沿著光柵圖型產生磁針，其使得將所產生之衍射性顏料片磁性對準。已磁性對準之顏料片試驗樣品之顏色掃描顯示平行於與垂直於磁性衍射性顏料片的對準方向之照明間具有很大區別。

简体摘要： 将衍射性颜料片选择性对准而形成像。在一具体实施例中，将具有磁性层之片成形以便利于在磁场中对准。在另一具体实施例中，各片包括磁性不连续层。在一特别具体实施例中，沉积镍在衍射光栅图型上沿着光栅图型产生磁针，其使得将所产生之衍射性颜料片磁性对准。已磁性对准之颜料片试验样品之颜色扫描显示平行于与垂直于磁性衍射性颜料片的对准方向之照明间具有很大区别。

公开(公告)号：TW200521265A

公开(公告)日：2005-07-01

申请号：TW093131580

申请日：2004-10-18

申请人： 東曹股份有限公司 TOSOH CORPORATION

发明人： 高橋小彌太 TAKAHASHI, KOYATA ,  松永修 MATSUNAGA, OSAMU ,  岡本美智雄 OKAMOTO, MICHIO

IPC分类号： C23C

CPC分类号： H01J37/32495 ,  C23C4/02 ,  C23C4/06 ,  C23C4/10 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4404 ,  H01J5/10 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/2438 ,  Y10T428/24413 ,  Y10T428/24421 ,  Y10T428/2991

摘要： 一種用於真空裝置的組件，該真空裝置係用於半導體等用的電漿加工裝置或成膜裝置中，其中以陶瓷及／或金屬熱噴霧膜及該熱噴霧膜表面上之介於20至20,000粒子／平方毫米之寬度10至300微米、高度4至600微米且平均高／寬比0.4或更高的突出狀粒子覆蓋在該組件表面。該熱噴霧膜具有10至40％的孔隙度，顯示對於膜狀物質具有高黏著性，沒有膜狀物質剝離產生的粒子所造成的產物污染，並可長時期連續地使用。

简体摘要： 一种用于真空设备的组件，该真空设备系用于半导体等用的等离子加工设备或成膜设备中，其中以陶瓷及／或金属热喷雾膜及该热喷雾膜表面上之介于20至20,000粒子／平方毫米之宽度10至300微米、高度4至600微米且平均高／宽比0.4或更高的突出状粒子覆盖在该组件表面。该热喷雾膜具有10至40％的孔隙度，显示对于膜状物质具有高黏着性，没有膜状物质剥离产生的粒子所造成的产物污染，并可长时期连续地使用。

公开(公告)号：TWI600032B

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：TW103130696

申请日：2014-09-05

申请人： 兆科學公司 ,  TRILLION SCIENCE, INC.

发明人： 梁 榮昌 ,  LIANG, RONG-CHANG ,  孫昱昊 ,  SUN, YUHAO ,  安之瑤 ,  AN, ZHIYAO

IPC分类号： H01B3/28 ,  H01B3/30 ,  H01B3/44 ,  H01B7/00

CPC分类号： H01B3/447 ,  H01B3/28 ,  H01B3/307 ,  H01B3/442 ,  H01L24/16 ,  H01L24/27 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L24/83 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2224/271 ,  H01L2224/2929 ,  H01L2224/29387 ,  H01L2224/2939 ,  H01L2224/29393 ,  H01L2224/29411 ,  H01L2224/29423 ,  H01L2224/29424 ,  H01L2224/29439 ,  H01L2224/29444 ,  H01L2224/29447 ,  H01L2224/29455 ,  H01L2224/2946 ,  H01L2224/29469 ,  H01L2224/2949 ,  H01L2224/29499 ,  H01L2224/32227 ,  H01L2224/81903 ,  H01L2224/83851 ,  H01L2924/12041 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/12044 ,  H05K1/0213 ,  H05K3/323 ,  H05K2201/0221 ,  Y10T428/2438 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00

公开(公告)号：TWI576987B

公开(公告)日：2017-04-01

申请号：TW105129133

申请日：2012-06-26

申请人： 半導體能源研究所股份有限公司 ,  SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.

发明人： 山崎舜平 ,  YAMAZAKI, SHUNPEI ,  小山潤 ,  KOYAMA, JUN

IPC分类号： H01L27/02 ,  H01L27/32 ,  H01L23/62 ,  G09G3/00

CPC分类号： H01L27/0266 ,  G09G3/3283 ,  G09G3/3677 ,  G09G3/3688 ,  G09G2300/0426 ,  G09G2310/0267 ,  G09G2310/0275 ,  G09G2310/0286 ,  G09G2330/04 ,  G11C19/28 ,  H01L27/1225 ,  H02H9/044 ,  Y10T29/49117 ,  Y10T428/24364 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/2438