公开(公告)号：US08928855B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US12937498

申请日：2009-04-15

申请人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Dirk Heinrich Ehm

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Dirk Heinrich Ehm

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70975

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system constructed and arranged to project a beam of radiation onto a target portion of a substrate, an internal sensor having a sensing surface, and a mini-reactor movable with respect to the sensor. The mini-reactor includes an inlet for a hydrogen containing gas, a hydrogen radical generator, and an outlet for a hydrogen radical containing gas. The mini-reactor is constructed and arranged to create a local mini-environment comprising hydrogen radicals to treat the sensing surface.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，该投影系统构造和布置成将辐射束投影到基板的目标部分上，具有感测表面的内部传感器和相对于传感器可移动的微型反应堆。 微型反应器包括用于含氢气体的入口，氢根发生器和用于含氢自由基气体的出口。 微型反应器被构造和布置成产生包含氢自由基的局部微环境以处理感测表面。

公开(公告)号：US20130176545A1

公开(公告)日：2013-07-11

申请号：US13760243

申请日：2013-02-06

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Stefan-Wolfgang Schmid ,  Oliver Dier

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Stefan-Wolfgang Schmid ,  Oliver Dier

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/062 ,  H05B6/10

摘要： A projection exposure apparatus for semiconductor lithography includes optical elements, wherein at least one of the optical elements includes a mechanism for contactlessly producing electric currents in the optical element to heat the at least one optical element at least in regions.

摘要翻译： 用于半导体光刻的投影曝光装置包括光学元件，其中至少一个光学元件包括用于在光学元件中非接触地产生电流以至少在区域中加热至少一个光学元件的机构。

公开(公告)号：US08477285B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US12973844

申请日：2010-12-20

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062

摘要： An optical assembly is mounted in a projection exposure apparatus (101) for EUV microlithography and includes at least one vacuum chamber (70, 71, 68a), at least one optical element (6, 7; 65, 66; 63) arranged in the vacuum chamber (70, 71, 68a), the optical element (6, 7; 65, 66; 63) having an optical surface (18) arranged to be impinged upon by a useful beam bundle (3) of the projection exposure apparatus (101), and a cleaning device (72) configured to clean the optical surface (18). The cleaning device (72) is configured to perform particle cleaning of the optical surface (18) at a gas pressure within the vacuum chamber (70,71, 68a) which is higher than a vacuum pressure (po) for performing an exposure operation with the projection exposure apparatus (101). As a result, optical elements having respective optical surfaces arranged to be impinged upon by a useful beam bundle can be cleaned reliably of foreign particles.

摘要翻译： 光学组件安装在用于EUV微光刻的投影曝光设备（101）中，并且包括至少一个真空室（70,71,68a），至少一个光学元件（6,7; 65,66,63） 所述光学元件（6,7; 65,66,63）具有光学表面（18），所述光学表面被布置成被所述投影曝光设备的有用束束（3）撞击 101）和被构造成清洁光学表面（18）的清洁装置（72）。 清洁装置（72）构造成在真空室（70,71,68a）内的气体压力下进行光学表面（18）的粒子清洁，该气体压力高于用于进行曝光操作的真空压力（po） 投影曝光装置（101）。 结果，可以可靠地清洁具有布置成被有用的束束撞击的各个光学表面的光学元件的外来颗粒。

公开(公告)号：US08419862B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US12662840

申请日：2010-05-06

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnold Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Thomas Stein ,  Edwin te Sligte

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnold Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Thomas Stein ,  Edwin te Sligte

IPC分类号： B08B5/00 ,  A47L5/05

CPC分类号： B08B5/02 ,  B08B7/00 ,  G03F7/70925

摘要： The invention is directed to a method for at least partially removing a contamination layer (15) from an optical surface (14a) of an EUV-reflective optical element (14) by bringing a cleaning gas into contact with the contamination layer. In the method, a jet (20) of cleaning gas is directed to the contamination layer (15) for removing material from the contamination layer (15). The contamination layer (15) is monitored for generating a signal indicative of the thickness of the contamination layer (15) and the jet (20) of cleaning gas is controlled by moving the jet (20) of cleaning gas relative to the optical surface (14a) using this signal as a feedback signal. A cleaning arrangement (19 to 24) for carrying out the method is also disclosed. The invention also relates to a method for generating a jet (20) of cleaning gas and to a corresponding cleaning gas generation arrangement.

摘要翻译： 本发明涉及通过使清洁气体与污染层接触来至少部分地从EUV反射型光学元件（14）的光学表面（14a）去除污染物层（15）的方法。 在该方法中，将清洁气体的喷嘴（20）引导到污染层（15），以从污染层（15）去除材料。 监测污染层（15）以产生指示污染层（15）的厚度的信号，并且通过相对于光学表面移动清洁气体的喷嘴（20）来控制清洁气体的喷射（20） 14a）使用该信号作为反馈信号。 还公开了一种用于执行该方法的清洁装置（19至24）。 本发明还涉及一种用于产生清洁气体的喷嘴（20）和相应的清洁气体产生装置的方法。

公开(公告)号：US20080151201A1

公开(公告)日：2008-06-26

申请号：US11643776

申请日：2006-12-22

申请人： Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Dirk Heinrich Ehm

发明人： Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Dirk Heinrich Ehm

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic apparatus that includes an illumination system configured to condition a radiation beam. The illumination system includes a plurality of optical components. The apparatus also includes a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The apparatus further includes a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The projection system includes a plurality of optical components. The apparatus also includes a contamination measurement unit for measuring contamination of a surface of at least one of the optical components. The contamination measurement unit is provided with a radiation sensor constructed and arranged to measure an optical characteristic of radiation received from the surface.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括配置成调节辐射束的照明系统。 照明系统包括多个光学部件。 该装置还包括构造成支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。 该装置还包括被构造成保持基板的基板台，以及配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 投影系统包括多个光学部件。 该装置还包括用于测量至少一个光学部件的表面的污染物的污染测量单元。 污染测量单元设置有辐射传感器，其被构造和布置成测量从表面接收的辐射的光学特性。