公开(公告)号：US4581537A

公开(公告)日：1986-04-08

申请号：US592986

申请日：1984-03-23

申请人： Wallace J. Guillaume ,  John F. Loughran ,  Jan Rogoyski ,  Robert A. Simpson ,  Edward V. Weber

发明人： Wallace J. Guillaume ,  John F. Loughran ,  Jan Rogoyski ,  Robert A. Simpson ,  Edward V. Weber

IPC分类号： H01L21/66 ,  G01B21/20 ,  G03F1/44 ,  G03F1/84 ,  H01J37/30 ,  H01L21/027 ,  H01J37/00

CPC分类号： G03F1/44 ,  G03F1/84 ,  H01J37/3005

摘要： A method of forming inspection patterns for inspecting a workpiece, e.g., for electron beam inspection of optical photomasks. The inspection patterns are formed from the workpiece patterns themselves by applying a first positive windage to the workpiece patterns, inverting the first positive windaged workpiece patterns and applying a second positive windage to the inverted first positive windaged workpiece patterns. The inspection patterns so produced will contain the requisite guard band and the requisite overlap of abutting patterns.

摘要翻译： 形成用于检查工件的检查图案的方法，例如用于光学光掩模的电子束检查。 通过对工件图案施加第一正向风挡，反转第一正卷绕工件图案并将第二正向风边施加到倒置的第一正卷绕工件图案上，从工件图案本身形成检查图案。 所产生的检查图样将包含所需的保护带和邻接图案的必要重叠。