公开(公告)号：US09649742B2

公开(公告)日：2017-05-16

申请号：US13747139

申请日：2013-01-22

申请人： NexPlanar Corporation

发明人： Paul Andre Lefevre ,  William C. Allison ,  Alexander William Simpson ,  Diane Scott ,  Ping Huang ,  Leslie M. Charns ,  James Richard Rinehart ,  Robert Kerprich

IPC分类号： B24B37/22 ,  B24B37/26 ,  B24B37/20

CPC分类号： B24B37/26 ,  B24B37/205 ,  B24B37/22

摘要： Polishing pads having a polishing surface with continuous protrusions are described. Methods of fabricating polishing pads having a polishing surface with continuous protrusions are also described.

公开(公告)号：US09555518B2

公开(公告)日：2017-01-31

申请号：US14183894

申请日：2014-02-19

申请人： NexPlanar Corporation

发明人： Ping Huang ,  Diane Scott ,  James P. LaCasse ,  William C. Allison

IPC分类号： B24B37/24 ,  B24B37/26

CPC分类号： B24B37/24 ,  B24B37/26

摘要： Polishing pads with multi-modal distributions of pore diameters are described. Methods of fabricating polishing pads with multi-modal distributions of pore diameters are also described.

摘要翻译： 描述了具有多孔分布孔径的抛光垫。 还描述了制造具有多孔分布的孔径的抛光垫的方法。

公开(公告)号：US20140206268A1

公开(公告)日：2014-07-24

申请号：US13747139

申请日：2013-01-22

申请人： NexPlanar Corporation

发明人： Paul Andre Lefevre ,  William C. Allison ,  Alexander William Simpson ,  Diane Scott ,  Ping Huang ,  Leslie M. Charns ,  James Rinehart ,  Robert Kerprich

IPC分类号： B24B37/26 ,  B24B37/20

CPC分类号： B24B37/26 ,  B24B37/205 ,  B24B37/22

摘要： Polishing pads having a polishing surface with continuous protrusions are described. Methods of fabricating polishing pads having a polishing surface with continuous protrusions are also described.

摘要翻译： 描述具有连续突起的抛光表面的抛光垫。 还描述了制造具有连续突起的抛光表面的抛光垫的方法。