公开(公告)号：US20130114059A1

公开(公告)日：2013-05-09

申请号：US13808636

申请日：2011-06-06

申请人： Martin Jacobus Johan Jak ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Wouter Anthon Soer ,  Andrei Mikhailovich Yakunn ,  Maarten Van Kampen ,  Gerard Frans Jozef Schasfoort

发明人： Martin Jacobus Johan Jak ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Wouter Anthon Soer ,  Andrei Mikhailovich Yakunn ,  Maarten Van Kampen ,  Gerard Frans Jozef Schasfoort

IPC分类号： C09D5/08 ,  B32B15/01 ,  G02B5/20 ,  G03F7/20

CPC分类号： C09D5/08 ,  B32B15/01 ,  B32B15/018 ,  G02B5/208 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/10 ,  H05G2/008 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806 ,  Y10T428/12986 ,  Y10T428/31678

摘要： A metal component (262M, 300M) is designed for use in an EUV lithography apparatus, for example as a spectral purity filter (260) or a heating element (300) in a hydrogen radical generator. An exposed surface of the metal is treated (262P, 300P) to inhibit the formation of an oxide of said metal in an air environment prior to operation. This prevents contamination of optical components by subsequent evaporation of the oxide during operation of the component at elevated temperatures.

摘要翻译： 金属部件（262M，300M）被设计用于EUV光刻设备中，例如作为氢自由基发生器中的光谱纯度过滤器（260）或加热元件（300）。 处理金属的暴露表面（262P，300P）以在操作之前在空气环境中抑制所述金属的氧化物的形成。 这防止了在组件在升高的温度下操作期间随后氧化物的蒸发而污染光学部件。

公开(公告)号：US20120006258A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13156960

申请日：2011-06-09

申请人： Gerard Frans Jozef Schasfoort ,  Jeroen Marcel Huijbregtse ,  Roeland Nicolaas Maria Vanneer ,  Arnoldus Jan Storm ,  Edwin Te Sligte ,  Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen ,  Wouter Andries Jonker ,  Timo Huijser

发明人： Gerard Frans Jozef Schasfoort ,  Jeroen Marcel Huijbregtse ,  Roeland Nicolaas Maria Vanneer ,  Arnoldus Jan Storm ,  Edwin Te Sligte ,  Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen ,  Wouter Andries Jonker ,  Timo Huijser

IPC分类号： B05C11/00 ,  B08B7/00

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： A method of reducing contamination generated by a hydrogen radical generator and deposited on an optical element of a lithographic apparatus includes passing molecular hydrogen over a first part of a metal filament of the hydrogen radical generator, the first part including a metal-oxide, when the temperature of the first part of the metal filament is at a reduction temperature less than or equal to an evaporation temperature of the metal-oxide.

摘要翻译： 减少由氢自由基发生剂产生并沉积在光刻设备的光学元件上的污染物的方法包括使分子氢通过氢自由基发生器的金属丝的第一部分，第一部分包括金属氧化物，当第 金属丝的第一部分的温度处于小于或等于金属氧化物的蒸发温度的还原温度。