公开(公告)号：US5953105A

公开(公告)日：1999-09-14

申请号：US776418

申请日：1997-01-30

申请人： Gerard Van Engelen ,  Frank B. Sperling ,  Henricus W. A. Janssen ,  Adianus G. Bouwer ,  Cornelis D. Van Dijk ,  Johannes M. M. Van Kimmenade ,  Jan Van Eijk ,  Adrianus Van Der Pal

发明人： Gerard Van Engelen ,  Frank B. Sperling ,  Henricus W. A. Janssen ,  Adianus G. Bouwer ,  Cornelis D. Van Dijk ,  Johannes M. M. Van Kimmenade ,  Jan Van Eijk ,  Adrianus Van Der Pal

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F9/70

摘要： A lithographic device comprising a mask table (5), a projection system (3), a substrate table (1) which is displaceable relative to the projection system (3) by means of a drive unit (21), and a measuring system (39) for measuring a position of the substrate table (1) relative to the projection system (3). A stationary part (157) of the drive unit (21) is fastened to a machine frame (85) of the lithographic device, while a stationary part (51, 53, 55) of the measuring system (39) is fastened to a reference frame (89) of the lithographic device which is dynamically isolated from the machine frame (85) by means of dynamic isolators (95). This prevents vibrations caused in the machine frame (85) by reaction forces of the drive unit (21) from being transmitted to the reference frame (89), so that the accuracy of the measuring system (39) is not adversely affected by such vibrations. The mask table (5) is displaceable relative to the projection system (3) by means of a further drive unit (31) having a stationary part (119) fastened to the machine frame (85), and the measuring system comprises a further stationary part (71, 73, 75) for measuring a position of the mask table (5) relative to the projection system (3), said further stationary part (71, 73, 75) being fastened to the reference frame (89).

摘要翻译： PCT No.PCT / IB96 / 00383 Sec。 371日期1997年1月30日 102（e）1997年1月30日PCT PCT 1996年4月29日PCT公布。 出版物WO96 / 38765 日期1996年12月5日一种光刻设备，包括一个掩模台（5），一个投影系统（3），一个通过驱动单元（21）可相对于投影系统（3）移位的衬底台（1） 以及用于测量所述基板台（1）相对于所述投影系统（3）的位置的测量系统（39）。 驱动单元（21）的固定部分（157）被紧固到平版印刷装置的机架（85）上，而测量系统（39）的固定部分（51,53,55）被固定到参考 通过动态隔离器（95）与机架（85）动态隔离的光刻设备的框架（89）。 这防止由驱动单元（21）的反作用力引起的机架（85）的振动传递到参考框架（89），使得测量系统（39）的精度不受这种振动的不利影响 。 掩模台（5）可通过具有固定在机架（85）上的固定部分（119）的另外的驱动单元（31）相对于投影系统（3）移动，并且测量系统包括另外的固定 用于测量掩模台（5）相对于投影系统（3）的位置的部分（71,73,75），所述另外的固定部分（71,73,75）紧固到参考框架（89）。