公开(公告)号：US20100060883A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：US12584542

申请日：2009-09-08

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01M11/02

CPC分类号： G02B7/32 ,  G02B21/245

摘要： An apparatus and a method for determining the focus of an optical system on a substrate are disclosed. A light source emits an auxiliary light beam into an auxiliary beam path, wherein the auxiliary light beam, after splitting, is offset in relation to an optical axis of a measuring objective. At least one optical switch is provided in the auxiliary beam path for switching the path of the auxiliary beam path from one side offset from the optical axis to the other side offset from the optical axis of the measuring objective.

摘要翻译： 公开了一种用于确定光学系统在衬底上的焦点的装置和方法。 光源将辅助光束发射到辅助光束路径中，其中辅助光束在分割之后相对于测量对象的光轴偏移。 在辅助光束路径中提供至少一个光学开关，用于将辅助光束路径的路径从偏离光轴的一侧偏移到偏离测量物镜的光轴的另一侧。

公开(公告)号：US07675633B2

公开(公告)日：2010-03-09

申请号：US12195568

申请日：2008-08-21

申请人： Karl-Heinrich Schmidt

发明人： Karl-Heinrich Schmidt

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B21/04

摘要： A method for measuring structures (3) on a substrate (2) with a coordinate measuring machine (1) is disclosed. A predefined measuring method is used for measuring at least one structure (3) on the substrate (2), wherein the measuring includes the position and/or the width of the structure (3). The predefined measuring method consists of a plurality of processes linked with the coordinate system (1a) of the coordinate measuring machine (2). The measuring method for a substrate is defined by a first orientation with respect to the coordinate system of the coordinate measuring machine (1). The predefined measuring method is applied to a second orientation of the substrate (2).

摘要翻译： 公开了一种用坐标测量机（1）测量衬底（2）上的结构（3）的方法。 预定义的测量方法用于测量衬底（2）上的至少一个结构（3），其中测量包括结构（3）的位置和/或宽度。 预定义的测量方法包括与坐标测量机（2）的坐标系（1a）相联系的多个过程。 基板的测量方法由相对于坐标测量机（1）的坐标系的第一取向限定。 将预定义的测量方法应用于衬底（2）的第二取向。

公开(公告)号：US20090237653A1

公开(公告)日：2009-09-24

申请号：US11992692

申请日：2006-09-29

申请人： Markus Schnitzlein ,  Thomas Iffland

发明人： Markus Schnitzlein ,  Thomas Iffland

IPC分类号： G01N21/88

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G01N21/9501

摘要： A device for recording a number of images of disk-shaped objects (6), which is provided with at least two lighting device (8), which are designed so that the light exiting the lighting devices (8) is spectrally variable. A single recording device (12) is arranged in relation to the disk-shaped object so that the recording device (12) simultaneously records a number of spectrally variable images of the disk-shaped object (6).

摘要翻译： 一种用于记录设置有至少两个照明装置（8）的盘形物体（6）的多个图像的装置，其被设计成使得离开照明装置（8）的光是光谱可变的。 相对于盘状物体设置单个记录装置（12），使得记录装置（12）同时记录盘状物体（6）的多个光谱可变图像。

公开(公告)号：US20090161097A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12316601

申请日：2008-12-15

申请人： Ralf Friedrich ,  Daniel Skiera

发明人： Ralf Friedrich ,  Daniel Skiera

IPC分类号： G01N21/88

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/9503

摘要： A method for optical inspection, detection and visualization of defects (9) on wafers (2) is disclosed, wherein at least one camera (5) acquires images of at least one portion (11) of the wafer (2) relative to a reference point (12) of the wafer (2), and the Cartesian coordinates of the image data associated with the at least one portion (11) of the wafer (2) are transformed into polar coordinates.

摘要翻译： 公开了一种用于光学检查，检测和可视化晶片（2）上的缺陷（9）的方法，其中至少一个照相机（5）相对于参考获得晶片（2）的至少一部分（11）的图像 （2）的点（12），并且与晶片（2）的至少一个部分（11）相关联的图像数据的笛卡尔坐标被转换为极坐标。

公开(公告)号：US20090130784A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US12231465

申请日：2008-09-03

申请人： Detlef Michelsson ,  Guido Dietzler

发明人： Detlef Michelsson ,  Guido Dietzler

IPC分类号： H01L21/02 ,  G01B11/00 ,  G01B11/14

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G01N21/9503 ,  G06K9/3216 ,  G06K2009/3225 ,  G06T7/0004 ,  G06T7/12 ,  G06T2207/30148 ,  G06T2207/30204

摘要： A method for determining the position of an edge bead removal line of a disk-like object having an edge area and an alignment mark on the edge area is disclosed, wherein the edge area including the edge bead removal line is imaged on a line-by-line basis, an intensity profile I of the imaged edge area including the edge bead removal line is obtained with a camera on a line-by-line basis, and the edge area and the alignment mark are detected, wherein the local intensity maxima I′max of the intensity profile I are plotted as points in a diagram, segment sets are formed in the diagram, the segment sets are fitted in ellipses, and a quality criterion qges is determined for each ellipse.

