公开(公告)号：US20060279025A1

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：US11268574

申请日：2005-11-08

申请人： Babak Heidari ,  Anette Lofstrand ,  Erik Bolmsjo ,  Erik Theander ,  Marc Beck

发明人： Babak Heidari ,  Anette Lofstrand ,  Erik Bolmsjo ,  Erik Theander ,  Marc Beck

IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C35/08

CPC分类号： B29C33/3857 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： The invention relates to a two-step process for transferring a pattern from a template (1) to a target surface of a substrate, by creating an intermediate flexible polymer stamp (5) from the template in a primary step, and then using the polymer stamp to make an imprint in a radiation-sensitive moldable layer on the target surface in a secondary step. In the secondary step, the process steps of pressing the polymer stamp and the substrate against each other, UV exposure of the moldable layer through the polymer stamp, and postbaking of the radiated moldable layer, are all performed at a control constant temperature, in order to eliminate damages to the pattern created in the moldable layer caused by thermal expansion effects.

摘要翻译： 本发明涉及通过在初级步骤中从模板中生成中间柔性聚合物印模（5），然后使用聚合物（2），将图案从模板（1）转移到基材的目标表面的两步法 在第二步骤中对目标表面上的辐射敏感的可成型层进行印记。 在第二步骤中，将聚合物印模和基板彼此挤压，通过聚合物印模的可模制层的UV曝光和辐射的可模塑层的后烘烤的工艺步骤全部按照控制恒温进行 以消除由热膨胀效应引起的在可模塑层中产生的图案的损坏。