公开(公告)号：US20070049167A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11213623

申请日：2005-08-26

申请人： Bogdan Swedek ,  David Lischka ,  Jeffrey David ,  Dominic Benvegnu

发明人： Bogdan Swedek ,  David Lischka ,  Jeffrey David ,  Dominic Benvegnu

IPC分类号： B24B49/00 ,  B24D11/00

CPC分类号： B24B37/205 ,  B24D18/00

摘要： A polishing pad, polishing system, method of making a polishing pad and method of using a polishing pad. The polishing pad includes a polishing layer having a polishing surface, a backing layer with an aperture and a first portion that is permeable to liquid, and a sealant that penetrates a second portion of the backing layer adjacent to and surrounding the aperture such that the second portion is substantially impermeable to liquid. The aperture is positioned below a substantially fluid-impermeable element.

摘要翻译： 抛光垫，抛光系统，制造抛光垫的方法和抛光垫的使用方法。 抛光垫包括具有抛光表面的抛光层，具有孔的背衬层和可渗透液体的第一部分，以及密封剂，该密封剂穿透邻近并包围孔的背衬层的第二部分，使得第二 部分对液体基本上是不可渗透的。 孔被定位在基本上不透液体的元件之下。

公开(公告)号：US20050176349A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10988647

申请日：2004-11-15

申请人： Alpay Yilmaz ,  Simon Yavelberg ,  Toshikazu Tomita ,  Hui Chen ,  Noel Manto ,  David Lischka ,  Hung Chen

发明人： Alpay Yilmaz ,  Simon Yavelberg ,  Toshikazu Tomita ,  Hui Chen ,  Noel Manto ,  David Lischka ,  Hung Chen

IPC分类号： B24B37/04 ,  B24B49/00

CPC分类号： B24B37/345

摘要： Embodiments of a load cup for transferring a substrate are provided. The load cup includes a pedestal assembly having a substrate support and a de-chucking nozzle. The de-chucking nozzle is positioned to flow a fluid between the polishing head and the back side of a substrate during transfer of the substrate from the polishing head to the substrate support.

摘要翻译： 提供了用于转移衬底的负载杯的实施例。 负载杯包括具有基板支撑件和去夹紧喷嘴的基座组件。 在将基板从抛光头转移到基板支撑件的过程中，去夹紧喷嘴定位成使流体在基板的抛光头和背面之间流动。