Nonvolatile semiconductor memory device
    2.
    发明授权
    Nonvolatile semiconductor memory device 有权
    非易失性半导体存储器件

    公开(公告)号:US09053783B2

    公开(公告)日:2015-06-09

    申请号:US13422417

    申请日:2012-03-16

    申请人: Satoshi Konagai

    发明人: Satoshi Konagai

    IPC分类号: H01L45/00 G11C13/00 H01L27/24

    摘要: According to one embodiment, in a nonvolatile semiconductor memory device, a first line is disposed on a semiconductor substrate. A first memory cell is disposed on a side opposite to the semiconductor substrate with respect to the first line. A second line intersects with the first line via the first memory cell. A second memory cell is disposed on a side opposite to the semiconductor substrate with respect to the second line. A third line intersects with the second line via the second memory cell. The first memory cell has a first resistance change layer and a first rectification layer. The second memory cell has a second resistance change layer and a second rectification layer. A composition of the first resistance change layer is different from a composition of the second resistance change layer.

    摘要翻译: 根据一个实施例,在非易失性半导体存储器件中,第一线设置在半导体衬底上。 第一存储单元相对于第一线设置在与半导体衬底相对的一侧上。 第二行通过第一个存储单元与第一行相交。 第二存储单元相对于第二线设置在与半导体衬底相对的一侧上。 第三行通过第二存储单元与第二行相交。 第一存储单元具有第一电阻变化层和第一整流层。 第二存储单元具有第二电阻变化层和第二整流层。 第一电阻变化层的组成与第二电阻变化层的组成不同。