公开(公告)号：US20050172864A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10518154

申请日：2003-04-24

申请人： Eldar Dingsoyr ,  Magne Dastol ,  Cor Oldenziel ,  Bjorn Vassoy

发明人： Eldar Dingsoyr ,  Magne Dastol ,  Cor Oldenziel ,  Bjorn Vassoy

IPC分类号： C04B18/14 ,  C04B7/00

CPC分类号： C04B18/148 ,  Y02W30/94 ,  C04B24/38 ,  C04B40/005 ,  C04B24/383

摘要： The present invention relates to a slurry containing water, amorphous silica particles having a particle size less than 1 μm and silica flour with a particle size between 2-200 μm. In order to stabilize the slurry, the slurry contains a polysaccharide. The invention further relates to a method for the production of a slurry containing water, amorphous silica having a particle size below 1 μm, and silica flour with a particle size between 2-200 μm, where a polysaccharide is added to a slurry of water and amorphous silica, whereafter the silica flour is mixed into the slurry of amorphous silica.

摘要翻译： 本发明涉及一种含有水，粒径小于1um的无定形二氧化硅颗粒和粒度在2-200μm之间的二氧化硅粉末的浆料。 为了稳定浆料，浆料含有多糖。 本发明还涉及一种生产含有水粒度小于1um的无定形二氧化硅和粒度在2-200μm之间的二氧化硅粉末的浆料的方法，其中将多糖加入到水浆中， 无定形二氧化硅，然后将二氧化硅粉混入无定形二氧化硅的浆料中。

公开(公告)号：US06696035B2

公开(公告)日：2004-02-24

申请号：US09898869

申请日：2001-07-03

申请人： Magne Dastol ,  Halvard Tveit ,  Eldar Dingsoyr ,  Per Ronning ,  Svein Harsaker

发明人： Magne Dastol ,  Halvard Tveit ,  Eldar Dingsoyr ,  Per Ronning ,  Svein Harsaker

IPC分类号： C01B3312

CPC分类号： B82Y30/00 ,  C01B33/025 ,  C01B33/181 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/10 ,  C01P2006/11 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/60 ,  C01P2006/80 ,  C01P2006/82

摘要： The present invention relates to a method for producing microsilica having a reflectivity between 65 and 90% in a smelting furnace for production of ferrosilicon or silicon by using a charge comprising an SiO2 source and a solid carbonaceous reduction agent, where microsilica is recovered from the off-gases from the smelting furnace, wherein the solid reduction agent supplied to the furnace contains an amount of volatile matters of less than 1.25 kg per kg produced microsilica and that the temperature in the gas atmosphere in the furnace above the charge is kept above 500° C.

摘要翻译： 本发明涉及通过使用包含SiO 2源和固体碳质还原剂的电荷，在用于生产硅铁或硅的冶炼炉中具有65-90％反射率的微硅粉的制备方法，其中从脱落 - 来自熔炼炉的气体，其中供给炉子的固体还原剂含有少于1.25kg / kg生产的微硅粉的挥发性物质的量，并且在电荷以上的炉子中的气体气氛中的温度保持在500℃以上 C。