公开(公告)号：US20160291461A1

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：US15172639

申请日：2016-06-03

Applicant: FUJIFILM Corporation

Inventor： Hayato YOSHIDA ,  Hiroo TAKIZAWA ,  Keizo KIMURA ,  Shoichi SAITOH ,  Eriko MITANI

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/32 ,  C08F297/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y40/00 ,  C08F297/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/322 ,  H01L21/0271

Abstract: There are provided a pattern forming method in which, in self-organization lithography using a graphoepitaxy method, high miniaturization of patterns can be achieved with high quality and high efficiency by a pattern forming method including (i) a step of forming a block copolymer layer containing a specific first block copolymer or a specific second block copolymer on a specific substrate, (ii) a step of phase-separating the block copolymer layer, and (iii) a step of selectively removing at least one phase of a plurality of phases of the block copolymer layer, an electronic device manufacturing method using the pattern forming method and the electronic device, and a block copolymer used in the pattern forming method and the production method thereof.

Abstract translation: 提供了一种图案形成方法，其中在使用划线方法的自组织光刻中，通过图案形成方法可以以高质量和高效率实现图案的高度小型化，其包括（i）形成嵌段共聚物层 在特定基材上含有特定的第一嵌段共聚物或特定的第二嵌段共聚物，（ii）相分离嵌段共聚物层的步骤，和（iii）选择性地除去多相的至少一相的步骤 嵌段共聚物层，使用图案形成方法的电子器件制造方法和电子器件，以及用于图案形成方法及其制造方法的嵌段共聚物。