Chromium electroplating and bath therefor
    11.
    发明授权
    Chromium electroplating and bath therefor 失效
    铬电镀和浴槽

    公开(公告)号:US4648947A

    公开(公告)日:1987-03-10

    申请号:US729216

    申请日:1985-05-01

    IPC分类号: C25D3/04

    CPC分类号: C25D3/04

    摘要: To a conventional chromium electroplating bath containing 450 g/l chromic acid CrO.sub.3 and 4.5 g/l sulphuric acid H.sub.2 SO.sub.4 are added 10 g/l of potassium perchlorate or potassium bromate or potassium iodate or mixtures thereof. Higher current densities may be used in electrodepositing chromium without impairing the quality.

    摘要翻译: 向包含450g / l铬酸CrO 3和4.5g / l硫酸H 2 SO 4的常规铬电镀浴中加入10g / l高氯酸钾或溴酸钾或碘酸钾或其混合物。 较高的电流密度可用于电沉积铬,而不损害质量。

    Lens arrangements
    13.
    发明授权
    Lens arrangements 失效
    镜头布置

    公开(公告)号:US6097541A

    公开(公告)日:2000-08-01

    申请号:US355148

    申请日:1999-07-22

    IPC分类号: G02B3/00 G02B27/22 G02B27/10

    CPC分类号: G02B3/0068 G02B27/2214

    摘要: There is disclosed a lens arrangement comprising: an input negative macro-lens array negative macro-lens aray; an output negative macro-lens aray disposed with its lenses arranged correspondingly to those of the input array, and between said input and output arrays a double convex microlens array.

    摘要翻译: PCT No.PCT / GB98 / 00223 Sec。 371日期:1999年7月22日 102(e)日期1999年7月22日PCT提交1998年1月26日PCT公布。 公开号WO98 / 34133 日期1998年8月6日公开了一种透镜装置,包括:输入负宏观透镜阵列负宏观透镜; 输出负宏观透镜布置,其透镜相对于输入阵列的透镜布置,并且在所述输入和输出阵列之间布置有双凸微透镜阵列。