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公开(公告)号：TWI652285B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106139624
申请日：2017-11-16
发明人： 坎齊 查爾斯R , KINZIE, CHARLES R. , 格林 丹尼爾 , GREENE, DANIEL , 吉爾摩爾 克里斯多夫 , GILMORE, CHRISTOPHER , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F. , 丁 平 , DING, PING , 王 慶民 , WANG, QING-MIN , 金 映錫 , KIM, YOUNG-SEOK
IPC分类号： C08G61/12 , C08L65/00 , H01B3/30 , H01L21/312 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L23/532 , H01L23/498
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公开(公告)号：TW201823296A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106139624
申请日：2017-11-16
发明人： 坎齊 查爾斯R , KINZIE, CHARLES R. , 格林 丹尼爾 , GREENE, DANIEL , 吉爾摩爾 克里斯多夫 , GILMORE, CHRISTOPHER , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F. , 丁 平 , DING, PING , 王 慶民 , WANG, QING-MIN , 金 映錫 , KIM, YOUNG-SEOK
IPC分类号： C08G61/12 , C08L65/00 , H01B3/30 , H01L21/312 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L23/532 , H01L23/498
摘要： 具有極性部分的某些環戊二烯酮單體適用於形成在某些有機溶劑中具有改良溶解度的聚伸芳基樹脂且適用於在電子應用中形成聚伸芳基樹脂層。
简体摘要： 具有极性部分的某些环戊二烯酮单体适用于形成在某些有机溶剂中具有改良溶解度的聚伸芳基树脂且适用于在电子应用中形成聚伸芳基树脂层。
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公开(公告)号：TW201813961A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106132144
申请日：2017-09-19
发明人： 拉博梅 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
IPC分类号： C07D333/76 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/76 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/32 , G03F7/38 , H01L21/0274
摘要： 一種具有式(I)之光可破壞淬滅劑： 其中在式(I)中，基團及變數與說明書中所描述的相同。
简体摘要： 一种具有式(I)之光可破坏淬灭剂： 其中在式(I)中，基团及变量与说明书中所描述的相同。
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公开(公告)号：TWI619699B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105140692
申请日：2016-12-08
发明人： 威廉斯 威廉 III , WILLIAMS, WILLIAM, III , 阿克德 伊馬德 , AQAD, EMAD , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
IPC分类号： C07C381/12 , C07C255/31 , C07C255/24 , C07F13/00 , G03F7/039 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C25/18 , C07C255/24 , C07C255/31 , C07C255/34 , C07C381/12 , C07C2102/08 , C07C2103/74 , C07C2602/08 , C07C2603/74 , G03F7/038 , G03F7/091 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
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5.发明专利包括具有光酸產生官能基及鹼溶解度增強官能基的重複單元的聚合物及相關光阻劑組合物及電子裝置形成方法 有权包括具有光酸产生官能基及碱溶解度增强官能基的重复单元的聚合物及相关光阻剂组合物及电子设备形成方法
公开(公告)号：TWI592429B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW104132897
申请日：2015-10-06
发明人： 珍恩 維保 , JAIN, VIPUL , 拉博梅 保羅 J , LABEAUME, PAUL J. , 薩克雷 詹姆士 W , THACKERAY, JAMES W. , 卡麥隆 詹姆士 F , CAMERON, JAMES F. , 科萊 蘇珊 M , COLEY, SUZANNE M. , 科沃克 艾米 M , KWOK, AMY M. , 瓦萊里 大衛 A , VALERI, DAVID A.
IPC分类号： C08F12/22 , C08F20/28 , C08F20/30 , C08F20/38 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： C08F22/10 , C07C309/12 , C07C381/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/0274 , H01L21/0275
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6.发明专利包括具有光酸產生官能基及鹼溶解度增強官能基的重複單元的聚合物及相關光阻劑組合物及電子裝置形成方法 审中-公开包括具有光酸产生官能基及碱溶解度增强官能基的重复单元的聚合物及相关光阻剂组合物及电子设备形成方法
公开(公告)号：TW201630947A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104132897
申请日：2015-10-06
发明人： 珍恩 維保 , JAIN, VIPUL , 拉博梅 保羅 J , LABEAUME, PAUL J. , 薩克雷 詹姆士 W , THACKERAY, JAMES W. , 卡麥隆 詹姆士 F , CAMERON, JAMES F. , 科萊 蘇珊 M , COLEY, SUZANNE M. , 科沃克 艾米 M , KWOK, AMY M. , 瓦萊里 大衛 A , VALERI, DAVID A.
