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1.发明专利感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法、電子元件及電子元件的製造方法 有权感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子组件及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TWI632424B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103106625
申请日：2014-02-27
申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人： 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 滝沢裕雄 , TAKIZAWA, HIROO , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/10 , C08F16/12 , C08F16/10 , H01L21/312 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027
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公开(公告)号：TW201819430A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106129213
申请日：2017-08-28
发明人： 崔 莉 , CUI, LI , 卡特勒 夏洛特A , CUTLER, CHARLOTTE A. , 科萊 蘇珊M , COLEY, SUZANNE M. , 翁耶義 歐文弟 , ONGAYI, OWENDI , 沙利文 克里斯多夫P , SULLIVAN, CHRISTOPHER P. , 拉博梅 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 山田 信太郎 , YAMADA, SHINTARO , 李 明琦 , LI, MINGQI , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
IPC分类号： C08F16/10 , C08F20/06 , C08F20/14 , C08F20/30 , C08F24/00 , C08G63/08 , C08G77/04 , C09D183/04 , C09D5/20 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/42
摘要： 本發明提供包含一或多種包含含Si-O鍵的主鏈的含矽聚合物、一或多種有機摻合物聚合物及固化催化劑的可濕剝離底層組合物。此等組合物適用於製造多種電子裝置。
简体摘要： 本发明提供包含一或多种包含含Si-O键的主链的含硅聚合物、一或多种有机掺合物聚合物及固化催化剂的可湿剥离底层组合物。此等组合物适用于制造多种电子设备。
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公开(公告)号：TWI663176B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW106129213
申请日：2017-08-28
发明人： 崔 莉 , CUI, LI , 卡特勒 夏洛特A , CUTLER, CHARLOTTE A. , 科萊 蘇珊M , COLEY, SUZANNE M. , 翁耶義 歐文弟 , ONGAYI, OWENDI , 沙利文 克里斯多夫P , SULLIVAN, CHRISTOPHER P. , 拉博梅 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 山田 信太郎 , YAMADA, SHINTARO , 李 明琦 , LI, MINGQI , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
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4.发明专利感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法、電子元件及電子元件的製造方法 审中-公开感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子组件及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201443557A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103106625
申请日：2014-02-27
申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人： 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 滝沢裕雄 , TAKIZAWA, HIROO , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/10 , C08F16/12 , C08F16/10 , H01L21/312 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027
CPC分类号： C08F220/30 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： 藉由本發明，提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其含有樹脂(Aa)、樹脂(Ab)及藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物，上述樹脂(Aa)含有重複單元(c)，上述重複單元(c)具有至少2個以上的通式(KA-1)或通式(KB-1)所表示的結構中的-COO-所表示的基團，上述樹脂(Ab)含有通式(A)所表示的重複單元、且對顯影液的溶解性因酸的作用而變化。[化1]
简体摘要： 借由本发明，提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其含有树脂(Aa)、树脂(Ab)及借由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，上述树脂(Aa)含有重复单元(c)，上述重复单元(c)具有至少2个以上的通式(KA-1)或通式(KB-1)所表示的结构中的-COO-所表示的基团，上述树脂(Ab)含有通式(A)所表示的重复单元、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化。[化1]
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