公开(公告)号：US20070144901A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US10598217

申请日：2005-03-15

申请人： Terje Skotheim ,  Uladzimir Sheleh ,  Grigory Kirpilenko

发明人： Terje Skotheim ,  Uladzimir Sheleh ,  Grigory Kirpilenko

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： C23C14/221 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/325 ,  C23C14/358 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32064 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/3405 ,  H01J2237/3142

摘要： The present invention provides a pulsed plasma arc source capable of applying diamond-like carbon coatings, other hard wear resistant coatings or metal coatings to a substrate. The pulsed plasma arc source is based on the use of a magnetron sputtering system for initiation of the pulsed arc discharge. The pulsed plasma arc source can be scale up to coat large substrates.

摘要翻译： 本发明提供一种脉冲等离子体电弧源，其能够将金刚石状碳涂层，其它硬质耐磨涂层或金属涂层施加到基底上。 脉冲等离子体电弧源基于使用磁控溅射系统来启动脉冲电弧放电。 脉冲等离子体电弧源可以放大以覆盖大的衬底。