IPC分类号： C08F12/22 , C08F20/28 , C08F20/30 , C08F20/38 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： C08F22/10 , C07C309/12 , C07C381/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/0274 , H01L21/0275
摘要： 聚合物包含重複單元，所述重複單元中的至少一半是光酸產生重複單元。所述光酸產生重複單元中的每一個包含光酸產生官能基及鹼溶解度增強官能基。所述聚合物適用作光阻劑組合物的組分，所述光阻劑組合物進一步包含在酸的作用下在鹼性顯影劑中展現溶解度的變化的第二聚合物。
简体摘要： 聚合物包含重复单元，所述重复单元中的至少一半是光酸产生重复单元。所述光酸产生重复单元中的每一个包含光酸产生官能基及碱溶解度增强官能基。所述聚合物适用作光阻剂组合物的组分，所述光阻剂组合物进一步包含在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化的第二聚合物。
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公开(公告)号：TWI535741B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW103144458
申请日：2014-12-19
发明人： 強尼 凡保 , JAIN, VIPUL , 安格宜 歐文帝 , ONGAYI, OWENDI , 賽可瑞 詹姆士W , THACKERAY, JAMES W. , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
IPC分类号： C08F220/26 , C07C381/12 , G03F7/027 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , C09D133/06 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F2220/303 , C08F2220/302 , C08F2220/382
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公开(公告)号：TW201533071A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103144461
申请日：2014-12-19
发明人： 安格宜 歐文帝 , ONGAYI, OWENDI , 強尼 凡保 , JAIN, VIPUL , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F. , 賽可瑞 詹姆士W , THACKERAY, JAMES W. , 克雷 蘇珍 , COLEY, SUZANNE M.
IPC分类号： C08F220/12 , C08F220/32 , C08F220/40 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/027 , H01L21/312 , G03F1/22 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： 一種共聚物，其包括衍生自下列者之重複單元：經內酯取代之單體；具有低於或等於12的pKa之鹼溶性單體；光酸產生單體；以及具有下式之酸不穩定單體： 其中，R1、R2、R3、及Ar係於本文中定義。該共聚物可用作光阻組成物之成分，且該光阻組成物可塗覆於具有欲圖案化之一或多層的基板，或使用於形成電子裝置之方法中。
简体摘要： 一种共聚物，其包括衍生自下列者之重复单元：经内酯取代之单体；具有低于或等于12的pKa之碱溶性单体；光酸产生单体；以及具有下式之酸不稳定单体： 其中，R1、R2、R3、及Ar系于本文中定义。该共聚物可用作光阻组成物之成分，且该光阻组成物可涂覆于具有欲图案化之一或多层的基板，或使用于形成电子设备之方法中。
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公开(公告)号：TW202018416A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108139215
申请日：2019-10-30
发明人： 劉盛 , LIU, SHENG , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F. , 山田晉太郎 , YAMADA, SHINTARO , 柯 佑昇 , KE, IOU-SHENG , 張可人 , ZHANG, KEREN , 格林 丹尼爾 , GREENE, DANIEL , 拉博梅 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 崔莉 , CUI, LI , 科萊 蘇珊M , COLEY, SUZANNE M.
IPC分类号： G03F7/025 , G03F7/11 , G03F7/16 , H01L21/027
摘要： 具有三個或更多個被具有某些取代基中的一種或多種的芳香族部分取代的炔基部分的化合物可用於形成在半導體製造製程中有用的底層。
简体摘要： 具有三个或更多个被具有某些取代基中的一种或多种的芳香族部分取代的炔基部分的化合物可用于形成在半导体制造制程中有用的底层。
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公开(公告)号：TWI663176B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW106129213
申请日：2017-08-28
发明人： 崔 莉 , CUI, LI , 卡特勒 夏洛特A , CUTLER, CHARLOTTE A. , 科萊 蘇珊M , COLEY, SUZANNE M. , 翁耶義 歐文弟 , ONGAYI, OWENDI , 沙利文 克里斯多夫P , SULLIVAN, CHRISTOPHER P. , 拉博梅 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 山田 信太郎 , YAMADA, SHINTARO , 李 明琦 , LI, MINGQI , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
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