摘要翻译： 公开了一种用于确定在边缘区域上具有边缘区域和对准标记的圆盘状物体的边缘珠粒移除线的位置的方法，其中包括边缘珠粒移除线的边缘区域被逐行成像 利用相机逐行地获得包括边缘珠去除线的成像边缘区域的强度分布I，并且检测边缘区域和对准标记，其中局部强度最大值I 强度分布I的最大值被绘制为图中的点，在图中形成段集合，将段集合以椭圆拟合，并且为每个椭圆确定质量标准qges。

公开(公告)号：US20090097041A1

公开(公告)日：2009-04-16

申请号：US12286026

申请日：2008-09-26

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/03

CPC分类号： G01B11/005 ,  G03F1/84 ,  G03F9/7007 ,  G06T7/12 ,  G06T7/73 ,  G06T7/74 ,  G06T2207/30148

摘要： A method for determining the centrality of masks is disclosed. The mask is positioned in a coordinate measuring device on a measurement table displaceable in a direction perpendicular to the optical axis of an imaging measurement system in an interferometrically measurable way. The position of a mask coordinate system with respect to the measuring device coordinate system is determined based on at lest two structures on the mask. The relative distance from one of the at least first and second outer edges to the at least two structures is determined. The coordinate measuring machine determines the actual coordinates of the at least two structures with respect to the respective outer edges, which must not exceed a predetermined deviation from a desired value.

摘要翻译： 公开了一种用于确定掩模的中心性的方法。 掩模位于测量台上的坐标测量装置中，该测量台可以以可测量的方式在垂直于成像测量系统的光轴的方向上移动。 基于掩模上的至少两个结构确定掩模坐标系相对于测量装置坐标系的位置。 确定至少第一和第二外边缘中的至少两个结构之间的相对距离。 坐标测量机确定至少两个结构相对于相应的外边缘的实际坐标，该外边缘不得超过与期望值的预定偏差。

公开(公告)号：US20090051936A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US12195568

申请日：2008-08-21

申请人： Karl-Heinrich Schmidt

发明人： Karl-Heinrich Schmidt

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B21/04

摘要： A method for measuring structures (3) on a substrate (2) with a coordinate measuring machine (1) is disclosed. A predefined measuring method is used for measuring at least one structure (3) on the substrate (2), wherein the measuring includes the position and/or the width of the structure (3). The predefined measuring method consists of a plurality of processes linked with the coordinate system (1a) of the coordinate measuring machine (2). The measuring method for a substrate is defined by a first orientation with respect to the coordinate system of the coordinate measuring machine (1). The predefined measuring method is applied to a second orientation of the substrate (2).

摘要翻译： 公开了一种用坐标测量机（1）测量衬底（2）上的结构（3）的方法。 预定义的测量方法用于测量衬底（2）上的至少一个结构（3），其中测量包括结构（3）的位置和/或宽度。 预定义的测量方法包括与坐标测量机（2）的坐标系（1a）相联系的多个过程。 基板的测量方法由相对于坐标测量机（1）的坐标系的第一取向限定。 将预定义的测量方法应用于衬底（2）的第二取向。

公开(公告)号：US20090051932A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US12193095

申请日：2008-08-18

申请人： Michael Heiden ,  Klaus Rinn

发明人： Michael Heiden ,  Klaus Rinn

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B11/03

摘要： A method for determining the ideal focus position on different substrates is disclosed. A focus criterion is determined with which the best reproducibility may be achieved. An offset permits the user to set the optimal operating point of the coordinate measuring machine for a reproducible measurement of dimensions of structures on a substrate.

摘要翻译： 公开了一种用于确定不同基底上的理想聚焦位置的方法。 确定可以实现最佳重现性的焦点标准。 偏移允许用户设置坐标测量机的最佳操作点，以便可重复地测量衬底上的结构尺寸。

公开(公告)号：US20090040530A1

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：US12176049

申请日：2008-07-18

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/03 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01B9/02027 ,  G01B9/02021 ,  G01B9/02083 ,  G01B11/005

摘要： A method and a coordinate measuring machine (1) are provided, wherein the non-linearities of an interferometer (24) can be corrected. A measuring stage (20) traversable in a plane (25a) is provided for measurement. The substrate (2) is placed in a measuring stage (20); wherein the position of the measuring stage (20) along each of the motion axes is determined by at least one interferometer (24) in each case. A computer (16) is provided for compensating the non-linearity inherent in each of the interferometers (24), wherein the position of the measuring stage (20) to be determined by the interferometers (24) is arranged along a trajectory (52, 60, 67) of the measuring stage (20), which is composed at least partially of components of the axes.

摘要翻译： 提供一种方法和坐标测量机（1），其中可以校正干涉仪（24）的非线性。 提供在平面（25a）中可移动的测量台（20）用于测量。 将基板（2）放置在测量台（20）中; 其中每个运动轴线上的测量台（20）的位置由至少一个干涉仪（24）确定。 提供了一种用于补偿每个干涉仪（24）中固有的非线性的计算机（16），其中要由干涉仪（24）确定的测量台（20）的位置沿轨迹（52， 所述测量台（20）的至少部分由所述轴的部件组成。

公开(公告)号：US07489394B2

公开(公告)日：2009-02-10

申请号：US11391066

申请日：2006-03-28

申请人： Joachim Wienecke ,  Thomas Krieg

发明人： Joachim Wienecke ,  Thomas Krieg

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/9503 ,  G01N2021/8427

摘要： An apparatus for inspecting a disk-like object comprising at least one first module for inspecting a surface of the disk-like object and at least one second module insertable in the apparatus. The at least one second module is arranged to inspect a different element of the disk-like object than the surface of the disk-like object.

摘要翻译： 一种用于检查盘状物体的装置，包括至少一个用于检查盘状物体的表面的第一模块和可插入到装置中的至少一个第二模块。 至少一个第二模块布置成检查与盘状物体的表面相比盘状物体的不同元件。