公开(公告)号：US08520307B2

公开(公告)日：2013-08-27

申请号：US12973234

申请日：2010-12-20

申请人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

发明人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

摘要： The disclosure relates to an optical integrator configured to produce a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. The disclosure also relates to a method of manufacturing an array of elongated microlenses for use in such an illumination system. Arrays of elongated microlenses are often contained in optical integrators or scattering plates of such illumination systems.

摘要翻译： 本发明涉及一种被配置为在微光刻投影曝光装置的照明系统中产生多个次级光源的光学积分器。 本公开还涉及制造用于这种照明系统的细长微透镜阵列的方法。 细长微透镜的数组经常被包含在这种照明系统的光学积分器或散射板中。

公开(公告)号：US20090021839A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12186365

申请日：2008-08-05

申请人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

发明人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

摘要： The disclosure relates to an optical integrator configured to produce a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. The disclosure also relates to a method of manufacturing an array of elongated microlenses for use in such an illumination system. Arrays of elongated microlenses are often contained in optical integrators or scattering plates of such illumination systems.

摘要翻译： 本发明涉及一种被配置为在微光刻投影曝光装置的照明系统中产生多个次级光源的光学积分器。 本公开还涉及制造用于这种照明系统的细长微透镜阵列的方法。 细长微透镜的数组经常被包含在这种照明系统的光学积分器或散射板中。

公开(公告)号：US08395756B2

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：US12190308

申请日：2008-08-12

申请人： Johannes Wangler ,  Heiko Siekmann ,  Kenneth Weible ,  Ralf Scharnweber ,  Manfred Maul ,  Markus Deguenther ,  Michael Layh ,  Axel Scholz ,  Uwe Spengler ,  Reinhard Voelkel

发明人： Johannes Wangler ,  Heiko Siekmann ,  Kenneth Weible ,  Ralf Scharnweber ,  Manfred Maul ,  Markus Deguenther ,  Michael Layh ,  Axel Scholz ,  Uwe Spengler ,  Reinhard Voelkel

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

摘要： Illumination systems for microlithographic projection exposure apparatus, as well as related systems, components and methods are disclosed. In some embodiments, an illumination system includes one or more scattering structures and an optical integrator that produces a plurality of secondary light sources.

公开(公告)号：US07880969B2

公开(公告)日：2011-02-01

申请号：US12186365

申请日：2008-08-05

申请人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

发明人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

摘要： The disclosure relates to an optical integrator configured to produce a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. The disclosure also relates to a method of manufacturing an array of elongated microlenses for use in such an illumination system. Arrays of elongated microlenses are often contained in optical integrators or scattering plates of such illumination systems.

摘要翻译： 本发明涉及一种被配置为在微光刻投影曝光装置的照明系统中产生多个次级光源的光学积分器。 本公开还涉及制造用于这种照明系统的细长微透镜阵列的方法。 细长微透镜的数组经常被包含在这种照明系统的光学积分器或散射板中。

公开(公告)号：US07875418B2

公开(公告)日：2011-01-25

申请号：US12142138

申请日：2008-06-19

申请人： Ralf Scharnweber

发明人： Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70991

摘要： In a method for multiply exposing at least one substrate coated with a photosensitive layer, a first exposure is carried out in accordance with a first set of exposure parameters on a first projection system, and a second exposure is carried out in accordance with a second set of exposure parameters on a second projection system spatially separated from the first projection system. The projection systems are integrated in a common projection exposure installation. The first exposure can be carried out, for example, with an amplitude mask, the second exposure with a phase mask. The use of a number of projection systems enables multiple exposure that is performed in parallel and is therefore timesaving.

摘要翻译： 在用感光层涂覆的至少一个基底进行多次曝光的方法中，根据第一投影系统上的第一组曝光参数进行第一曝光，并且根据第二组执行第二曝光 在与第一投影系统空间分离的第二投影系统上的曝光参数。 投影系统集成在通用投影曝光装置中。 第一曝光可以例如用幅度掩模进行，第二次曝光是用相位掩模进行的。 使用多个投影系统可以实现并行执行的多次曝光，因此节省时间。

公开(公告)号：US07561253B2

公开(公告)日：2009-07-14

申请号：US11080500

申请日：2005-03-16

申请人： Ralf Scharnweber

发明人： Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70991

摘要： In a method for multiply exposing at least one substrate coated with a photosensitive layer, a first exposure is carried out in accordance with a first set of exposure parameters on a first projection system (17), and a second exposure is carried out in accordance with a second set of exposure parameters on a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17). The projection systems are integrated in a common projection exposure installation (1). The first exposure can be carried out, for example, with an amplitude mask (6), the second exposure with a phase mask (9). The use of a number of projection systems enables multiple exposure that is performed in parallel and is therefore timesaving.

摘要翻译： 在用感光层涂覆的至少一个基底进行多次曝光的方法中，根据第一投影系统（17）上的第一组曝光参数进行第一曝光，并且根据 在与第一投影系统（17）空间分离的第二投影系统（18）上的第二组曝光参数。 投影系统集成在通用投影曝光装置（1）中。 可以例如利用幅度掩模（6）进行第一曝光，用相位掩模（9）进行第二次曝光。 使用多个投影系统可以实现并行执行的多次曝光，因此节省时间。