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    Projection objective and projection exposure apparatus including the same
    21.
    发明授权
    Projection objective and projection exposure apparatus including the same 有权
    投影物镜与投影曝光装置相同

    公开(公告)号：US07965453B2

    公开(公告)日：2011-06-21

    申请号：US12651829

    申请日：2010-01-04

    申请人： Wilhelm Ulrich ,  Aurelian Dodoc ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Juergen Rostalski

    发明人： Wilhelm Ulrich ,  Aurelian Dodoc ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Juergen Rostalski

    IPC分类号： G02B13/14 ,  G02B17/08

    CPC分类号： G02B17/0812 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70225

    摘要： A reduction projection objective for projection lithography has a plurality of optical elements configured to image an effective object field arranged in an object surface of the projection objective into an effective image field arranged in an image surface of the projection objective at a reducing magnification ratio |β|

    摘要翻译： 用于投影光刻的缩小投影物镜具有多个光学元件，其被配置为将布置在投影物镜的物体表面中的有效物场成像为以缩小倍率|＆bgr布置在投影物镜的图像表面中的有效图像场 ; | <1。 光学元件形成干燥物镜，其适用于具有折射率n'<1.01的气体介质的像差，填充投影物镜的出射表面和图像表面之间的有限厚度的图像空间。 光学元件包括具有最大透镜直径Dmax的最大透镜，并且被配置为在具有最大图像场高度Y'的有效图像场中提供图像侧数值孔径NA <1。 COMP = Dmax /（Y'·（NA / n'）2）条件COMP <15.8成立。 优选实施例具有相对较小的透镜总数，这允许以相对低的材料消耗制造尺寸相对较小的投影物镜，产生用于干式光刻的高性能，重量轻，紧凑的缩小投影物镜。

    Projection objective and projection exposure apparatus including the same
    22.
    发明授权
    Projection objective and projection exposure apparatus including the same 有权
    投影物镜与投影曝光装置相同

    公开(公告)号：US07738188B2

    公开(公告)日：2010-06-15

    申请号：US11727013

    申请日：2007-03-23

    申请人： Wilhelm Ulrich ,  Aurelian Dodoc ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Juergen Rostalski

    发明人： Wilhelm Ulrich ,  Aurelian Dodoc ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Juergen Rostalski

    IPC分类号： G02B13/14 ,  G02B17/08

    CPC分类号： G02B17/0812 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70225

    摘要： A reduction projection objective for projection lithography has a plurality of optical elements configured to image an effective object field arranged in an object surface of the projection objective into an effective image field arranged in an image surface of the projection objective at a reducing magnification ratio |β|

    摘要翻译： 用于投影光刻的缩小投影物镜具有多个光学元件，其被配置为将布置在投影物镜的物体表面中的有效物场成像为以缩小倍率|＆bgr布置在投影物镜的图像表面中的有效图像场 ; | <1。 光学元件形成干燥物镜，其适用于具有折射率n'<1.01的气体介质的像差，填充投影物镜的出射表面和图像表面之间的有限厚度的图像空间。 光学元件包括具有最大透镜直径Dmax的最大透镜，并且被配置为在具有最大图像场高度Y'的有效图像场中提供图像侧数值孔径NA <1。 COMP = Dmax /（Y'·（NA / n'）2）条件COMP <15.8成立。

    Projection objective and projection exposure apparatus including the same
    24.
    发明申请
    Projection objective and projection exposure apparatus including the same 有权
    投影物镜与投影曝光装置相同

    公开(公告)号：US20080037112A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11727013

    申请日：2007-03-23

    申请人： Wilhelm Ulrich ,  Aurelian Dodoc ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Juergen Rostalski

    发明人： Wilhelm Ulrich ,  Aurelian Dodoc ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Juergen Rostalski

    IPC分类号： G02B27/18 ,  G02B17/08

    CPC分类号： G02B17/0812 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70225

    摘要： A reduction projection objective for projection lithography has a plurality of optical elements configured to image an effective object field arranged in an object surface of the projection objective into an effective image field arranged in an image surface of the projection objective at a reducing magnification ratio |β|

    摘要翻译： 用于投影光刻的减少投影物镜具有多个光学元件，其被配置为将布置在投影物镜的物体表面中的有效物体场以降低放大倍率|β来布置在投影物镜的图像表面中的有效图像场中 | <1。 光学元件形成干燥物镜，其适用于具有折射率n'<1.01的气体介质的像差，填充投影物镜的出射表面和图像表面之间的有限厚度的图像空间。 光学元件包括具有最大透镜直径D max max的最大透镜，并且被配置为在具有最大图像场高度Y'的有效图像场中提供图像侧数值孔径NA <1。 对于COMP = D最大 /（Y'。（NA / n'） 2），条件COMP <15.8成立。 优选实施例具有相对较小的透镜总数，这允许以相对低的材料消耗制造尺寸相对较小的投影物镜，产生用于干式光刻的高性能，重量轻，紧凑的缩小投影物镜。

    Projection objective adapted for use with different immersion fluids or liquids, method of conversion of such and production method
    26.
    发明授权
    Projection objective adapted for use with different immersion fluids or liquids, method of conversion of such and production method 失效
    适用于不同浸入液体或液体的投影物镜，转换方法及生产方法

    公开(公告)号：US07589903B2

    公开(公告)日：2009-09-15

    申请号：US11420103

    申请日：2006-05-24

    申请人： Susanne Beder ,  Wilhelm Ulrich ,  Heiko Feldmann ,  Wolfgang Singer ,  Toralf Gruner

    发明人： Susanne Beder ,  Wilhelm Ulrich ,  Heiko Feldmann ,  Wolfgang Singer ,  Toralf Gruner

    IPC分类号： G02B3/00 ,  G02B3/12

    CPC分类号： G02B13/143 ,  G03F7/70341

    摘要： The invention relates to a projection objective (6), in particular for applications in microlithography, serving to project an image of an object (3) arranged in an object plane (4) onto a substrate (18) arranged in an image plane (7). The projection objective (6) has an object-side-oriented part (10) which is arranged adjacent to the object plane (4) and includes a plurality of optical elements, and it also has an image-side-oriented part (11) of the objective which is arranged adjacent to the image plane (7) and includes a free space (16) serving to receive a fluid (13) and further includes at least a part of an optical end-position element (14) serving to delimit the free space (16) towards the object side. The projection objective (6) is operable in different modes of operation in which the free space (16) is filled with fluids (13) that differ in their respective indices of refraction.

    摘要翻译： 本发明涉及一种投影物镜（6），特别是用于微光刻中的用于将布置在物平面（4）中的物体（3）的图像投影到布置在图像平面（7）中的基底（18）上的投影物镜 ）。 投影物镜（6）具有与物平面（4）相邻配置并具有多个光学元件的物体侧取向部（10），还具有图像侧取向部（11） 所述物镜布置成邻近所述图像平面（7）并且包括用于接收流体（13）的自由空间（16），并且还包括用于界定光学终点位置元件（14）的至少一部分 朝向物体侧的自由空间（16）。 投影物镜（6）可在不同的操作模式中操作，其中自由空间（16）填充有各自折射率不同的流体（13）。

    Hologram and method of manufacturing an optical element using a hologram
    27.
    发明授权
    Hologram and method of manufacturing an optical element using a hologram 有权
    全息图和使用全息图制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US07848031B2

    公开(公告)日：2010-12-07

    申请号：US11795598

    申请日：2006-01-20

    申请人： Jochen Hetzler ,  Susanne Beder ,  Heiko Feldmann

    发明人： Jochen Hetzler ,  Susanne Beder ,  Heiko Feldmann

    IPC分类号： G02B3/02

    CPC分类号： G01B9/021 ,  G01B9/02039 ,  G01B11/2441

    摘要： A method of manufacturing an optical element (5) comprises testing an optical surface (3) of the optical element, using an interferometer 1a directing measuring light (23a) onto the optical surface wherein the measuring light traverses two successive holograms (44, 48) disposed in the beam path of the measuring light upstream of the optical surface.

    摘要翻译： 一种制造光学元件（5）的方法包括使用将测量光（23a）引导到光学表面上的干涉仪1a来测试光学元件的光学表面（3），其中测量光穿过两个连续的全息图（44,48） 设置在光学表面上游的测量光束的光束路径中。

    PROJECTION OBJECTIVE ADAPTED FOR USE WITH DIFFERENT IMMERSION FLUIDS OR LIQUIDS, METHOD OF CONVERSION OF SUCH AND PRODUCTION METHOD
    28.
    发明申请
    PROJECTION OBJECTIVE ADAPTED FOR USE WITH DIFFERENT IMMERSION FLUIDS OR LIQUIDS, METHOD OF CONVERSION OF SUCH AND PRODUCTION METHOD 失效
    投影目标适用于不同浸入液或液体的方法，转换方法和生产方法

    公开(公告)号：US20080273248A1

    公开(公告)日：2008-11-06

    申请号：US11420103

    申请日：2006-05-24

    申请人： Susanne Beder ,  Wilhelm Ulrich ,  Heiko Feldmann ,  Wolfgang Singer ,  Toralf Gruner

    发明人： Susanne Beder ,  Wilhelm Ulrich ,  Heiko Feldmann ,  Wolfgang Singer ,  Toralf Gruner

    IPC分类号： G02B3/12

    CPC分类号： G02B13/143 ,  G03F7/70341

    摘要： The invention relates to a projection objective (6), in particular for applications in microlithography, serving to project an image of an object (3) arranged in an object plane (4) onto a substrate (18) arranged in an image plane (7). The projection objective (6) has an object-side-oriented part (10) which is arranged adjacent to the object plane (4) and includes a plurality of optical elements, and it also has an image-side-oriented part (11) of the objective which is arranged adjacent to the image plane (7) and includes a free space (16) serving to receive a fluid (13) and further includes at least a part of an optical end-position element (14) serving to delimit the free space (16) towards the object side. The projection objective (6) is operable in different modes of operation in which the free space (16) is filled with fluids (13) that differ in their respective indices of refraction.

    摘要翻译： 本发明涉及一种投影物镜（6），特别是用于微光刻中的用于将布置在物平面（4）中的物体（3）的图像投影到布置在图像平面（7）中的基底（18）上的投影物镜 ）。 投影物镜（6）具有与物平面（4）相邻配置并具有多个光学元件的物体侧取向部（10），还具有图像侧取向部（11） 所述物镜布置成邻近所述图像平面（7）并且包括用于接收流体（13）的自由空间（16），并且还包括用于界定光学终点位置元件（14）的至少一部分 朝向物体侧的自由空间（16）。 投影物镜（6）可在不同的操作模式中操作，其中自由空间（16）填充有各自折射率不同的流体（13）。